【技术实现步骤摘要】
晶圆弹性应变测量装置
本技术涉及半导体制造
,尤其涉及一种晶圆弹性应变测量装置。
技术介绍
随着平面型闪存存储器的发展,半导体的生产工艺取得了巨大的进步。但是最近几年,平面型闪存的发展遇到了各种挑战:物理极限、现有显影技术极限以及存储电子密度极限等。在此背景下,为解决平面闪存遇到的困难以及追求更低的单位存储单元的生产成本,各种不同的三维(3D)闪存存储器结构应运而生,例如3DNOR(3D或非)闪存和3DNAND(3D与非)闪存。其中,3DNAND存储器以其小体积、大容量为出发点,将存储单元采用三维模式层层堆叠的高度集成为设计理念,生产出高单位面积存储密度、高效存储单元性能的存储器,已经成为新兴存储器设计和生产的主流工艺。晶圆键合工艺由于能够实现三维器件更高层数的堆叠,因而引起了越来越多的关注。但是,由于晶圆键合工艺发展历史较短,键合工艺的良率受前制程影响较大,而目前对于前制程的监测系统并不完善,导致晶圆键合质量较差,严重影响三维存储器的性能。因此,如何改善晶圆键合质量,确保三维存储器性能的稳定性,是目前亟待解决的技术问题。
技术实现思路
本技术提供一种晶圆弹性应变测 ...
【技术保护点】
1.一种晶圆弹性应变测量装置,其特征在于,包括:承载部,具有晶圆承载面和位于所述晶圆承载面的充气孔;设置于所述承载部并围绕所述充气孔的固定部,所述固定部用于将晶圆的表面边缘固定并贴合在所述晶圆承载面上,使得在向所述充气孔内通入气体时能使晶圆发生形变并与所述晶圆承载面之间形成腔体;检测部,用于测量通入气体后所述晶圆的形变量。
【技术特征摘要】
1.一种晶圆弹性应变测量装置,其特征在于,包括:承载部,具有晶圆承载面和位于所述晶圆承载面的充气孔;设置于所述承载部并围绕所述充气孔的固定部,所述固定部用于将晶圆的表面边缘固定并贴合在所述晶圆承载面上,使得在向所述充气孔内通入气体时能使晶圆发生形变并与所述晶圆承载面之间形成腔体;检测部,用于测量通入气体后所述晶圆的形变量。2.根据权利要求1所述的晶圆弹性应变测量装置,其特征在于,所述承载部为吸盘。3.根据权利要求1所述的晶圆弹性应变测量装置,其特征在于,所述固定部为若干呈环状间隔排布的吸附孔。4.根据权利要求3所述的晶圆弹性应变测量装置,其特征在于,所述吸附孔与所述承载部中心之间的距离为140mm~150mm。5.根据权利要求1所述的晶圆弹性应变测量装置,其特征在于,还包括:位于所述晶圆承载面上的凹槽,所述充气孔位于所述凹槽的底部,所述固定部位于所述凹槽的外侧。6...
【专利技术属性】
技术研发人员:郭帅,
申请(专利权)人:长江存储科技有限责任公司,
类型:新型
国别省市:湖北,42
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