一种旋转式多功能硅片清洗机制造技术

本实用新型专利技术公开了一种旋转式多功能硅片清洗机，包括机身，所述机身上设置有清洗室，清洗室内设置有与旋转架，所述旋转架上设置有硅片固定架，所述机身上还设置有进水管、出水管、进气管和排气管，本实用新型专利技术通过进水管将清洗液注入到清洗室内，再通过电机带动旋转架高速旋转，从而使清洗液在硅片之间高速流动，达到快速清洗硅片的目的，清洗完成后再对硅片进行离心脱水，其在一台设备上实现了两道加工工序，不但提高了加工效率，同时避免了因硅片转运造成的自然风干，保证了产品的质量。

A Rotary Multifunctional Silicon Wafer Cleaner

The utility model discloses a rotary multi-functional silicon wafer cleaning machine, which comprises a fuselage. The fuselage is provided with a cleaning room, a cleaning room is provided with a rotating frame, and a silicon wafer fixing frame is arranged on the rotating frame. The fuselage is also provided with an intake pipe, an outlet pipe, an intake pipe and an exhaust pipe. The cleaning liquid is injected into the cleaning room through the intake pipe and then passed through the cleaning room. The motor drives the rotating frame to rotate at a high speed, so that the cleaning liquid flows between the silicon wafers at a high speed and achieves the purpose of cleaning the silicon wafers quickly. After cleaning, the silicon wafers are centrifugally dehydrated. Two processing procedures are realized in one equipment, which not only improves the processing efficiency, but also avoids the natural air drying caused by the transshipment of the silicon wafers and ensures the quality of the products.

