反应炉及具有该反应炉的镀膜设备制造技术

本技术公开了一种反应炉及具有该反应炉的镀膜设备，反应炉，包括：炉单元，包括炉体、以及设置于炉体的端部的端盖，端盖设有装配孔；管单元，包括管件、SiC护套以及绝缘密封组件，管件穿设于炉体的内部、并穿设于装配孔且从炉体的内部伸出，SiC护套套设于管件外，且SiC护套穿设于炉体的内部、并穿设于装配孔且从炉体的内部伸出，SiC护套与炉单元相间隔，绝缘密封组件套接在SiC护套外、并位于炉体的外部，且绝缘密封组件与端盖连接、并密封装配孔。SiC护套的材质为SiC，在常温下，SiC的热导率约为120W/(m·K)，导热更容易，更快；并且，SiC材质硬度强，承受能力强，在高温冷却的情况下，不易发生形变，不易碎，使用时间长，可靠性高。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及镀膜设备，特别涉及一种反应炉及具有该反应炉的镀膜设备。

技术介绍

1、目前，在管式pecvd((plasma enhanced chemical vapor deposition，等离子体增强化学气相沉积)的镀膜反应中，由于炉体对石墨舟加热不够均匀，需要在炉体的内部添加加热管来辅助加热，另外，为了对炉体内部的温度进行监控，还需要添加温度监测管。

2、相关技术中，常采用石英材质的保护套对加热管和/或温度监测管进行防护，然而，在加热以及冷却过程中，石英保护套容易发生形变在炉内破损，可靠性较差。

技术实现思路

1、本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本技术提出一种可靠性高的反应炉。

2、本技术还提出一种具有上述反应炉的镀膜设备。

3、根据本技术第一方面实施例的反应炉，包括：炉单元，所述炉单元包括炉体、以及设置于所述炉体的端部的端盖，所述端盖设有装配孔；管单元，所述管单元包括管件、sic护套以及绝缘密封组件，所述管件穿设于所述炉体的内部、并穿设于所述装配本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种反应炉，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的反应炉，其特征在于，所述绝缘密封组件包括支撑管以及绝缘密封模块，所述支撑管套设于所述SiC护套外并与所述SiC护套相间隔，且所述支撑管的一端与所述端盖的外侧壁固定连接、并围绕在所述装配孔的外端周围，所述绝缘密封模块套设于所述SiC护套外并密封所述支撑管与所述SiC护套之间的间隙。

3.根据权利要求2所述的反应炉，其特征在于，所述端盖的外侧壁设有围绕所述装配孔设置的定位槽，所述支撑管的一端插设于所述定位槽内。

4.根据权利要求2所述的反应炉，其特征在于，所述绝缘密封模块包括第一绝缘套，所述第一绝...

【技术特征摘要】

1.一种反应炉，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的反应炉，其特征在于，所述绝缘密封组件包括支撑管以及绝缘密封模块，所述支撑管套设于所述sic护套外并与所述sic护套相间隔，且所述支撑管的一端与所述端盖的外侧壁固定连接、并围绕在所述装配孔的外端周围，所述绝缘密封模块套设于所述sic护套外并密封所述支撑管与所述sic护套之间的间隙。

3.根据权利要求2所述的反应炉，其特征在于，所述端盖的外侧壁设有围绕所述装配孔设置的定位槽，所述支撑管的一端插设于所述定位槽内。

4.根据权利要求2所述的反应炉，其特征在于，所述绝缘密封模块包括第一绝缘套，所述第一绝缘套套设于所述sic护套外并抵持在所述支撑管的内壁和所述sic护套的外壁之间。

5.根据权利要求4所述的反应炉，其特征在于，所述支撑管远离所述端盖的一端设有朝所述支撑管的内侧延伸的凸起，所述第一绝缘套的外侧壁与所述凸起抵持。

6.根据权利要求4所述的反应炉，其...

【专利技术属性】
技术研发人员：李学文，刘兵吉，王凯，王郴意，张文，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创新能源装备股份有限公司，
类型：新型
国别省市：