一种DC直流电源真空磁控溅射镀膜机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种DC直流电源真空磁控溅射镀膜机，包括入料仓,仓体真空且通过设于入料仓一端的真空闸阀维持溅射仓10‑5Torr；溅射仓，溅射靶材镀膜；出料仓，仓体真空且通过设于入料仓一端的真空闸阀维持溅射仓10‑5Torr。降低人力及原物料耗用成本。可替代传统电阻油墨印刷制程，将制程薄膜沉积技术转成为高技术层次薄膜芯片电阻。利用磁控方式进行镀膜，避免传统沾银及电镀制程污染环境。

A DC DC Power Supply Vacuum Magnetron Sputtering Coating Machine

The utility model discloses a DC DC power supply vacuum magnetron sputtering coating machine, which comprises a feeding bin, a bin vacuum and a vacuum gate valve at one end of the feeding bin to maintain a sputtering bin of 10_5 Torr; a sputtering bin, a sputtering target coating; a feeding bin, a bin vacuum and a vacuum gate valve at one end of the feeding bin to maintain a sputtering bin of 10_5 Torr. Reduce the cost of manpower and raw materials. It can replace the traditional resistive ink printing process, and transform the film deposition technology into high-tech film chip resistance. The magnetic control method is used to avoid the pollution of environment by traditional silver staining and electroplating process.

