测量装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种测量装置，用于精度良好地测量在基板上成膜的蒸镀材料的膜厚。该测量装置具备多个支承件，其支承基板的周缘；以及膜厚测量器，其测量在基板上形成的蒸镀膜的膜厚，多个支承件包括：多个第一支承件，其支承基板的第一边；以及多个第二支承件，其支承与第一边对置的第二边，多个第一支承件以第一间隔或比第一间隔窄的第二间隔设置，多个第二支承件以第三间隔或比第三间隔窄的第四间隔设置，膜厚测量器测量基板上测量区域的膜厚，上述测量区域为从与第一间隔对应的第一区域至与第三间隔对应的第三区域的区域。

Measuring device

The invention provides a measuring device for measuring the film thickness of evaporated material formed on a substrate with good accuracy. The measuring device has a plurality of supporting parts, which support the periphery of the base plate, and a film thickness measuring device, which measures the film thickness formed on the base plate. The plurality of supporting parts include: a plurality of first supporting parts, the first side of the supporting base plate; and a plurality of second supporting parts, whose support is opposite to the second side of the first side, and the plurality of first supporting parts are narrower at or than the first interval. In the second interval setting, a plurality of second supports are arranged at a third interval or a fourth interval narrower than the third interval. The film thickness measuring device measures the film thickness of the measuring area on the substrate. The measuring area is from the first area corresponding to the first interval to the third area corresponding to the third interval.

