System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 镀膜设备及镀膜方法技术_技高网

镀膜设备及镀膜方法技术

技术编号:40993117 阅读:2 留言:0更新日期:2024-04-18 21:34
本发明专利技术公开了一种镀膜设备及镀膜方法,属于镀膜设备及镀膜方法领域,镀膜设备包括设备本体和输送机构,设备本体内设置有相连通的进出料腔、第一镀膜腔、第二镀膜腔、第三镀膜腔、第四镀膜腔和第五镀膜腔,第一镀膜腔内可以进行蒸镀镀膜,第二镀膜腔内可以进行RF溅射镀膜,第三镀膜腔内可以进行RPD镀膜,第四镀膜腔内可以进行脉冲直流溅射镀膜,第五镀膜腔内可以进行直流溅射镀膜,输送机构安装于设备本体内,输送机构用于输送基板在各腔室之间流转。将RPD、多源蒸镀、RF溅射、脉冲直流溅射和直流溅射等多种真空镀膜技术整合到一台设备上,实现真空状态下连续沉积,可减少设备的占地面积,可以节省成本。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光伏镀膜设备,特别涉及一种镀膜设备及镀膜方法


技术介绍

1、随着光伏产业的不断发展,钙钛矿太阳电池产业化上的设备方案渐渐趋于趋向真空镀膜设备。rpd、多源蒸镀、rf溅射、脉冲直流溅射和直流溅射等多种技术受到钙钛矿太阳电池客户的青睐,但设备功能的单一性,不能满足真空状态薄膜连续沉积的工艺需求。基于钙钛矿太阳电池的耐候性差,环境中的水汽和氧气会对钙钛矿层起到分解作用,破坏器件结构稳定性,降低钙钛矿太阳电池器件效率。而现有的钙钛矿太阳电池真空镀膜工艺设备常为单一设备负责其中一段工序,需要多台设备完成器件制备,并且工艺流程中需要经历多次破空,导致了设备投入成本和实验成本增加。


技术实现思路

1、本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本专利技术提出一种镀膜设备及镀膜方法,解决了现有的钙钛矿太阳电池真空镀膜工艺设备常为单一设备负责其中一段工序,需要多台设备完成器件制备,并且工艺流程中需要经历多次破空,导致了设备投入成本和实验成本增加的问题。

2、根据本专利技术实施例的镀膜设备,包括:

3、设备本体,所述设备本体内设置有相连通的进出料腔、第一镀膜腔、第二镀膜腔、第三镀膜腔、第四镀膜腔和第五镀膜腔,所述第一镀膜腔内可以进行蒸镀镀膜,所述第二镀膜腔内可以进行rf溅射镀膜,所述第三镀膜腔内可以进行rpd镀膜,所述第四镀膜腔内可以进行脉冲直流溅射镀膜,所述第五镀膜腔内可以进行直流溅射镀膜;

4、输送机构,安装于所述设备本体内,所述输送机构用于输送基板在各腔室之间流转。

5、根据本专利技术实施例的镀膜设备,至少具有如下有益效果:

6、进出料腔可以进出料,输送机构可以将基板输送至第一镀膜腔或第二镀膜腔或第三镀膜腔或第四镀膜腔或第五镀膜腔内进行镀膜。

7、将rpd、多源蒸镀、rf溅射、脉冲直流溅射和直流溅射等多种真空镀膜技术整合到一台设备上,实现真空状态下连续沉积。可显著减少钙钛矿电池设备的占地面积、降低资本支出和试验成本,同时可在保持真空状态完成多层膜沉积,有效提升钙钛矿电池的生产效率。

8、根据本专利技术的一些实施例,所述设备本体内还设置有用于缓存基板的第一缓冲腔、第二缓冲腔、第三缓冲腔、第四缓冲腔、第五缓冲腔、第六缓冲腔、第七缓冲腔、第八缓冲腔和第九缓冲腔,所述第二缓冲腔、所述第一镀膜腔、所述第一缓冲腔、所述进出料腔、所述第五缓冲腔、所述第三镀膜腔、所述第六缓冲腔、所述第七缓冲腔、所述第四镀膜腔、所述第八缓冲腔、所述第五镀膜腔和所述第九缓冲腔从左至右依次连通,所述进出料腔、所述第三缓冲腔、所述第二镀膜腔和所述第四缓冲腔从前至后依次连通。