【技术实现步骤摘要】
一种DC直流电源真空磁控溅射镀膜机
本技术涉及镀膜机领域，具体为一种DC直流电源真空磁控溅射镀膜机。
技术介绍
现有的磁控溅射镀膜系统主要是利用磁场作用使带点粒子在电磁场中螺旋运动，粒子间碰撞碰撞机率增加，从而增加靶材溅射量，提高电浆离化率和溅射镀膜速率，以及镀膜性质。传统真空磁控溅射镀膜机设备为单仓双磁控系统，存在以下缺点：1.抽真空时间慢,每生产一个炉次，镀膜仓体必须破真空至大气压，方可取出成品。2.镀膜仓体每破真空至一大气压，则仓壁易附着水气及OUTGAS，易让产品被污染且易让泵浦跳机再生。3.镀膜仓体每破真空至一大气压,则仓壁易附着水气及OUTGAS,不易抽真空,再生时间超过8小时以上。4.每炉可装载量少，无法使产量极大化。5.抽真空时间及生产时间超过60分钟/炉，生产效率低，使用人力多,生产成本高。6.产品镀膜厚度不均匀，附着力不佳，内外应力大。7.靶材使用率20％～30％，材料使用率低，成本增加。
技术实现思路
本技术的目的在于针对上述问题，克服现有技术不足，公开了一种DC直流电源真空磁控溅射镀膜机，提高被动组件产品生产效率及质量。降低人力及原物料耗用成本。可替代传统电阻油墨印刷制程，将制程薄膜沈积技术转成为高技术层次薄膜芯片电阻。利用磁控方式进行镀膜，避免传统沾银及电镀制程污染环境。为实现上述目的，本技术采用以下技术方案：一种DC直流电源真空磁控溅射镀膜机，包括入料仓,仓体真空且通过设于入料仓一端的真空闸阀维持溅射仓10-5Torr；溅射仓，溅射靶材镀膜；出料仓，仓体真空且通过设于入料仓一端的真空闸阀维持溅射仓10-5Torr。优选的，所述溅射仓包括阴极磁控靶座，所述阴极磁控靶座设于溅射仓的第一阴极磁控不锈钢仓体及第二阴极磁控不锈钢仓体中，所述第一阴极磁控不锈钢与冷冻泵浦不锈钢仓体连通。优选的，所述入料仓、出料仓包括泵浦不锈钢仓体，所述泵浦不锈钢仓体侧端与泵浦连通，所述泵浦不锈钢仓体内贯穿有传动装置，所述传动装置上设有真空感应电眼，所述泵浦不锈钢仓体内设有高真空旋转导入端子，所述泵浦不锈钢仓体外设有料架马达，所述泵浦不锈钢仓体侧端与泵浦之间设真空粗抽阀门及高真空阀门，所述泵浦通过真空粗抽阀门、粗抽马达与泵浦不锈钢仓体连通，所述入料仓、出料仓内设有出料仓料盘。优选的，所述阴极磁控靶座包括设于底端的导磁板，所述导磁板上端设有钕铁硼或氧化铁磁铁，所述导磁板下端设有无氧铜，所述导磁板与无氧铜通过螺丝固接，所述阴极磁控靶座上端设有铝靶盖，所述铝靶盖底端设有聚四氟乙烯，所述阴极磁控靶座上方固定有冷水转接头，所述钕铁硼或氧化铁磁铁设有与冷水转接头连通的铜靶冷却水路。优选的，所述溅射仓侧端设有双冷冻机构，所述双冷冻机构包括第一镀膜冷冻泵浦及第二镀膜冷冻泵浦，且所述第一镀膜冷冻泵浦与第二镀膜冷冻泵浦成90°夹角，所述双冷冻机构通过高真空阀门、调压阀与溅射仓连通，所述双冷冻机构通过粗抽阀门、粗抽马达与溅射仓连通。优选的，所述溅射仓侧端设有真空泵浦机构，所述真空泵浦机构包括与溅射仓连通的镀膜真空泵浦。优选的，所述泵浦为冷冻泵浦或真空泵浦。优选的，所述高真空旋转导入端子与传动装置垂直。优选的，所述粗抽马达两端设有粗抽阀门。优选的，所述泵浦与氦氮压缩机连通。优选的，所述第一镀膜冷冻泵浦与第二镀膜冷冻泵浦构成的双冷冻机构与冷冻泵浦连通。优选的，所述出料仓内设有出料仓料盘。本技术的有益效果为：1.薄膜沉积速率快及可大面积镀膜且均匀度高。2.镀膜性附着力佳可改变薄膜应力。3.金属或绝缘材料均可镀制,亦可镀制合金材料。4.磁控靶座为水冷式冷却，可执行大功率生产，无传统过热状态发生。5.操作全自动生产及异常自动报警系统，避免人员操作不当。6.水平式生产无因传统旋转震动而造成断料。使用时，可以起到1.抽真空时间短，镀膜仓体必永远保持真空，保持镀膜仓无污染源。2.镀膜仓体无须破真空，仓壁内不附着水气及OUTGAS，延长2倍泵浦再生时间。3.生产效率高，使用人力少，生产成本低。4.靶材使用高达30％～40％，靶材更换率45～55天。5.可执行芯片电阻正背导导电层连接及芯片电阻之薄膜电阻。附图说明图1是本技术的结构示意图。图2是本技术的内部结构示意图。图3是本技术的阴极控靶座的主视结构示意图。图4是本技术的阴极控靶座的左视结构示意图。图5是本技术的阴极控靶座的右视结构示意图。图6是本技术的阴极控靶座的俯视结构示意图。图7是本技术的俯视结构示意图。图8是本技术的入料仓结构示意图。图9是本技术的双冷冻机构结构示意图。图10是本技术的真空泵浦机构结构示意图。具体实施方式下面结合附图对本技术作进一步的说明。请参考图1、图2和图7，一种DC直流电源真空磁控溅射镀膜机，包括入料仓1,仓体真空且通过设于入料仓1一端的真空闸阀维持溅射仓210-5Torr；溅射仓2，溅射靶材镀膜；出料仓3，仓体真空且通过设于入料仓1一端的真空闸阀维持溅射仓210-5Torr。请参考图3、图4、图5和图6，溅射仓2包括阴极磁控靶座201，所述阴极磁控靶座201设于溅射仓2的第一阴极磁控不锈钢仓体202及第二阴极磁控不锈钢仓体203中，所述第一阴极磁控不锈钢与冷冻泵浦110不锈钢仓体101204连通。阴极磁控靶座201包括设于底端的导磁板205，所述导磁板205上端设有钕铁硼或氧化铁磁铁207，所述导磁板205下端设有无氧铜，所述导磁板205与无氧铜通过螺丝固接，所述阴极磁控靶座201上端设有铝靶盖208，所述铝靶盖208底端设有DC连接器209，且所述DC连接器209外侧涂覆有聚四氟乙烯210，所述阴极磁控靶座201上方固定有冷水转接头211，所述钕铁硼或氧化铁磁铁207设有与冷水转接头211连通的铜靶冷却水路212。阴极磁控靶座201底端设有电源供应器218。阴极磁控靶座201设有8个，将阴极磁控靶座201逐一装入合金靶材，组装合金完成后，将阴极磁控靶座201放入溅射仓2的第一阴极磁控不锈钢仓体202及第二阴极磁控不锈钢内，使用螺丝将阴极磁控靶座201固定在镀膜不锈钢仓体中，固定完成后，装入冷水转接头211，开启真空粗抽阀门107215及高真空阀门108后，通DC直流电源及气体，测试其阴极磁控靶座201释放和金辉光及沈积薄膜状态。请参考图8，入料仓1、出料仓3包括泵浦不锈钢仓体101，所述泵浦不锈钢仓体101侧端与泵浦102连通，所述泵浦不锈钢仓体101内贯穿有传动装置103，所述传动装置103上设有真空感应电眼104，所述泵浦不锈钢仓体101内设有高真空旋转导入端子105，所述泵浦不锈钢仓体101外设有料架马达106，所述泵浦不锈钢仓体101侧端与冷冻泵浦110之间设真空粗抽阀门107215及高真空阀门108，所述泵浦102通过真空粗抽阀门107215、粗抽马达214与泵浦不锈钢仓体101连通。料架设计由10层至30层承载结构设计，当料品承载料架放入排条治具后，依序放入入料仓1中之料品承载料架上，关闭舱门，开始抽真空仓体与冷冻泵浦110，待参数值完成后，按下自动启动此时传动装置103开使运转，料架的高真空旋转导入端子105开始下降至真空感应电眼104定位点及传动装置103上，料品因传动装置10本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种DC直流电源真空磁控溅射镀膜机，其特征在于，包括入料仓,仓体真空且通过设于入料仓一端的真空闸阀维持溅射仓10‑5Torr；溅射仓，溅射靶材镀膜；出料仓，仓体真空且通过设于入料仓一端的真空闸阀维持溅射仓10‑5Torr；所述溅射仓包括阴极磁控靶座，所述阴极磁控靶座设于溅射仓的第一阴极磁控不锈钢仓体及第二阴极磁控不锈钢仓体中，所述第一阴极磁控不锈钢与冷冻泵浦不锈钢仓体连通；所述入料仓、出料仓包括泵浦不锈钢仓体，所述泵浦不锈钢仓体侧端与泵浦连通，所述泵浦不锈钢仓体内贯穿有传动装置，所述传动装置上设有真空感应电眼，所述泵浦不锈钢仓体内设有高真空旋转导入端子，所述泵浦不锈钢仓体外设有料架马达，所述泵浦不锈钢仓体侧端与泵浦之间设真空粗抽阀门及高真空阀门，所述泵浦通过真空粗抽阀门、粗抽马达与泵浦不锈钢仓体连通，所述入料仓、出料仓内设有出料仓料盘。