【技术实现步骤摘要】
测量装置
本专利技术涉及测量装置。
技术介绍
近年来，作为一种显示器，具备使用有机材料的电致发光的有机EL元件的有机EL装置受到关注。在有机EL显示器等有机电子设备制造中，存在如下工序：使用蒸发源装置，将有机材料、金属电极材料等蒸镀材料蒸镀在基板上而进行成膜。被广泛使用的热蒸镀型的蒸发源装置加热收容在坩锅等容器内部的蒸镀材料，使该蒸镀材料蒸发，并附着在基板的表面上。为了评价利用蒸镀进行的成膜的精度，利用具备膜厚测量器的测量装置。膜厚测量器是测量附着在基板上的蒸镀材料的厚度的装置。测量装置有几种方式，作为其中一种，存在与对基板进行蒸镀同步地将蒸镀材料附着在膜厚测量器自身上的方式。具体而言，将使用晶体振子的膜厚测量器与基板一起配置在蒸镀装置内，通过由蒸镀材料的堆积导致晶体振子的共振频率变化，来计算蒸镀在基板上的膜的厚度。但是在该方式中，并非测量实际形成在基板上的蒸镀膜的厚度。因此专利文献1(日本特表2012-502177号公报)所记载的测量装置采用测量实际附着在基板上的膜的厚度的方式。在专利文献1中，作为膜厚测量器，采用将激光向形成有蒸镀膜的基板照射并利用反射光的检测结果来计算膜厚的椭圆偏振计，因此能够测量实际的膜厚。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特表2012-502177号公报专利技术要解决的问题在利用蒸发源装置进行蒸镀时，要求使蒸镀材料大范围地附着在基板上并使膜的厚度尽量均匀。特别是近年来，在有机电子设备的用途正在扩大、对大型的面板的需求也在增加之时，膜厚均匀化的必要性增加。因此，在测量膜厚时也要求即使是大型的基板也不忽略膜厚的不均匀。例如，通过使膜厚测量器一边在与面板大致平行的平面内扫描一边测量与膜厚测量器对置的部分，从而能够进行大范围的测量。本专利技术是鉴于上述问题而做出的。本专利技术的目的在于提供用于精度良好地测量在基板上成膜的蒸镀材料的膜厚的技术。
技术实现思路
本专利技术采用以下的结构。即，一种测量装置，具备：多个支承件，其支承基板的周缘；以及膜厚测量器，其测量在所述基板上形成的蒸镀膜的膜厚，所述多个支承件包括：多个第一支承件，其支承所述基板的第一边；以及多个第二支承件，其支承与所述第一边对置的第二边，所述多个第一支承件以第一间隔或比所述第一间隔窄的第二间隔设置，所述多个第二支承件以第三间隔或比所述第三间隔窄的第四间隔设置，所述膜厚测量器测量所述基板上测量区域的膜厚，所述测量区域为从与所述第一间隔对应的第一区域至与所述第三间隔对应的第三区域的区域。另外，本专利技术采用以下的结构。即，一种测量装置，具备：多个支承件，其支承基板的周缘的多个支承件；以及膜厚测量器，其测量在所述基板上形成的蒸镀膜的膜厚，所述多个支承件包括：第一支承件，其支承所述基板的第一边；第二支承件，其支承与所述第一边对置的第二边；以及第三支承件，其支承被所述第一边及所述第二边夹着的第三边，所述第一、第二及第三支承件分别是连续的形状，在所述第一边延伸的方向上，所述第一边比所述第一支承件长，在所述第二边延伸的方向上，所述第二边比所述第二支承件长，所述膜厚测量器测量所述基板上测量区域的膜厚，所述测量区域为从第五区域至第六区域的区域，所述第五区域对应于所述第一边处的所述第一支承件与所述第三支承件之间的第五间隔，所述第六区域对应于所述第二边处的所述第二支承件与所述第三支承件之间的第六间隔。专利技术效果根据本专利技术，能够提供精度良好地测量在基板上成膜的蒸镀材料的膜厚的技术。附图说明图1是表示实施方式1的基板支承方式的图。图2是表示实施方式1的基板支承方式的膜厚测量的状态的图。图3是表示实施方式2的基板支承方式的图。图4是表示实施方式3的利用线状的蒸发源进行的蒸镀和膜厚测量的状态的图。图5是表示有机电子设备的制造装置的结构的图。图6是表示以往例的基板支承方式的图。图7是表示以往例的基板支承方式中的膜厚测量的状态的图。附图标记说明101：基板；102：支承件；104a：第一间隔；104b：第三间隔；103a、103b：第二间隔；103c、103d：第四间隔；121：膜厚测量器。具体实施方式以下，参照附图说明本专利技术的适宜的实施方式及实施例。但是，以下的实施方式及实施例只是例示性地表示本专利技术的优选的结构，本专利技术的保护范围不限定于这些结构。另外，以下的说明中的装置的硬件结构及软件结构、处理流程、制造条件、尺寸、材质、形状等，只要没有特别地进行特定的记载，本专利技术的保护范围便不仅限定于此。本专利技术涉及膜厚的测量装置及其控制方法、以及膜厚的测量方法，特别是，优选用于测量在基板等被蒸镀体上形成的蒸镀膜的厚度。本专利技术也作为具备膜厚的测量装置的蒸镀装置及其控制方法、蒸镀方法以及蒸发源装置及其控制方法来理解。另外，本专利技术也作为形成薄膜的成膜装置及其控制方法、以及成膜方法来理解。本专利技术也作为电子设备的制造装置和电子设备的制造方法来理解。另外本专利技术也作为使计算机执行控制方法的程序和储存该程序的存储介质来理解。存储介质可以是能够由计算机读取的非暂时性存储介质。本专利技术能够优选适用于在基板的表面上通过真空蒸镀或溅射等形成期望的图案的薄膜(材料层)的装置。在以下的实施方式中，作为薄膜的代表例，例举蒸镀膜进行说明，但本专利技术也能够适用于通过溅射等其他方法形成的薄膜。作为基板的材料能够选择玻璃、树脂、金属等任意的材料。作为蒸镀材料能够选择有机材料、无机材料(金属、金属氧化物等)等任意的材料。薄膜的种类也是金属膜、有机膜或它们的组合等任意的种类。本专利技术的技术典型地能够适用于有机电子设备(例如有机EL显示装置的显示面板、薄膜太阳能电池)、光学构件等制造装置。(以往的膜厚测量装置中的基板支承方式)对膜厚测量装置中的以往的基板支承方式的概要及其问题进行说明。图6(a)是说明以往的电子设备制造装置的测量室中的、支承基板来测量膜厚的状态的图。基板101在作为测量对象的蒸镀膜形成在基板下表面的状态下，由搬运机器人搬入测量室，并由多个支承件602a～602h支承。作为支承件，能够利用夹持基板101的端部的夹紧机构、载置基板101的端部这样的构件。在使用任意的支承件时，都会在基板基于自重而挠曲的情况下发生后述的问题。特别是随着基板大型化，挠曲的程度也增大。如图所示，以往的支承件602在沿Y轴方向延伸的各边(第一边及第二边)，以大致均等的间隔(间隔603)配置。此外，虽然在图6(a)中进行了省略，但也可以根据边的长度，在沿X轴方向延伸的各边(第三边及第四边)设置支承件。膜厚测量器121配置于向下方距保持基板101的基板面距离D1的假想面122。膜厚测量器121构成为能够在与基板面大致平行的假想面122内移动，一边在X方向上移动一边在各位置测量膜厚(箭头124)。由此，测量区域105内的各位置的膜厚被测量。作为使膜厚测量器121移动的扫描机构能够利用任意的构件，例如载物台(ステージ)等定位单元是适宜的。此外，如后所述，在基板101挠曲的部分，基板101与假想面122的距离比D1小。此外，也可以不由扫描机构移动膜厚测量器，而使用能够一并测量测量区域的膜厚的膜厚测量器。作为膜厚测量器121，优选基于分光干涉法的原理测量膜厚的分光干涉计。分光干涉计具备：射出部，其对在基板上形成的蒸镀膜射出白色光；和受光部，其接收由膜内部的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种测量装置，其特征在于，所述测量装置具备：多个支承件，其支承基板的周缘；以及膜厚测量器，其测量在所述基板上形成的膜的膜厚，所述多个支承件包括：多个第一支承件，其支承所述基板的第一边；以及多个第二支承件，其支承与所述第一边对置的第二边，所述多个第一支承件以第一间隔或比所述第一间隔窄的第二间隔设置，所述多个第二支承件以第三间隔或比所述第三间隔窄的第四间隔设置，所述膜厚测量器测量所述基板上测量区域的膜厚，所述测量区域为从与所述第一间隔对应的第一区域至与所述第三间隔对应的第三区域的区域。

