【技术实现步骤摘要】
一种注塑成型装置及封装结构
本专利技术属于集成电路制造工艺领域,更具体地,涉及一种注塑成型装置及封装结构。
技术介绍
在半导体制造领域中,COB工艺是一种常用的工艺方法,但是目前,COB工艺中注塑成型制造过程中模具与芯片的表面完全接触,由于塑封料与芯片表面(例如,透光组件等材料)的CET(热膨胀系数)不同,且芯片表面与塑封料接触导致塑封料固化时挤压芯片表面,从而造成芯片表面的应力损伤。例如,在芯片表面为透光组件的情况下,传统工艺使注塑成型脱模后透光组件裂片率高达50%,降低了生产效率,浪费了生产材料。因此,迫切地需要一种方法可以降低COB工艺中注塑成型的芯片表面裂片率。
技术实现思路
本专利技术的目的是提出一种注塑成型装置及封装结构,用以降低COB工艺中需要与塑封料隔离的芯片部分损坏率。为了实现上述目的,本专利技术提供一种注塑成型装置,包括:上模具和下模具,所述下模具和上模具合模后形成注塑型腔;所述上模具设有基座以及突出于所述基座的凸块,所述凸块背向所述基座的面上设有凹槽,所述凹槽用于密封需要与塑封料隔离的芯片部分。可选的,所述凹槽的纵向深度范围为50μm~1000μ ...
【技术保护点】
1.一种注塑成型装置,其特征在于,包括:上模具和下模具,所述下模具和上模具合模后形成注塑型腔;所述上模具设有基座以及突出于所述基座的凸块,所述凸块背向所述基座的面上设有凹槽,所述凹槽用于密封需要与塑封料隔离的芯片部分。
【技术特征摘要】
1.一种注塑成型装置,其特征在于,包括:上模具和下模具,所述下模具和上模具合模后形成注塑型腔;所述上模具设有基座以及突出于所述基座的凸块,所述凸块背向所述基座的面上设有凹槽,所述凹槽用于密封需要与塑封料隔离的芯片部分。2.根据权利要求1所述的注塑成型装置,其特征在于,所述凹槽的纵向深度范围为50μm~1000μm。3.根据权利要求1所述的注塑成型装置,其特征在于,所述凸块远离基座的一端,设有由外表面向端面的倒角。4.根据权利要求1所述的注塑成型装置,其特征在于,所述凹槽包括方体或圆柱体。5.一种封装结构,其特征在于,包括:基板,芯片设置在所述基板的顶面,所述芯片包括功能区及设于所述功...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘孟彬,
申请(专利权)人:中芯集成电路宁波有限公司,
类型:发明
国别省市:浙江,33
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