9、根据本专利技术的一些实施例,所述设备本体上设置有连通所述进出料腔的进出料口,所述设备本体上设置有用于打开或关闭所述进出料口的第一门阀,所述设备本体内设置有第二门阀、第三门阀和第四门阀,所述第二门阀位于所述进出料腔和所述第一缓冲腔之间,所述第二门阀用于连通或隔开所述进出料腔和所述第一缓冲腔,所述第三门阀位于所述进出料腔和所述第三缓冲腔之间,所述第三门阀用于连通或隔开所述进出料腔和所述第三缓冲腔,所述第四门阀位于所述进出料腔和所述第五缓冲腔之间,所述第四门阀用于连通或隔开所述进出料腔和所述第五缓冲腔。

10、根据本专利技术的一些实施例,所述设备本体内还设置有第五门阀,所述第五门阀位于所述第六缓冲腔和第七缓冲腔之间,所述第五门阀用于连通或隔开所述第六缓冲腔和第七缓冲腔。

11、根据本专利技术的一些实施例,镀膜设备还包括用于抽真空的第一抽气设备、第二抽气设备、第三抽气设备和第四抽气设备,所述第一抽气设备连通所述进出料腔,所述第二抽气设备连通所述第一镀膜腔,所述第三抽气设备连通所述第三镀膜腔,所述第四抽气设备连通所述第四镀膜腔和第五镀膜腔。

12、根据本专利技术的一些实施例,所述第二抽气设备、所述第三抽气设备和所述第四抽气设备连接有冷阱,所述第四缓冲腔和所述第八缓冲腔内设置有用于预热基板的加热器。

13、根据本专利技术实施例的镀膜方法,包括以下步骤:

14、s1:基板输送至进出料腔;

15、s2:进出料腔、第一镀膜腔、第二镀膜腔、第三镀膜腔、第四镀膜腔和第五镀膜腔抽真空;

16、s3:输送机构带动基板进入第一镀膜腔或第二镀膜腔或第三镀膜腔或第四镀膜腔或第五镀膜腔内进行镀膜;

17、s4:输送机构带动基板回到进出料腔;

18、s5:基板从进出料腔输出。

19、根据本专利技术实施例的镀膜设备,至少具有如下有益效果:

20、进出料腔可以进出料,输送机构可以将基板输送至第一镀膜腔或第二镀膜腔或第三镀膜腔或第四镀膜腔或第五镀膜腔内进行镀膜。

21、将rpd、多源蒸镀、rf溅射、脉冲直流溅射和直流溅射等多种真空镀膜技术整合到一台设备上,实现真空状态下连续沉积。可显著减少钙钛矿电池设备的占地面积、降低资本支出和试验成本,同时可在保持真空状态完成多层膜沉积,有效提升钙钛矿电池的生产效率。

22、根据本专利技术的一些实施例,所述步骤s3中,可以依据工艺需求在同一镀膜腔内往返多次镀膜或不同镀膜腔结合连续镀膜。

23、根据本专利技术的一些实施例,所述步骤s2中,抽真空时,第一抽气设备先工作,将气压从大气降到1pa,第二抽气设备、第三抽气设备和第四抽气设备才开始工作,将真空度降到10-5pa。

24、根据本专利技术的一些实施例,所述步骤s1中,第一门阀打开,基板沿进出料口进入进出料腔后,第一门阀关闭;

25、所述步骤s2中,抽真空时,第一门阀关闭,第二门阀、第三门阀、第四门阀和第五门阀打开,抽真空完成后,第二门阀、第三门阀、第四门阀和第五门阀关闭;

26、所述步骤s4中,第一门阀打开,基板沿进出料口从进出料腔输出后,第一门阀关闭。

27、本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出。

本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种镀膜设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述设备本体内还设置有用于缓存基板的第一缓冲腔、第二缓冲腔、第三缓冲腔、第四缓冲腔、第五缓冲腔、第六缓冲腔、第七缓冲腔、第八缓冲腔和第九缓冲腔,所述第二缓冲腔、所述第一镀膜腔、所述第一缓冲腔、所述进出料腔、所述第五缓冲腔、所述第三镀膜腔、所述第六缓冲腔、所述第七缓冲腔、所述第四镀膜腔、所述第八缓冲腔、所述第五镀膜腔和所述第九缓冲腔从左至右依次连通,所述进出料腔、所述第三缓冲腔、所述第二镀膜腔和所述第四缓冲腔从前至后依次连通。

