【技术实现步骤摘要】
一种自我修复有机硅材料制备方法
:本专利技术属于自我修复材料制备
,具体涉及一种自我修复有机硅材料制备方法,制备得到的聚二甲基硅氧烷材料具有优异的力学性能,并且在常温下能够进行自我修复损伤。
技术介绍
:近年来,随着科学技术的发展,有机硅材料被广泛应用于材料表面防护(如防生物污损、防腐蚀、防结冰等)、柔性电子器件、生物材料等各个领域。有机硅,即有机硅化合物,是指含有Si-C键、且至少有一个有机基是直接与硅原子相连的化合物,习惯上也常把那些通过氧、硫、氮等使有机基与硅原子相连接的化合物也当作有机硅化合物。其中,以硅氧键(-Si-O-Si-)为骨架组成的聚硅氧烷,是有机硅化合物中为数最多,研究最深、应用最广的一类,约占总用量的90%以上。由于有机硅材料在使用过程中不可避免地会受到外部作用而导致损伤,从而引起有机硅材料的力学性能以及使用寿命的降低。为解决这一问题,自我修复材料引起了人们广泛的兴趣,自我修复材料是一种在物体受损时能够进行自我修复的新型材料,这种材料被注入到塑料聚合物内,当物体开裂时,注入的材料会释放出来,对受损的物体表面进行自动修复。自我修复材料根据 ...
【技术保护点】
1.一种自我修复有机硅材料制备方法,其特征在于工艺过程包括生成脲基、生成亚胺键和制备材料三个步骤:(1)生成脲基:向三口烧瓶中加入设定质量的氨基封端的聚二甲基硅氧烷(PDMS)和设定体积的四氢呋喃(THF),搅拌均匀,向三口烧瓶中通入氮气,排除三口烧瓶中的空气,用注射器向三口烧瓶中逐滴加入设定质量的二异氰酸酯,在氮气氛围下,80‑150℃油浴,磁力搅拌冷凝回流12‑48h,PDMS与二异氰酸酯反应生成脲基;PDMS与二异氰酸酯的摩尔比值≥1,(2)生成亚胺基:向三口烧瓶中加入设定质量的苯二醛粉末,常温下磁力搅拌反应2‑6h后,将温度升至40‑80℃,继续反应0.5‑3h,氨 ...
【技术特征摘要】
1.一种自我修复有机硅材料制备方法,其特征在于工艺过程包括生成脲基、生成亚胺键和制备材料三个步骤:(1)生成脲基:向三口烧瓶中加入设定质量的氨基封端的聚二甲基硅氧烷(PDMS)和设定体积的四氢呋喃(THF),搅拌均匀,向三口烧瓶中通入氮气,排除三口烧瓶中的空气,用注射器向三口烧瓶中逐滴加入设定质量的二异氰酸酯,在氮气氛围下,80-150℃油浴,磁力搅拌冷凝回流12-48h,PDMS与二异氰酸酯反应生成脲基;PDMS与二异氰酸酯的摩尔比值≥1,(2)生成亚胺基:向三口烧瓶中加入设定质量的苯二醛粉末,常温下磁力搅拌反应2-6h后,将温度升至40-80℃,继续反应0.5-3h...
【专利技术属性】
技术研发人员:孙智勇,陈光孟,蔺存国,张金伟,郑纪勇,
申请(专利权)人:中国船舶重工集团公司第七二五研究所,
类型:发明
国别省市:山东,37
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。