一种用于大口径光学薄膜元件制备的真空镀膜机制造技术

本发明专利技术公开了一种用于大口径光学薄膜元件制备的真空镀膜机，属于薄膜光学领域，与常规真空镀膜机相比，除了装配真空模块、蒸发源模块、薄膜厚度/速度监控模块和温度控制模块以外，还配置了特殊设计的行星旋转夹具模块，其特征在于行星旋转夹具的公转半径可调，能够实现尺寸大于真空镀膜室半径的大口径光学薄膜元件制备。另外，通过在蒸发源模块和大口径光学薄膜元件间配置修正挡板模块，实现真空镀膜过程中大口径光学薄膜元件上薄膜厚度分布优化。本发明专利技术公开的真空镀膜机特别适用于尺寸大于真空镀膜室半径的大口径光学薄膜元件制备，这是常规真空镀膜机不能实现的。

【技术实现步骤摘要】
一种用于大口径光学薄膜元件制备的真空镀膜机
本专利技术涉及真空镀膜机的
，具体涉及一种用于大口径光学薄膜元件制备的真空镀膜机。
技术介绍
随着科学技术的发展，光学系统设计日益精密，光学元件口径也越来越大。通常必须在大口径光学元件表面镀制具有特殊设计的光学薄膜，提高光学元件的性能来满足光学系统的性能需求。真空镀膜技术具有简单便利、操作容易、成膜速度快、膜层质量高等特点，是光学薄膜制备中最为广泛使用的技术。对于大口径光学薄膜元件制备，国内外真空镀膜机主要配置行星旋转夹具系统(J.B.Oliver,"Analysisofaplanetary-rotationsystemforevaporatedopticalcoatings,"Appl.Opt.,55(2016),8550-8555)。真空镀膜机的行星旋转夹具系统，通常是公转半径固定，且公转半径大于或者等于真空镀膜室半径的二分之一。如此配置的真空镀膜机使得能完成真空镀膜的光学元件尺寸严重受限。以真空室直径800mm的真空镀膜机为例，当行星旋转夹具系统水平放置时，最大只能完成口径为400mm的光学薄膜元件制备。为实现口径为650mm的本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于大口径光学薄膜元件制备的真空镀膜机，其特征在于：该真空镀膜机包括：真空模块(1)、蒸发源模块(2)、薄膜厚度/速度监控模块(3)、温度控制模块(4)和特殊配置的行星旋转夹具模块(5)；真空模块(1)通过真空管道连接到真空镀膜室(6)，实现真空环境镀膜；蒸发源模块(2)位于真空镀膜室(6)底部，实现薄膜材料的沉积镀膜；薄膜厚度/速度监控模块(3)位于真空镀膜室(6)内部，实现真空镀膜时薄膜工艺参数控制；温度控制模块(4)在真空镀膜室(6)内，实现薄膜制备过程中真空镀膜室(6)温度监控；所述特殊配置的行星旋转夹具模块(5)，位于真空镀膜室(6)顶部，用于大口径光学薄膜元件(7)夹持，行...

【技术特征摘要】
1.一种用于大口径光学薄膜元件制备的真空镀膜机，其特征在于：该真空镀膜机包括：真空模块(1)、蒸发源模块(2)、薄膜厚度/速度监控模块(3)、温度控制模块(4)和特殊配置的行星旋转夹具模块(5)；真空模块(1)通过真空管道连接到真空镀膜室(6)，实现真空环境镀膜；蒸发源模块(2)位于真空镀膜室(6)底部，实现薄膜材料的沉积镀膜；薄膜厚度/速度监控模块(3)位于真空镀膜室(6)内部，实现真空镀膜时薄膜工艺参数控制；温度控制模块(4)在真空镀膜室(6)内，实现薄膜制备过程中真空镀膜室(6)温度监控；所述特殊配置的行星旋转夹具模块(5)，位于真空镀膜室(6)顶部，用于大口径光学薄膜元件(7)夹持，行星旋转夹具的公转半径R1可调；设定行星旋转夹具的公转半径R1和真空镀膜室(6)半径R2后，该真空镀膜机能够制备最大口径为D＝2(R2-R1)的光学薄膜元件(7)；在R1<R2/...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭春，孔明东，
申请(专利权)人：中国科学院光电技术研究所，
类型：发明
国别省市：四川,51