一种基底支撑机构以及一种曝光装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种基底支撑机构以及一种曝光装置，所述基底支撑机构包括一具有镂空部的基底支撑板和多个设于所述基底支撑板上的定位块，所述基底支撑板与多个所述定位块构成一容置空间，所述基底支撑板具有一支撑面以及一与所述支撑面相边的端面。所述曝光装置在对基底背面进行曝光时所述支撑面对基底起到稳固支撑的作用，而又由于所述端面的所述倾斜面的存在，使得所述端面阴影对基底的影响很小甚至忽略不计，从而使得基底背面整个图形区域曝光。另外，所述定位块具有一导向面，所述导向面对着所述镂空部且向所述支撑面中心倾斜，所述通过所述导向面可以使在放置过程中的基底能由于自身重力下滑而复位。

【技术实现步骤摘要】
一种基底支撑机构以及一种曝光装置
本技术涉及光刻
，特别涉及一种基底支撑机构以及一种曝光装置。
技术介绍
图形化蓝宝石衬底，简称PSS(PatternedSapphireSubstrate)，也就是在蓝宝石衬底上生长干法刻蚀用掩膜，用标准的光刻工艺将掩膜刻出图形，利用ICP刻蚀技术刻蚀蓝宝石并去掉掩膜，再在其上生长GaN(氮化镓)材料，使GaN材料的纵向外延变为横向外延。制作工艺包括清洗、匀胶、烘烤、冷却、制作图形化基底、人工目检、刻蚀和自动检测等步骤。在制作图形化衬底的步骤中，机械手需将正面曝光完成的基底放置在曝光装置中进行背面曝光，曝光装置中的支撑板用于支撑需要进行曝光的基底，由于机械手操作误差比较大，故整个曝光装置的稳定性严重影响到曝光的质量。支撑板常用定位点来限制基底的放置位置，对于基底而言，距离基底边缘2mm为无效区(无图形区)，为保证定位的相对准确性，在进行基底支撑时，支撑板的定位点需设在距基底边缘2mm范围内，这样使得定位点可调节范围比较小，故如何选择合适的定位点以实现对基底进行高精度曝光是我们需要解决的难题。
技术实现思路
本技术的目的在于提供一种基底支撑机构以及一种曝本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种基底支撑机构，其特征在于，所述基底支撑机构包括一具有镂空部的基底支撑板和多个设于所述基底支撑板上的定位块，所述基底支撑板与多个所述定位块构成一容置空间；所述基底支撑板具有一支撑面以及一与所述支撑面相连的端面，所述支撑面呈圆环或圆弧形状并围绕所述镂空部，所述端面包括一倾斜面，所述倾斜面向远离所述支撑面中心的方向倾斜。

【技术特征摘要】
1.一种基底支撑机构，其特征在于，所述基底支撑机构包括一具有镂空部的基底支撑板和多个设于所述基底支撑板上的定位块，所述基底支撑板与多个所述定位块构成一容置空间；所述基底支撑板具有一支撑面以及一与所述支撑面相连的端面，所述支撑面呈圆环或圆弧形状并围绕所述镂空部，所述端面包括一倾斜面，所述倾斜面向远离所述支撑面中心的方向倾斜。2.如权利要求1所述的基底支撑机构，其特征在于，所述支撑面的截面宽度为0mm～1.86mm。3.如权利要求1所述的基底支撑机构，其特征在于，所述定位块具有一导向面，所述导向面对着所述镂空部且向所述支撑面中心倾斜。4.如权利要求1所述的基底支撑机构，其特征在于，所述定位块个数为三个，三个所述定位块呈三角形排布。5.如权利要求1所述的基底支撑机构，其特征在于，所述倾斜面直接与所述支撑面相连；或者，所述端面还包括一竖直面，所述竖直面与所述支撑面垂直相连，所述倾斜面通过所述竖直面与所述支撑面相连。6.一种曝光装置，其特征在于，所述曝光装置包括：一曝光机构、一框架机构以及至少一如权利要求1～5中任一项所述的基底支撑机构；所述曝光机构和所述基底支撑机构均设置于所述框架机构内，并且所述基底支撑机构位于所述曝光机构上方。7.如权利要求6所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：王春兰，赵灿武，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31