一种PEVCD卧式石墨舟结构制造技术

一种PEVCD卧式石墨舟结构，包括多个固定杆、多个石墨舟片，所述的固定杆竖直间隔设置在石英炉管内，呈阵列排列；所述的石墨舟片水平设置且层叠间隔固定在所述的固定杆上，所述的固定杆、石墨舟片整体设置在石英炉管的内部，采用了石墨舟片水平的设置，硅片水平放入，当石墨舟结构在石英炉管里放置不水平的时候，硅片也还是贴合石墨舟片的，镀减反膜工艺后的硅片不会出现绕镀，硅片四周也不会产生黑边的问题，降低了硅片镀减反膜的不良率。

【技术实现步骤摘要】
一种PEVCD卧式石墨舟结构
本技术涉及太阳能硅片的制作领域，更具体地说是一种PEVCD卧式石墨舟结构。
技术介绍
在光伏行业，据测算，光在硅表面的反射损失率高达35%左右，减反膜可以极高地提高电池片对太阳光的利用率，有助于提高光生电流密度，进而提高转换效率。PECVD用于对单晶硅片、多晶硅片的表面镀减反膜。在本行业的发展中，人们一直在追求工艺的提升，提升镀减反膜的良品率。其中，石墨舟结构在工艺提升方面也有至关重要的作用。如图3和图4，目前市场上的石墨舟结构采用了立式镀减反膜的结构，石墨舟片2竖直设置，均匀层叠间隔的固定在固定杆1上，在需要镀反射膜时，把硅片竖直放置在石墨舟片之间，与石墨舟片贴合，最后把整个石墨舟结构放置在石英炉管内镀减反膜，由于硅片6需要竖直放置，所以也在石墨舟片上设置卡点（图中未示出），以防止硅片脱落。当石墨舟结构在石英炉管里放置不水平的时候，会出现硅片表面与石墨舟片表面贴合不紧的情况，从而导致硅片导电不良，工艺后的硅片出现绕镀，硅片四周会产生黑边，致使不良品率升高。因此，需要一种新型的石墨舟结构来降低硅片镀减反膜工艺的不良率。
技术实现思路
本技术的目的是提供PEVCD卧式石墨舟结构，把石墨舟片水平设置，硅片能够水平放在石墨舟片上，提高硅片镀减反膜的良率。为达上述目的，本技术采用的技术方案如下：一种PEVCD卧式石墨舟结构，包括多个固定杆、多个石墨舟片，所述的固定杆竖直间隔设置在石英炉管内，呈阵列排列；所述的石墨舟片水平设置且层叠间隔固定在所述的固定杆上，所述的固定杆、石墨舟片整体设置在石英炉管的内部。优选地，所述石墨舟片上设置有多个第一通孔，所述的固定杆穿过第一通孔，每两层石墨舟片之间还设置有分隔件，该分隔件上设置有第二通孔，所述的固定杆穿过所述的分隔件上的第二通孔。优选地，所述的分隔件为圆柱状或是方块状。优选地，石英炉管轴心两侧的固定杆的底部还固定设置有多个底座，该底座与石英炉管的内壁贴合。优选地，所述的底座为类L型结构，包括水平壁和弧形壁，该水平壁固定设置在最下面的两个石墨舟片之间，该弧形壁的弧形外径与石英炉管的内径配合。优选地，所述的水平壁上设置有第三通孔，固定杆穿过第三通孔。优选地，所述的固定杆两端设置有螺纹，石墨舟片通过固定杆上的螺纹和螺母固定。一种卧式硅片镀减反膜机，包括了上述的PEVCD卧式石墨舟结构。与现有技术相比，本技术至少具有以下有益效果：本技术PEVCD卧式石墨舟结构，采用了把石墨舟片水平设置，硅片水平放置在石墨舟片上，当石墨舟结构在石英炉管里放置不水平的时候，硅片也是贴合石墨舟片的，镀减反膜工艺后的硅片不会出现绕镀，硅片四周也不会产生黑边；由于硅片的放置面方向与水平方向平行，故不再需要卡点，所以镀膜工艺后的硅片表面不会留有印迹,降低了镀减反膜的不良率。附图说明图1为一实施例的侧视图；图2为图1的立体结构图；图3为现通用的结构侧视图；图4为图3的立体结构图。标号说明：1、固定杆2、石墨舟片3、石英炉管4、分隔件5底座6硅片51、水平壁52、弧形壁。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术做进一步说明。参照图1和图2，本技术一实施例提供一种PEVCD卧式石墨舟结构，该结构包括：固定杆1、石墨舟片2，其中固定杆均匀间隔竖直设置，阵列排列在使用状态（即镀减反膜工艺）时的石英炉管3的内部；石墨舟片为块状结构，水平固定在固定杆1上，从下向上层叠，每两个石墨舟片2之间设有固定间距。