【技术特征摘要】
1.一种DC直流电源真空磁控溅射镀膜机，其特征在于，包括入料仓,仓体真空且通过设于入料仓一端的真空闸阀维持溅射仓10-5Torr；溅射仓，溅射靶材镀膜；出料仓，仓体真空且通过设于入料仓一端的真空闸阀维持溅射仓10-5Torr；所述溅射仓包括阴极磁控靶座，所述阴极磁控靶座设于溅射仓的第一阴极磁控不锈钢仓体及第二阴极磁控不锈钢仓体中，所述第一阴极磁控不锈钢与冷冻泵浦不锈钢仓体连通；所述入料仓、出料仓包括泵浦不锈钢仓体，所述泵浦不锈钢仓体侧端与泵浦连通，所述泵浦不锈钢仓体内贯穿有传动装置，所述传动装置上设有真空感应电眼，所述泵浦不锈钢仓体内设有高真空旋转导入端子，所述泵浦不锈钢仓体外设有料架马达，所述泵浦不锈钢仓体侧端与泵浦之间设真空粗抽阀门及高真空阀门，所述泵浦通过真空粗抽阀门、粗抽马达与泵浦不锈钢仓体连通，所述入料仓、出料仓内设有出料仓料盘。2.根据权利要求1所述的一种DC直流电源真空磁控溅射镀膜机，其特征在于，所述阴极磁控靶座包括设于底端的导磁板，所述导磁板上端设有钕铁硼或氧化铁磁铁，所述导磁板下端设有无氧铜，所述导磁板与无氧铜通过螺丝固接，所述阴极磁控靶座上端设有铝靶盖，所述铝靶盖底端设有DC连接...

【专利技术属性】
技术研发人员：王恩赐，
申请(专利权)人：奥思创电子科技有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71