【技术实现步骤摘要】
一种旋转式多功能硅片清洗机
本技术涉及半导体加工设备
，具体涉及一种旋转式多功能硅片清洗机。
技术介绍
太阳能是一种可再生资源，因其具有广泛的来源和极低的获取成本而成为应用最广泛的新能源种类之一，现有技术中主要通过太阳能电池板将光能转化为电能加以利用，而太阳能电池板根据使用材质的不同又氛围硅太阳能电池、有机太阳能电池等，其中硅太阳能电池是应用最成熟的一种太阳能电池板；硅太阳能电池板所使用的单晶硅片在加工过程中需要经过清洗、干燥等程序，现有技术中一般将上述两道工序分开，其不但加工效率较低，同时如果硅片在两道工序之间停留的时间较长，极易造成硅片表面自然风干，进而使硅片表面残留较多的杂质，影响产品的质量，甚至导致产品报废。公开号为CN205680661U的中国技术专利于2016年11月9日公开了一种硅片清洗甩干机，包括端盖，所述端盖上开有通孔，通孔上部密封连接有进水管，通孔下端密封连接有连接管，所述连接管下端连接有圆盘，所述进水管上连接有进气管，所述圆盘底面布满喷嘴，所述的端盖内设有电加热装置和保温层，所述的机体底部设有排水口。该硅片清洗甩干机集清洗甩干于一体，提高了生产效率，降低了人工成本，而且干燥效果好，提高了产品质量，具有结构简单，不污染环境，易于推广等优点。
技术实现思路
针对现有技术中存在的清洗效果差、干燥效果差的缺陷，本技术公开了一种旋转式多功能硅片清洗机，采用本技术能够提高硅片的清洗效果，同时还能够对清洗产生的污水进行循环再利用，大大降低污水的排放压力，提高企业的经济效益。本技术通过以下技术方案实现上述目的：一种旋转式多功能硅片清洗机，包括机身，所述机身上设置有清洗室，机身顶部铰接有密封盖，其特征在于：所述机身底部设置有电机，所述清洗室内转动设置有旋转架，所述旋转架上固定均匀设置有多个硅片固定架；所述旋转架通过转轴与电机相连；所述机身上还设置有进水管、出水管、进气管和排气管，所述进水管、出水管、进气管和排气管上均设置有电磁阀，所述机身上还设置有与电磁阀相连的控制器；所述排气管上还连接有真空泵。所述进气管上还连接有加热器。所述清洗室内还设置有温度传感器和液位传感器，所述温度传感器和液位传感器与控制器相连。所述硅片固定架内侧设置有缓冲垫，所述硅片固定架的外表面套置有滤网。所述机身上还设置有超声波发生装置，所述超声笔发生装置与控制器相连。所述清洗室内还设置有pH值传感器和浑浊度传感器，所述pH值传感器和浑浊度传感器均与控制器相连。所述进水管和进气管上均设置有多个喷嘴。与现有技术相比，本技术具有以下有益效果：1、本技术的机身上设置有清洗室，清洗室内设置有与旋转架，所述旋转架上设置有硅片固定架，且本技术的机身上还设置有进水管、出水管、进气管和排气管，本技术通过进水管将清洗液注入到清洗室内，在通过电机带动旋转架高速旋转，从而使清洗液在硅片之间高速流动，达到快速清洗硅片的目的，清洗完成后通过排水口将清洗液排出，并通过进气管向清洗室内吹入保护气，通过排气管和真空泵加速清洗室内的水汽排出，同时高速旋转的旋转架对硅片进行离心脱水处理，从而实现硅片的快速干燥，且其干燥后硅片表面杂质残留较少，其在一台设备同时实现了两道工序，避免了自然风干造成的硅片质量下降的问题，生产效率大大提高；且本技术还可以根据实际生产情况增加清洗的次数，大大提高了硅片的清洗质量和清洗效率。2、本技术在进气管上还连接有加热器，对进入到清洗室内的气体进行加热处理，一方面加快清洗室内的水汽蒸发速度，避免硅片的污渍残留；另一方面保证清晰室内的温度，保证清洗过程中清洗室内的温度保持在最佳的清洗温度，从而提高清洗质量。3、本技术所述的清洗室内设置有温度传感器和液位传感器，方便检测清洗室内的温度和清洗液的液位，保证设备始终处于最佳的工作状态，提高清洗质量和设备运行的安全性。4、本技术的硅片固定架上设置有缓冲垫，硅片固定架外侧设置有滤网，通过缓冲垫固定缓冲硅片的冲击力，避免其在高速旋转中发生松动，造成硅片破碎；同时通过滤网避免硅片在高速旋转过程中脱离硅片固定架，从而更好的保护硅片，提高清洗质量。5、本技术的机身上设置有超声波发生装置，通过超声波发生装置对清洗室内进行超声波振荡，更好的分离硅片表面的杂质，从而提高硅片的清洗质量。6、本技术的清洗室内设置有pH值传感器和浑浊度传感器，方便实时监测清洗液的状态，一方面保证清洗室内的清洗液始终为合格品，从而提高清洗质量，另一方面提高清洗液的循环利用次数，降低硅片清洗的成本和环境排放压力。