如此设置是为了把硅片6的插入方式由原来通用设备的竖直插入改成直接水平插入，所以硅片6是水平放在石墨舟片上的，在使用的过程中把放有硅片6的石墨舟结构整体放置在石英炉管3内，然后进行镀减反膜工艺，即使石墨舟结构放置不太水平，硅片也是贴合在石墨舟片上的，镀减反膜工艺后的硅片不会出现绕镀，硅片四周也不会产生黑边等不良问题，由于硅片的放置面方向与水平方向平行，所以不再需要像现通用的设备一样另外设置卡点结构，那么工艺后的硅片表面不会留有印迹，同时也使本结构较其它现通用设备更加简洁，方便。石墨舟片2上设置有多个第一通孔（图中未标记），这些通孔的数量与固定杆1的数量相同，每个固定杆穿过第一通孔，为了使每两层石墨舟片间有固定的间距，每两层石墨舟片之间还设置有分隔件4，分隔件上设置的有第二通孔（图中未标记），每个分隔件也通过第二通孔套在固定杆1上，其用于固定每两层石墨舟片的间距，确保结构的稳定性。分隔件设置为圆柱状或是方块状。在本实施例中，石英炉管轴心两侧的固定杆的底部还固定设置有多个底座5，底座5是起到了支撑的作用，是为了使石墨舟片2平稳的放置在石英炉管3内。该底座5设置为类L型结构，包括水平壁51和弧形壁52，水平壁上设置有第三通孔（图中未标记),水平壁设置在最下层两块石墨舟片之间，并且固定杆1穿过第三通孔；弧形壁的弧形边的直径与石英炉管的内壁直径相同，这样可以使整个装置更加稳定的放置在石英炉管3的，同时也方便调整石墨舟片的水平度。本实施例中底座设置有四个，分别设置在石墨舟片四个角处的固定杆上（图2中仅显示了两个底座），此设置类似汽车的四个轮子，用四个支撑点来支撑汽车的主体。固定杆两端还设置有螺纹，用螺母分别固定两端，把石墨舟片、固定杆、底座固定在一起。另一个实施例提供的一种PEVCD卧式石墨舟结构，与上述实施例不同的地方在于，石墨舟片焊接在固定杆上，不设置分隔件；定位杆设置较长，不设置底座，用定位杆的下端来代替底座，与石英炉管配合。本实施方式还保护一种卧式硅片镀减反膜机，该镀减反膜机包括上述的石墨舟结构，采用了石墨舟片和硅片水平设置的方式，较现用的竖直设置设备，硅片插入不到位时，也不会产生掉片的现象，减少了不良率的发生。在一种自动放置硅片的镀减反膜机中，采用三列固定杆1（如图1所示），每两列固定杆之间的位置放置硅片，自动设备采用从左右两个方向水平插入硅片的方式，这样可以方便的插入硅片；也可以采用两列固定杆，从左或是从右插入硅片，这样都可以方便的自动插入硅片。此镀减反膜机上不适宜设置超过三列的固定杆，不利于插入硅片。在另一种手工放置硅片的的镀减反膜机中，则可以不限制固定杆的列数，固定杆的列数可以超过三列，只需要石英炉管的直径足够大即可，人工都是可以实现插入硅片的。上述通过具体实施例对本技术进行了详细的说明，这些详细的说明仅仅限于帮助本领域技术人员理解本技术的内容，并不能理解为对本技术保护范围的限制。本领域技术人员在本技术构思下对上述方案进行的各种润饰、等效变换等均应包含在本技术的保护范围内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种PEVCD卧式石墨舟结构，其特征在于：包括多个固定杆（1）、多个石墨舟片（2），所述的固定杆（1）竖直间隔设置在石英炉管（3）内，呈阵列排列；所述的石墨舟片（2）水平设置且层叠间隔固定在所述的固定杆（1）上，所述的固定杆（1）、石墨舟片（2）整体设置在石英炉管（3）的内部。

【技术特征摘要】
1.一种PEVCD卧式石墨舟结构，其特征在于：包括多个固定杆（1）、多个石墨舟片（2），所述的固定杆（1）竖直间隔设置在石英炉管（3）内，呈阵列排列；所述的石墨舟片（2）水平设置且层叠间隔固定在所述的固定杆（1）上，所述的固定杆（1）、石墨舟片（2）整体设置在石英炉管（3）的内部。2.根据权利要求1所述的PEVCD卧式石墨舟结构，其特征在于：所述石墨舟片（2）上设置有多个第一通孔，所述的固定杆（1）穿过第一通孔，每两层石墨舟片之间还设置有分隔件（4），该分隔件上设置有第二通孔，所述的固定杆（1）穿过所述的分隔件上的第二通孔。3.根据权利要求2所述的PEVCD卧式石墨舟结构，其特征在于：所述的分隔件（4）为圆柱状或是方块状。4.根据权利要求1所述的PEVCD卧式石墨舟结...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨宝立，李时俊，伍波，张勇，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：广东,44