曝光装置以及物品的制造方法制造方法及图纸

技术编号:19932970 阅读:37 留言:0更新日期:2018-12-29 04:06
本发明专利技术涉及曝光装置及物品的制造方法。提供曝光装置,具有:载置台,保持基板使该基板移动;控制部,控制载置台;第1测量部,在被载置台保持的基板的拍摄区域到达对拍摄区域曝光的曝光区域之前测量拍摄区域的高度方向的位置;第2测量部,先于第1测量部而测量拍摄区域的高度方向的位置,控制部通过用于根据由第2测量部测量拍摄区域的高度方向的位置而得的第1测量值来使基板在高度方向上移动的第1驱动、用于根据接着第1驱动而由第1测量部测量拍摄区域的高度方向的位置而得的第2测量值和第1测量值来使基板在高度方向上移动的第2驱动控制载置台,以使在拍摄区域到达曝光区域之前使被载置台保持的基板的高度方向的位置成为最终目标位置。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置以及物品的制造方法
本专利技术涉及曝光装置以及物品的制造方法。
技术介绍
在使用光刻技术来制造半导体器件等时,使用一边对掩模和基板进行扫描一边将掩模的图案转印到基板的步进扫描方式的曝光装置(扫描仪)。在日本特开2014-143429号公报中提出了在这样的曝光装置中设置多个测量部,该测量部测量被基板载置台保持的基板的表面位置(高度方向的位置)。在日本特开2014-143429号公报中公开了一种曝光装置,该曝光装置具有:第1测量部(提前读取传感器),测量从曝光狭缝的投影位置相对于扫描方向远离的位置;以及第2测量部(更提前读取传感器),测量从曝光狭缝的投影位置比第1测量部更加远离的位置。另外,扫描曝光中的基板的曝光对象区域向最佳曝光位置对齐是通过根据第2测量部的测量结果来驱动基板载置台的第1驱动、以及根据第1测量部的测量结果来驱动基板载置台的第2驱动来进行的。这里,所谓最佳曝光位置是适当的高度方向的位置,是曝光狭缝(像面)的最佳聚焦位置以及相对于该最佳聚焦位置而处于容许焦深的范围内的位置。进而,在日本特开2003-254710号公报中提出了作为测量被基板载置台保持的基板的表面位置的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种曝光装置,一边使掩模和基板移动一边曝光所述基板,从而将图案转印到所述基板上,所述曝光装置的特征在于,具有:载置台,保持所述基板使该基板移动;控制部,控制所述载置台;第1测量部,在被所述载置台保持的所述基板的拍摄区域到达对所述拍摄区域进行曝光的曝光区域之前,测量所述拍摄区域的高度方向的位置;以及第2测量部,先于所述第1测量部而测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置,所述控制部通过第1驱动和第2驱动控制所述载置台,以使在所述拍摄区域到达所述曝光区域之前使被所述载置台保持的所述基板的所述高度方向的位置成为最终目标位置,其中,该第1驱动用于根据由所述第2测量部测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置...

【技术特征摘要】
2017.06.21 JP 2017-1215611.一种曝光装置,一边使掩模和基板移动一边曝光所述基板,从而将图案转印到所述基板上,所述曝光装置的特征在于,具有:载置台,保持所述基板使该基板移动;控制部,控制所述载置台;第1测量部,在被所述载置台保持的所述基板的拍摄区域到达对所述拍摄区域进行曝光的曝光区域之前,测量所述拍摄区域的高度方向的位置;以及第2测量部,先于所述第1测量部而测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置,所述控制部通过第1驱动和第2驱动控制所述载置台,以使在所述拍摄区域到达所述曝光区域之前使被所述载置台保持的所述基板的所述高度方向的位置成为最终目标位置,其中,该第1驱动用于根据由所述第2测量部测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置而得到的第1测量值来使所述基板在所述高度方向上移动,该第2驱动接着所述第1驱动,该第2驱动用于根据由所述第1测量部测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置而得到的第2测量值和所述第1测量值来使所述基板在所述高度方向上移动。2.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述控制部控制由所述第1测量部以及所述第2测量部分别测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置的定时,以使所述第1测量部和所述第2测量部测量所述拍摄区域的相同的测量对象部位的所述高度方向的位置。3.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述控制部根据所述第1测量值与所述第2测量值的平均值来求出所述第2驱动下的所述基板的所述高度方向的目标位置,在所述第2驱动下,以使被所述载置台保持的所述基板的所述高度方向的位置成为所述目标位置的方式控制所述载置台。4.根据权利要求1所述的曝光装置,其特征在于,所述控制部对所述第1测量值以及所述第2测量值分别施加权重,求出所述第2驱动下的所述基板的所述高度方向的目标位置,在所述第2驱动下,以使被所述载置台保持的所述基板的所述高度方向的位置成为所述目标位置的方式控制所述载置台。5.根据权利要求3所述的曝光装置,其特征在于,所述控制部根据由所述第1测量部测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置时的所述载置台的加速度与由所述第2测量部测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置时的所述载置台的加速度之间的关系来决定要对所述第1测量值以及所述第2测量值分别施加的权重。6.根据权利要求3所述的曝光装置,其特征在于,所述控制部根据由所述第1测量部测量所述拍摄区域的所述高度方向的位置时的所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:早川崇志佐藤隆纪
申请(专利权)人:佳能株式会社
类型:发明
国别省市:日本,JP

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