7、本技术的进水管和进气管上设置有多个喷嘴，避免清洗液和保护气过于集中损坏硅片，同时分散保护气能够保证每张硅片都能够得到充分的脱水，有利于提高产品的一致性，从而降低次品率，提高产品的质量。附图说明图1为本技术结构示意图；附图标记：1、机身，2、清洗室，3、密封盖，4、电机，5、旋转架，6、硅片固定架，7、转轴，8、进水管，9、出水管，10、进气管，11、排气管，12、电磁阀，13、控制器，14、真空泵，15、加热器，16、温度传感器，17、液位传感器，18、缓冲垫，19、滤网，20、超声波发生装置，21、pH值传感器，22、浑浊度传感器，23、喷嘴。具体实施方式下面将通过具体实施例对本技术作进一步说明：实施例1本实施例作为本技术的最佳实施例，其公开了一种旋转式多功能硅片清洗机，其具体结构如图1所示，包括机身1，所述机身1内设置有清洗室2，并通过机身1顶部铰接的密封盖3将清洗室2密封；所述机身1底部设置有电机4，清洗室2内设置有旋转架5，旋转架5底部设置有转轴7，所述转轴7与电机4相连；所述旋转架5上均匀设置有4-6个硅片固定架6，所述硅片固定架6的内表面设置有缓冲垫18，硅片固定架6的外表面套置有滤网19；所述清洗室2内壁上还固定设置有温度传感器16、液位传感器17、pH值传感器21和浑浊度传感器22，机身1外表面设置有控制器13，所述控制器13的输入端分别与温度传感器16、液位传感器17、pH值传感器21和浑浊度传感器22相连；所述机身1上部设置有进气管10和进水管8，机身1下部设置有排气管11和出水管9，所述进水管8、进气管10、排气管11和出水9管的入口端均设置有电磁阀12，排气管11的上还连接有真空泵14，所述控制器13的输出端分别连接有电磁阀12、真空泵14和电机4；所述进气管10上还连接有加热器15，所述加热器15与控制器13相连；所述机身1上还设置有与控制器13输出端相连的超声波发生装置20，所述进水管8和进气管10上均匀设置有6-8个喷嘴23。本技术使用时首先通过专用篮筐盛放硅片，再将该篮筐固定于硅片固定架上，并关闭密封盖；清洗时通过进水管向清洗室内喷洒清洗液至规定液面，再通过电机带动旋转架旋转，从而快速去掉硅片表面的杂质，清洗完成后通过出水管将清洗液排出，再通过旋转架的高速旋转对硅片进行离心脱水，同时通过进气管向清洗室内充入高温保护气，通过真空泵加快水汽排放，从而实现了对硅片的快速干燥，本技术在一台设备上实现了两道加工工序，其不但大大提高了生产效率，同时避免了因自然风干造成的次品率上升等缺陷，大大提高了硅片的清洗质量；且本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种旋转式多功能硅片清洗机，包括机身（1），所述机身（1）上设置有清洗室（2），机身（1）顶部铰接有密封盖（3），其特征在于：所述机身（1）底部设置有电机（4），所述清洗室（2）内转动设置有旋转架（5），所述旋转架（5）上固定均匀设置有多个硅片固定架（6）；所述旋转架（5）通过转轴（7）与电机（4）相连；所述机身（1）上还设置有进水管（8）、出水管（9）、进气管（10）和排气管（11），所述进水管（8）、出水管（9）、进气管（10）和排气管（11）上均设置有电磁阀（12），所述机身（1）上还设置有与电磁阀（12）相连的控制器（13）；所述排气管（11）上还连接有真空泵（14）。

【技术特征摘要】
1.一种旋转式多功能硅片清洗机，包括机身（1），所述机身（1）上设置有清洗室（2），机身（1）顶部铰接有密封盖（3），其特征在于：所述机身（1）底部设置有电机（4），所述清洗室（2）内转动设置有旋转架（5），所述旋转架（5）上固定均匀设置有多个硅片固定架（6）；所述旋转架（5）通过转轴（7）与电机（4）相连；所述机身（1）上还设置有进水管（8）、出水管（9）、进气管（10）和排气管（11），所述进水管（8）、出水管（9）、进气管（10）和排气管（11）上均设置有电磁阀（12），所述机身（1）上还设置有与电磁阀（12）相连的控制器（13）；所述排气管（11）上还连接有真空泵（14）。2.根据权利要求1所述的一种旋转式多功能硅片清洗机，其特征在于：所述进气管上（10）还连接有加热器（15）。3.根据权利要求1所述的一种旋转式多功能硅片清洗机，其特征在于：所述清洗...

【专利技术属性】
技术研发人员：陆敏，
申请(专利权)人：四川晶美硅业科技有限公司，
类型：新型
国别省市：四川,51