一种薄膜溅射控制装置和方法制造方法及图纸

一种薄膜溅射控制装置和方法，其中，该装置包括：电源模块(1)，其正极连接至薄膜溅射腔体(7)的阳极，负极连接至薄膜溅射腔体(7)的阴极；电压监控器(2)，并联连接到电源模块(1)的正极和负极之间，用于获取薄膜溅射腔体(7)的溅射电压；电流监控器(3)，串联连接到电源模块(1)的负极和薄膜溅射腔体(7)的阴极之间，用于获取薄膜溅射腔体(7)的溅射电流；溅射控制器(4)，分别电连接到电源模块(1)、电压监控器(2)和电流监控器(3)，用于根据溅射电压和溅射电流，补偿薄膜溅射腔体(7)的溅射功率，使溅射速率恒定。从而能够自动根据靶材直径的变化对溅射速率进行调整，满足镀膜厚度的要求。

A Control Device and Method for Thin Film Sputtering

A thin film sputtering control device and method include: a power supply module (1), whose positive pole is connected to the anode of the thin film sputtering cavity (7), and the negative pole is connected to the cathode of the thin film sputtering cavity (7); a voltage monitor (2) is connected in parallel between the positive pole and the negative pole of the power supply module (1) for obtaining the sputtering voltage of the thin film sputtering cavity (7); and a current monitor (3) is connected in series. The sputtering current of the thin film sputtering cavity (7) is obtained between the cathode of the power supply module (1) and the cathode of the thin film sputtering cavity (7), and the sputtering controller (4) is electrically connected to the power supply module (1), the voltage monitor (2) and the current monitor (3), respectively, to compensate the sputtering power of the thin film sputtering cavity (7) according to the sputtering voltage and current, so as to keep the sputtering rate constant. Therefore, the sputtering rate can be adjusted automatically according to the change of target diameter to meet the requirement of coating thickness.

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜溅射控制装置和方法
本专利技术属于薄膜溅射领域，尤其涉及一种薄膜溅射控制装置和方法。
技术介绍
PVD设备靶材使用过程，需要开腔测量靶材直径，随着靶材消耗，溅射速率会逐渐降低，为了保证镀膜的膜层厚度，目前都是通过手动调整溅射功率，使其达到初始设定的溅射速率，从而完成镀膜的膜层厚度。目前的溅射工艺不支持、不了解靶材的工作时间或使用寿命，对靶材直径的变化所反映的溅射速率的变化，不能及时捕捉到，从而不能满足膜厚需求。
技术实现思路
(一)专利技术目的本专利技术的目的是提供一种通过电压和电流的实时反馈靶材的直径变化，对溅射速率进行自动调整的一种薄膜溅射控制装置和方法。(二)技术方案为解决上述问题，本专利技术的第一方面提供了一种薄膜溅射控制装置，其特征在于，包括：电源模块，其正极连接至薄膜溅射腔体的阳极，负极连接至薄膜溅射腔体的阴极；电压监控器，并联连接到所述电源模块的正极和负极之间，用于获取所述薄膜溅射腔体的溅射电压；电流监控器，串联连接到所述电源模块的负极和所述薄膜溅射腔体的阴极之间，用于获取所述薄膜溅射腔体的溅射电流；溅射控制器，分别电连接到所述电源模块、电压监控器和电流监控器，用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种薄膜溅射控制装置，其特征在于，包括：电源模块(1)，其正极连接至薄膜溅射腔体(7)的阳极，负极连接至薄膜溅射腔体(7)的阴极；电压监控器(2)，并联连接到所述电源模块(1)的正极和负极之间，用于获取所述薄膜溅射腔体(7)的溅射电压；电流监控器(3)，串联连接到所述电源模块(1)的负极和所述薄膜溅射腔体(7)的阴极之间，用于获取所述薄膜溅射腔体(7)的溅射电流；溅射控制器(4)，分别电连接到所述电源模块(1)、电压监控器(2)和电流监控器(3)，用于根据所述薄膜溅射腔体(7)的溅射电压和溅射电流，补偿所述薄膜溅射腔体(7)的溅射功率，使溅射速率恒定。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜溅射控制装置，其特征在于，包括：电源模块(1)，其正极连接至薄膜溅射腔体(7)的阳极，负极连接至薄膜溅射腔体(7)的阴极；电压监控器(2)，并联连接到所述电源模块(1)的正极和负极之间，用于获取所述薄膜溅射腔体(7)的溅射电压；电流监控器(3)，串联连接到所述电源模块(1)的负极和所述薄膜溅射腔体(7)的阴极之间，用于获取所述薄膜溅射腔体(7)的溅射电流；溅射控制器(4)，分别电连接到所述电源模块(1)、电压监控器(2)和电流监控器(3)，用于根据所述薄膜溅射腔体(7)的溅射电压和溅射电流，补偿所述薄膜溅射腔体(7)的溅射功率，使溅射速率恒定。2.根据权利要求1所述的一种薄膜溅射控制装置，其特征在于，还包括：电阻适配器(5)；所述电阻适配器(5)的一端与所述电流监控器(3)连接，所述电阻适配器(5)的另一端和所述电源模块(1)的负极连接；所述溅射控制器(4)并联在所述电流监控器(3)和所述电阻适配器(5)的两端。3.根据权利要求1或2所述的一种薄膜溅射控制装置，其特征在于，所述电源模块(1)包括：电源供应器(11)，其一端连接至三相交流电，用于将所述三相交流电进行整流滤波得到单向电压和单向电流；截波控制器(12)，其一端与所述电源供应器(11)的另一端连接，用于将所述直流电转变为固定电压或可调电压的直流电；电弧检测和开关电路(13)，其一端与所述截波控制器(12)的另一端连接，其另一端与所述薄膜溅射腔体(7)连接，用于控制所述截波控制器(12)的输出电压的放电稳定。4.根据权利要求1-3任一项所述的一种薄膜溅射控制装置，其特征在于，所述电源供应器(11)包括：电源滤波器(110)、整流器(111)、二极管D1(112)和第一滤波电路(113)；所述电源滤波器(110)的三个端分别与三相交流电的对应的输出端连接，所述电源滤波器(110)的三个输出端分别连接至整流器(111)的对应的输入端；所述整流器(111)的三个输出端分别连接至所述二极管D1(112)的输入端；所述二极管(112)的输出端与所述第一滤波电路(113)连接。5.根据权利要求1-4任一项所述的一种薄膜溅射控制装置，其特征在于，所述截波控制器(12)包括：场效应管F1(120)、变压器(121)、二极管D2(122)...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱爱强，夏飞，罗剑伟，
申请(专利权)人：北京铂阳顶荣光伏科技有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11