一种数字光刻系统光强不均匀度的测定及校正方法技术方案

一种数字光刻系统光强不均匀度的测定及校正方法，其特征在于，包括以下步骤：光强不均匀度的测定，对CCD相机标定，以去除CCD随机噪声对测定结果的影响；将DMD物面分为N×N的矩形区域阵列；利用已标定的CCD相机在光刻系统的像面位置采集每一个矩形区域的灰度值，取采集结果的平均值，去除随机误差的影响，得到每一个矩形区域的光强分布；将区域的光强分布图合并，得到像面的整体光强分布图；将合并的像面光强分布图根据光刻物镜的放大倍率的倒数，放大至实际的矩形区域尺寸，得到整体光强分布；光强不均匀度的校正；各行叠加后，获取一维光强分布；选取所述一维分布中最小值作为基准值；获取需关闭的像素；获取照明校正板。

【技术实现步骤摘要】
一种数字光刻系统光强不均匀度的测定及校正方法
本专利技术涉及数字光刻
，特别是涉及一种数字光刻系统光强不均匀度的测定及校正方法。
技术介绍
DMD(DigitalMicromirrorDevices)，中文名称为数字微镜阵列，具有较高的分辨率、对比度、灰度等级和响应速度等优点，不仅已成功地应用于数字投影设备，近几年其应用领域得到较大地扩展，其中包括数字光刻。基于DMD的数字光刻系统是近几年兴起的新型微细加工设备，它被应用于诸多加工领域，包括印制电路板、微光学元件、3D模型等。该系统主要包括照明光源、数字微镜以及投影光刻物镜。其中照明光源的均匀度直接影响光刻图案的曝光质量，为了保证较好的刻写线条，照明光源的均匀度指标一般在95％以上。目前，对于高压汞灯、激光光源和LED光源，普遍从光学方法上进行匀光，比如使用匀光棒、微透镜阵列等，从而导致整个系统的结构复杂，并且对装调精度要求较高，因此需要一种快捷的数字光刻系统光强不均匀度的测定及校正方法用于测定并且校正系统光强。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种数字光刻系统光强不均匀度的测定及校正方法，解决了现有技术中存在的系统结构复杂以本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种数字光刻系统光强不均匀度的测定及校正方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，光强不均匀度的测定，步骤101，利用积分球或分布光度计对CCD相机标定，以去除CCD随机噪声对测定结果的影响；步骤102，将DMD物面分为N×N的矩形区域阵列；步骤103，利用已标定的CCD相机在光刻系统的像面位置B次采集每一个矩形区域的灰度值，取B次采集结果的平均值，去除随机误差的影响，得到每一个矩形区域的光强分布；步骤104，将区域的光强分布图合并，得到像面的整体光强分布图；步骤105，将合并的像面光强分布图根据光刻物镜的放大倍率的倒数1/M，放大至DMD物面实际的矩形区域尺寸，得到DMD面上的整体光强分布...

【技术特征摘要】
1.一种数字光刻系统光强不均匀度的测定及校正方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤1，光强不均匀度的测定，步骤101，利用积分球或分布光度计对CCD相机标定，以去除CCD随机噪声对测定结果的影响；步骤102，将DMD物面分为N×N的矩形区域阵列；步骤103，利用已标定的CCD相机在光刻系统的像面位置B次采集每一个矩形区域的灰度值，取B次采集结果的平均值，去除随机误差的影响，得到每一个矩形区域的光强分布；步骤104，将区域的光强分布图合并，得到像面的整体光强分布图；步骤105，将合并的像面光强分布图根据光刻物镜的放大倍率的倒数1/M，放大至DMD物面实际的矩形区域尺寸，得到DMD面上的整体光强分布；步骤2，光强不均匀度的校正；步骤201，各行叠加后，获取一...

【专利技术属性】
技术研发人员：卢振武，
申请(专利权)人：长春长光中天光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：吉林,22