一种多功能磁控溅射镀膜装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开一种多功能磁控溅射镀膜装置，包括机架、真空镀膜室、上法兰、下法兰、可伸缩的磁控靶和可加热、旋转及上下移动的基片架，所述真空镀膜室装设于机架上，所述磁控靶和基片架均设于真空镀膜室内，所述上法兰和下法兰设于真空镀膜室的上下两端，所述基片架安装于上法兰上，所述磁控靶为三个，三个磁控靶倾斜固定安装于下法兰上，三个磁控靶均朝向基片架，所述磁控靶与下法兰的垂直线成一定角度。本实用新型专利技术具有三个磁控靶，既能实现单靶沉积，也能实现三靶沉积，有利于制备复合金属膜，且能提高镀膜质量，有效提高镀膜的沉积效率。

A Multifunctional Magnetron Sputtering Coating Device

The utility model discloses a multifunctional magnetron sputtering coating device, which comprises a rack, a vacuum coating chamber, an upper flange, a lower flange, a retractable magnetron target and a substrate rack capable of heating, rotating and moving up and down. The vacuum coating chamber is mounted on the rack, the magnetron target and the substrate rack are both mounted in the vacuum coating chamber, and the upper flange and the lower flange are mounted on the upper and lower flanges of the vacuum coating chamber. At both ends, the substrates are mounted on the upper flange. The magnetron targets are three. The three magnetron targets are tilted and fixed on the lower flange. The three magnetron targets are all oriented towards the substrates, and the vertical line of the magnetron targets and the lower flange forms a certain angle. The utility model has three magnetron targets, which can realize both single target deposition and three target deposition, is advantageous for preparing composite metal film, and can improve the quality of the film and the deposition efficiency of the film.

【技术实现步骤摘要】
一种多功能磁控溅射镀膜装置
本技术涉及镀膜设备
，特别涉及一种多功能磁控溅射镀膜装置。
技术介绍
磁控溅射设备是一种常见的物理气相沉积设备，已经成功应用于各种薄膜的制备工艺。大部分传统的磁控溅射设备只包含一个溅射靶，工作时腔体内只能安装一种溅射把材料，若要用这样的设备沉积不同种薄膜材料，则需要打开主腔体，对靶材进行拆除与安装，不仅效率低下，同时也很难获得稳定的生长工艺。这种设备只能满足长期溅射一种薄膜材料的需求，不利于制备复合膜；传统的磁控溅射设备中的基片架仅能对基片进行加热，不能同时旋转，这样在膜层沉积的过程中会导致基片加热不均匀，影响镀膜质量；因基片与靶材之间的距离是固定的，如此镀膜的沉积效率较低。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是，针对上述现有技术中的不足，提供一种多功能磁控溅射镀膜装置，其具有三个磁控靶，既能实现单靶沉积，也能实现三靶沉积，有利于制备复合金属膜，且能提高镀膜质量，有效提高镀膜的沉积效率。为解决上述技术问题，本技术的技术方案是：一种多功能磁控溅射镀膜装置，包括机架、真空镀膜室、上法兰、下法兰、可伸缩的磁控靶和可加热、旋转及上下移动的基片架，所述真空镀膜室本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于：包括机架、真空镀膜室、上法兰、下法兰、可伸缩的磁控靶和可加热、旋转及上下移动的基片架，所述真空镀膜室装设于机架上，所述磁控靶和基片架均设于真空镀膜室内，所述上法兰和下法兰设于真空镀膜室的上下两端，所述基片架安装于上法兰上，所述磁控靶为三个，三个磁控靶倾斜固定安装于下法兰上，三个磁控靶均朝向基片架，所述磁控靶与下法兰的垂直线成一定角度。

【技术特征摘要】
1.一种多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于：包括机架、真空镀膜室、上法兰、下法兰、可伸缩的磁控靶和可加热、旋转及上下移动的基片架，所述真空镀膜室装设于机架上，所述磁控靶和基片架均设于真空镀膜室内，所述上法兰和下法兰设于真空镀膜室的上下两端，所述基片架安装于上法兰上，所述磁控靶为三个，三个磁控靶倾斜固定安装于下法兰上，三个磁控靶均朝向基片架，所述磁控靶与下法兰的垂直线成一定角度。2.根据权利要求1所述的一种多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于：还包括固定架、导杆、滑座、传动轴、主动齿轮、传动齿轮和驱动基片架旋转的驱动电机，所述固定架与上法兰固定连接，所述导杆固定安装于固定架上，所述滑座滑动安装于导杆上，所述驱动电机固定安装于滑座上，所述基片架与传动轴的一端固定连接，所述传动轴的另一端穿过固定架与传动齿轮固定连接，所述主动齿轮与驱动电机的输出轴固定连接，所述主动齿轮和传动齿轮相互啮合。3.根据权利要求2所述的一种多功能磁控溅射镀膜装置，其特征在于：所述基片架内装设有用于将基片加热的加热器和用于检测基片温度的热电偶传感器，所述滑座上固定安装有温控器，所述加热器和热电偶传感器均与温控器电...

【专利技术属性】
技术研发人员：王燕丽，王昕涛，
申请(专利权)人：东莞市典雅五金制品有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44