The invention provides a substrate coating device, which includes: a cavity with a guide rail; a carrier substrate movably arranged on the guide rail for carrying a substrate; a heat absorbing plate, which can be separated on the carrier substrate, has a loading side facing the carrier substrate to load the substrate and absorb the heat of the substrate; and at least a heat dissipation system. The utility model is arranged in the cavity to heat the heat absorbing plate. The invention divides the traditional cooling system into two parts: heat absorption and heat dissipation; at the same time, an elastic supporting column of heat absorption plate is added on the carrier substrate, and the existing substrate fixture is replaced by the heat absorption plate, and the whole surface of the substrate is pressed to solve the shadow problem caused by the current use of large opening mask plate.
【技术实现步骤摘要】
一种基板镀膜设备
本专利技术涉及一种基板镀膜设备。
技术介绍
线式溅射镀膜机广泛运用于触控面板(TP)、LCD、OLED的镀膜制程中,有很多成膜制程都要求低温,比如TP的On-cell技术、OLED阴极用溅镀方式镀膜。Incell是指将触摸面板功能嵌入到液晶像素中的方法。触摸面板和液晶面板的一体化包括“In-cell”方法和“On-cell”方法。而On-cell是指将触摸面板功能嵌入到彩色滤光片基板和偏光板之间的方法。由于在溅镀阴极前,基板上已经镀了有机膜层,所以阴极镀膜一般要求基板温度低于80℃。在溅射镀膜过程中,膜层在沉积过程中会在基板上累积热量从而导致基板温度超标,最终会导致有机膜层受到损害;由于线式镀膜机(In-line)时,是以基板移动而靶材不动的方式进行镀膜,这会导致一般外加基板冷却系统无法安装给降温,只能通过改变溅镀的工艺来降低温度,这样就会影响镀膜效率;同时线式镀膜机是基板移动方式镀膜,这就需要额外设计基板夹具,用以来保证基板与掩膜板的相对位置不变。随着新技术的发展,低温成膜和有掩膜板的线式磁控溅射镀膜机的应用也会越来越广泛。目前使用的线式镀膜机由于是基板在移动镀膜,所以没有外置的基板冷却系统,只能通过优化本身镀膜工艺或者阴极系统来降低基板温度。
技术实现思路
本专利技术的目的在于,本专利技术提供一种基板镀膜设备,可以有效解决了成膜率低、设备成本高和镀膜温度高等问题。为解决上述技术问题,本专利技术提供一种基板镀膜设备,包括:腔体,其设有一导轨;运载基板,可移动的设在所述导轨上,用以运载一基板;吸热板,可分离的设于所述运载基板上,所述吸热板具有 ...
【技术保护点】
1.一种基板镀膜设备,其特征在于,包括腔体,其设有一导轨;运载基板,可移动的设在所述导轨上,用以运载一基板;吸热板,可分离的设于所述运载基板上,所述吸热板具有一朝向所述运载基板的装载侧,用以装载基板并吸取所述基板的热量;至少一散热系统,设于所述腔体中,用以对所述吸热板散热。
【技术特征摘要】
1.一种基板镀膜设备,其特征在于,包括腔体,其设有一导轨;运载基板,可移动的设在所述导轨上,用以运载一基板;吸热板,可分离的设于所述运载基板上,所述吸热板具有一朝向所述运载基板的装载侧,用以装载基板并吸取所述基板的热量;至少一散热系统,设于所述腔体中,用以对所述吸热板散热。2.根据权利要求1所述的基板镀膜设备,其特征在于,当所述散热系统对所述吸热板散热时,所述吸热板与所述基板分离,且贴覆于所述散热系统。3.根据权利要求1所述的基板镀膜设备,其特征在于,每一散热系统包括:散热板,设于所述腔体内,且位于所述腔体的上侧;流体管道,设于所述散热板的上表面,所述流体管道具有一进水端和一出水端;一进水口和一出水口,设于所述腔体的顶面,且所述流体管道的进水端连接于所述进水口,所述流体管道的出水端连接于所述出水口;上下移动支架,设于所述腔体中且位于所述散热板的正下方,用以带动所述吸热板上下移动。4.根据权利要求3所述的基板镀膜设备,其特征在于,所述流体管道包括横向管道和纵向管道,所述横向管道和纵向管道相互连通,成“回”字形排布,或成“S”形排布,或成“Z”形排布。5.根据权利要求3所述的基板镀膜设备,其特征在于,还包括一掩膜板,设于所述运载基板上,所述掩膜板位于所述基板的下方;所述上下移动支架包括:若干第一支撑杆,竖直设置若干第二支撑杆,竖直设...
【专利技术属性】
技术研发人员:谭伟,
申请(专利权)人:深圳市华星光电半导体显示技术有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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