【技术特征摘要】
2017.10.26 JP 2017-2068361.一种测量装置，其特征在于，所述测量装置具备：多个支承件，其支承基板的周缘；以及膜厚测量器，其测量在所述基板上形成的膜的膜厚，所述多个支承件包括：多个第一支承件，其支承所述基板的第一边；以及多个第二支承件，其支承与所述第一边对置的第二边，所述多个第一支承件以第一间隔或比所述第一间隔窄的第二间隔设置，所述多个第二支承件以第三间隔或比所述第三间隔窄的第四间隔设置，所述膜厚测量器测量所述基板上测量区域的膜厚，所述测量区域为从与所述第一间隔对应的第一区域至与所述第三间隔对应的第三区域的区域。2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述基板的周缘中的所述第一区域及所述第三区域的挠曲大于与所述第二间隔对应的第二区域及与所述第四间隔对应的第四区域的挠曲。3.根据权利要求1或2所述的测量装置，其特征在于，在所述基板，所述测量区域的挠曲量比非所述测量区域的区域的挠曲量均匀。4.根据权利要求1或2所述的测量装置，其特征在于，以所述第一间隔与所述第三间隔大致相等且所述第一区域与所述第三区域对置的方式设置有所述多个第一支承件和所述多个第二支承件。5.根据权利要求1或2所述的测量装置，其特征在于，以形成多个对置的所述第一区域及所述第三区域的组的方式设置有所述多个第一支承件和所述多个第二支承件。6.根据权利要求1或2所述的测量装置，其特征在于，所述多个支承件还包括支承所述基板的与所述第一边及所述第二边不同的边的第三支承件。7.根据权利要求6所述的测量装置，其特征在于，所述第三支承件与所述测量区域连续地邻接。8.根据权利要求1或2所述的测量装置，其特征在于，所述膜厚测量器在与配置有所述基板的基板面大致平行的假想面上一边从与所述第一区域对应的位置向与所述第三区域对应的位置移动，一边测量所述测量区域的膜厚。9.根据权利要求1或2所述的测量装置，其特征在于，所述膜厚测量器通过分光干涉法来测量所述膜的膜厚。10.一种测量装置，其特征在于，所述测量装置具备：多个支承件，其支承基板的周缘；以及膜厚测量器，其测量在所述基板上形成的膜的膜厚，所述多个支承件包括：第一支承件，其支承所述基板的第一边；第二支承件，其支承与所述第一边对置的第二边；以及第三支承件，其支承被所述第一边及所述第二边夹着的第三边，所述第一、第二及第三支承件分别是连续的形状，在所述第一边延伸的方向上...

【专利技术属性】
技术研发人员：渡边一弘，菅原洋纪，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP