连续真空镀膜装置及镀膜系统制造方法及图纸

本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种连续真空镀膜装置及镀膜系统，连续真空镀膜装置包括真空室，真空室的第一侧壁开设有入口，真空室的相对的第二侧壁开设有出口；真空室内设置有至少两个传送机构；其中至少一个传送机构设置在真空室的第三侧壁上，其中至少另一个传送机构设置在真空室的相对的第四侧壁上；真空室的数量为多个且顺次排布，任意相邻的两个真空室之间设置有插板阀机构。可见，本装置将整个工艺分别为多个步骤，每一步骤在不同的真空室内进行，相邻的真空室有插板阀机构控制相隔离，进而避免了相互影响，保证镀膜效果，且每个真空室内设置有传送机构，进而可实现对工件在相邻真空室内的传送，自动化程度高，生产效率高。

Continuous Vacuum Coating Device and Coating System

The present application relates to the technical field of vacuum coating, in particular to a continuous vacuum coating device and a coating system. The continuous vacuum coating device includes a vacuum chamber, with an entrance on the first side wall of the vacuum chamber and an exit on the opposite second side wall of the vacuum chamber; at least two transmission mechanisms are arranged in the vacuum chamber; at least one transmission mechanism is arranged on the third side of the vacuum chamber. On the wall, at least another conveying mechanism is arranged on the fourth side wall of the vacuum chamber; the number of vacuum chambers is multiple and arranged sequentially, and a plug valve mechanism is arranged between two adjacent vacuum chambers. It can be seen that the whole process is divided into several steps. Each step is carried out in a different vacuum chamber. The adjacent vacuum chamber is separated by a plug valve mechanism, thus avoiding mutual influence and ensuring the coating effect. Each vacuum chamber is equipped with a transmission mechanism, which can realize the transmission of the workpiece in the adjacent vacuum chamber with high automation and high production efficiency.

【技术实现步骤摘要】
连续真空镀膜装置及镀膜系统
本申请涉及真空镀膜
，尤其是涉及一种连续真空镀膜装置及镀膜系统。
技术介绍
目前，现有的真空镀膜工艺均是集中在一个真空室内完成，各步工艺会互相影响，导致镀膜效果差等，且多需人工放置、调整以及从真空室取出工件，生产效率低。
技术实现思路
本申请的目的在于提供一种连续真空镀膜装置及镀膜系统，以解决现有技术中存在的真空镀膜工艺均是集中在一个真空室内完成，各步工艺会互相影响，导致镀膜效果差，且生产效率低的技术问题。本申请提供了一种连续真空镀膜装置，包括：真空室，所述真空室为内部中空的结构，且所述真空室的第一侧壁开设有入口，所真空室的相对的第二侧壁开设有出口；所述真空室内设置有至少两个传送机构；其中至少一个所述传送机构设置在所述真空室的第三侧壁上，其中至少另一个所述传送机构设置在所述真空室的相对的第四侧壁上，传送机构用于将承载有工件的托盘从入口输送至真空室，或用于将置于真空室内承载有工件的托盘从出口输出真空室；所述真空室的数量为多个，多个真空室顺次排布，且任意相邻的两个真空室之间设置有插板阀机构，所述插板阀机构用于控制任意相邻的两个所述真空室相连通或者相隔离。在上述技本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种连续真空镀膜装置，其特征在于，包括：真空室，所述真空室为内部中空的结构，且所述真空室的第一侧壁开设有入口，所真空室的相对的第二侧壁开设有出口；所述真空室内设置有至少两个传送机构；其中至少一个所述传送机构设置在所述真空室的第三侧壁上，其中至少另一个所述传送机构设置在所述真空室的相对的第四侧壁上，所述传送机构用于将承载有工件的托盘从所述入口输送至所述真空室内，或用于将置于所述真空室内承载有工件的托盘从所述出口输出所述真空室；所述真空室的数量为多个，多个真空室顺次排布，且任意相邻的两个真空室之间设置有插板阀机构，所述插板阀机构用于控制任意相邻的两个所述真空室相连通或者相隔离。

【技术特征摘要】
1.一种连续真空镀膜装置，其特征在于，包括：真空室，所述真空室为内部中空的结构，且所述真空室的第一侧壁开设有入口，所真空室的相对的第二侧壁开设有出口；所述真空室内设置有至少两个传送机构；其中至少一个所述传送机构设置在所述真空室的第三侧壁上，其中至少另一个所述传送机构设置在所述真空室的相对的第四侧壁上，所述传送机构用于将承载有工件的托盘从所述入口输送至所述真空室内，或用于将置于所述真空室内承载有工件的托盘从所述出口输出所述真空室；所述真空室的数量为多个，多个真空室顺次排布，且任意相邻的两个真空室之间设置有插板阀机构，所述插板阀机构用于控制任意相邻的两个所述真空室相连通或者相隔离。2.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置，其特征在于，首个所述真空室的入口处设置有可转动的第一门体，尾个所述真空室的出口处设置有可转动的第二门体。3.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置，其特征在于，所述传送机构包括第一驱动装置以及多个传动组件；多个传动组件均设置在所述真空室的侧壁上，且沿着所述真空室的入口朝向所述真空室的出口间隔排布；所述传动组件包括第一磁流体密封装置、第一传动轴以及传动轮；其中，所述第一磁流体密封装置嵌设在所述真空室的侧壁上，所述第一传动轴穿设在所述第一磁流体密封装置上，且所述第一传动轴的一端位于所述真空室外，所述第一传动轴的另一端位于所述真空室内，所述传动轮套设在所述第一传动轴的另一端上；多个所述传送机构的第一传动轴位于所述真空室外的一端通过同步带相连接，且所述第一驱动装置通过所述同步带驱动多个所述传送机构的第一传动轴转动。4.根据权利要求3所述的连续真空镀膜装置，其特征在于，还包括至少两个导向组件，多个所述导向组件均高于所述传送机构；其中至少一个所述导向组件设置在所述第三侧壁的内壁上，其中至少另一个所述导向组件设置在所述第四侧壁的内壁上，所述导向组件用于承载并传动承载有工件的托盘；所述导向组件包括固定块、导向座以及导向轮；其中，所述固定块设置在所述真空室的内侧壁上；所述导向座设置在所述固定块上，且所述导向座设置有沿着竖直方向延伸的输出轴，所述导向轮套设在所述输出轴上。5.根据权利要求1所述的连续真空镀膜装置，其特征在于，还包括旋转机构，所述旋转机构设置在所述真空室上，且所述旋转机构用于驱动所述托盘的公转齿轮旋转；所述旋转机构包括第二驱动装置、第二磁流体密封装置、联轴座以及棘轮；所述联轴座设置在所述真空室的内侧壁上，且所述联轴座内嵌设有联轴器；所...

【专利技术属性】
技术研发人员：王君，汪友林，郭爱云，
申请(专利权)人：沈阳爱科斯科技有限公司，
类型：新型
国别省市：辽宁,21