3.根据权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,所述设备本体上设置有连通所述进出料腔的进出料口,所述设备本体上设置有用于打开或关闭所述进出料口的第一门阀,所述设备本体内设置有第二门阀、第三门阀和第四门阀,所述第二门阀位于所述进出料腔和所述第一缓冲腔之间,所述第二门阀用于连通或隔开所述进出料腔和所述第一缓冲腔,所述第三门阀位于所述进出料腔和所述第三缓冲腔之间,所述第三门阀用于连通或隔开所述进出料腔和所述第三缓冲腔,所述第四门阀位于所述进出料腔和所述第五缓冲腔之间,所述第四门阀用于连通或隔开所述进出料腔和所述第五缓冲腔。

4.根据权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,所述设备本体内还设置有第五门阀,所述第五门阀位于所述第六缓冲腔和第七缓冲腔之间,所述第五门阀用于连通或隔开所述第六缓冲腔和第七缓冲腔。

5.根据权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,还包括用于抽真空的第一抽气设备、第二抽气设备、第三抽气设备和第四抽气设备,所述第一抽气设备连通所述进出料腔,所述第二抽气设备连通所述第一镀膜腔,所述第三抽气设备连通所述第三镀膜腔,所述第四抽气设备连通所述第四镀膜腔和第五镀膜腔。

6.根据权利要求5所述的镀膜设备,其特征在于,所述第二抽气设备、所述第三抽气设备和所述第四抽气设备连接有冷阱,所述第四缓冲腔和所述第八缓冲腔内设置有用于预热基板的加热器。

7.一种使用如权利要求1-6任一项所述的镀膜设备的镀膜方法,其特征在于,包括以下步骤:

8.根据权利要求7所述的镀膜方法,其特征在于,所述步骤S3中,可以依据工艺需求在同一镀膜腔内往返多次镀膜或不同镀膜腔结合连续镀膜。

9.根据权利要求7所述的镀膜方法,其特征在于,所述步骤S2中,抽真空时,第一抽气设备先工作,将气压从大气降到1Pa,第二抽气设备、第三抽气设备和第四抽气设备才开始工作,将真空度降到10-5Pa。

10.根据权利要求7所述的镀膜方法,其特征在于,所述步骤S1中,第一门阀打开,基板沿进出料口进入进出料腔后,第一门阀关闭;

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【技术特征摘要】

1.一种镀膜设备,其特征在于,包括:

2.根据权利要求1所述的镀膜设备,其特征在于,所述设备本体内还设置有用于缓存基板的第一缓冲腔、第二缓冲腔、第三缓冲腔、第四缓冲腔、第五缓冲腔、第六缓冲腔、第七缓冲腔、第八缓冲腔和第九缓冲腔,所述第二缓冲腔、所述第一镀膜腔、所述第一缓冲腔、所述进出料腔、所述第五缓冲腔、所述第三镀膜腔、所述第六缓冲腔、所述第七缓冲腔、所述第四镀膜腔、所述第八缓冲腔、所述第五镀膜腔和所述第九缓冲腔从左至右依次连通,所述进出料腔、所述第三缓冲腔、所述第二镀膜腔和所述第四缓冲腔从前至后依次连通。

3.根据权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,所述设备本体上设置有连通所述进出料腔的进出料口,所述设备本体上设置有用于打开或关闭所述进出料口的第一门阀,所述设备本体内设置有第二门阀、第三门阀和第四门阀,所述第二门阀位于所述进出料腔和所述第一缓冲腔之间,所述第二门阀用于连通或隔开所述进出料腔和所述第一缓冲腔,所述第三门阀位于所述进出料腔和所述第三缓冲腔之间,所述第三门阀用于连通或隔开所述进出料腔和所述第三缓冲腔,所述第四门阀位于所述进出料腔和所述第五缓冲腔之间,所述第四门阀用于连通或隔开所述进出料腔和所述第五缓冲腔。

4.根据权利要求2所述的镀膜设备,其特征在于,所述设备本体内还设置有第五门阀,所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员:陈麒麟满小花葛光星苏超颖陈厚膜王应斌谭小华李国庆
申请(专利权)人:深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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