掩膜版及其制造方法和彩色滤光片的制造方法技术

本发明专利技术涉及液晶显示技术领域，公开了一种掩膜版及其制造方法和彩色滤光片的制造方法，所述掩膜版包括玻璃基板和设置于所述玻璃基板上的薄膜层，所述薄膜层包括透光薄膜本体和形成于所述透光薄膜本体上的黑色不透光图案；所述彩色滤光片的制造方法在黑色矩阵制造过程可以选择使用所述掩膜版来代替现有使用的Cr掩膜版，在RGB制造过程中，将采用上述掩膜版生产出来的含黑色矩阵的玻璃基板作为RGB制造过程中的掩膜版，从而有效降低Cr掩膜版的使用数量，降低彩色滤光片的制造成本并减少对环境的污染。

Mask plate and manufacturing method thereof and manufacturing method of color filter

The invention relates to the technical field of liquid crystal display, and discloses a mask plate and a manufacturing method and a manufacturing method of a color filter. The mask plate comprises a glass substrate and a film layer arranged on the glass substrate. The film layer comprises a transparent film body and a black opaque film body formed on the transparent film body. Patterns; The manufacturing method of the color filter can choose to use the mask plate instead of the existing Cr mask plate in the manufacturing process of the black matrix. In the manufacturing process of RGB, the glass substrate containing the black matrix produced by the mask plate is used as the mask plate in the manufacturing process of RGB, thus effectively reducing the Cr mask. The number of film plates is used to reduce the manufacturing cost of color filters and reduce environmental pollution.

【技术实现步骤摘要】
掩膜版及其制造方法和彩色滤光片的制造方法
本专利技术涉及液晶显示
，具体而言涉及一种掩膜版及其制造方法和彩色滤光片的制造方法。
技术介绍
彩色滤光片(CF，ColorFilter)的制造方法有两种技术，IPS和TN模式；在TN和IPS模式中的彩色滤光片的制造方法中，都需要用到至少3片Mask(掩膜版)，其中制造黑色矩阵基片需要使用一片掩膜版、RGB制造过程至少需要使用一片掩膜版、PS制造过程还需要使用一片掩膜版。众所周知，现有的Cr掩膜版的生产制造成本较高，这也造成了彩色滤光片制造成本的增加，因此，如果可以减少Cr掩膜版的使用数量，对于CF的成本降低有很大的作用；并且Cr掩膜版的生产过程中，需要使用重金属Cr，对环境不友好，如果可以减少Cr掩膜版的使用数量，还可以降低对环境的危害。
技术实现思路
本专利技术的目的是一种掩膜版及其制造方法以及彩色滤光片的制造方法，所述掩膜版制造工艺简单、成本低廉并且不含有重金属Cr，使用所述掩膜版制造彩色滤光片能够有效降低成本和对环境的危害。为了实现上述目的，本专利技术一方面提供一种掩膜版，该掩膜版包括玻璃基板和设置于所述玻璃基板上的薄膜层，所述薄膜层包括透光薄膜本体和形成于所述透光薄膜本体上的黑色不透光图案。本专利技术的掩膜版结构简单、制造成本低廉，能够代替现有的Cr掩膜版用于彩色滤光片的制造工艺中，由于不含有重金属Cr，因此，不仅成本低还对环境友好。优选地，所述玻璃基板为石英玻璃基板；所述黑色不透光图案通过设置于所述透光薄膜本体上的部分位置上的黑色不透光介质形成，所述黑色不透光介质为黑色光刻胶。根据本专利技术的另一方面，提供了一种掩膜版的制造方法，所述掩膜版为根据本专利技术的掩膜版，所述制造方法包括：步骤一：清洗所述玻璃基板，在所述透光薄膜本体上的部分位置印刷黑色不透光介质浆料、然后烘干以在所述透光薄膜本体上形成黑色不透光图案；步骤二：将形成有所述黑色不透光图案的透光薄膜设置于清洗干净的所述玻璃基板上。优选地，所述步骤二包括：在干净的所述玻璃基板上涂覆黑色光刻胶，将形成有所述黑色不透光图案的透光薄膜放置于所述玻璃基板上以与所述玻璃基板黏结。根据本专利技术的又一方面，还提供了一种彩色滤光片的制造方法，该制造方法包括：步骤一：清洗玻璃基片；步骤二：在清洗干净的所述玻璃基片上涂覆一层黑色光刻胶，将第一掩膜版放置于所述玻璃基片上方，然后进行曝光、显影和烘烤，以在所述玻璃基片上形成黑色矩阵，从而形成黑色矩阵基片；步骤三：在所述黑色矩阵基片上涂覆第一彩色光刻胶，将第二掩膜版放置于所述黑色矩阵基片上方，然后进行曝光、显影和烘烤，以形成第一彩色像素单元，从而形成第一彩色像素基片；其特征在于，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中至少一者为根据本专利技术的掩膜版；或者，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中至少一者为掩膜用黑色矩阵基片，所述掩膜用黑色矩阵基片采用下述步骤制造：清洗另一玻璃基片，在清洗干净的所述另一玻璃基片上涂覆一层黑色光刻胶，将第三掩膜版放置于所述另一玻璃基片上方，然后进行曝光、显影和烘烤，以在所述另一玻璃基片上形成黑色矩阵，从而形成掩膜用黑色矩阵基片，所述第三掩膜版为根据本专利技术的掩膜版。通过上述技术方案可以看出，在本专利技术的彩色滤光片的制造方法中，至少在步骤二(制造黑色矩阵基片步骤)中或者步骤三中(RGB制造过程)使用了本实施方式的掩膜版或者是通过本实施方式的掩膜版制造成的掩膜用黑色矩阵基片，以用于替代现有技术中所使用的Cr掩膜版，从而减少彩色滤光片的制造方法中所需要使用的Cr掩膜版的数量，以降低成本和对环境的污染。优选地，所述第一彩色光刻胶为红色光刻胶、绿色光刻胶和蓝色光刻胶中的一者；所述制造方法还包括：步骤四：在所述第一彩色像素基片上涂覆第二彩色光刻胶，将第二掩膜版放置于所述第一彩色像素基片上方，然后进行曝光、显影和烘烤，以形成第二彩色像素单元，从而形成第二彩色像素基片，所述第二彩色光刻胶为红色光刻胶、绿色光刻胶和蓝色光刻胶中的与所述第一彩色光刻胶不同的另一者；以及步骤五：在所述第二彩色像素基片上涂覆一层第三彩色光刻胶，将第二掩膜版放置于所述第二彩色像素基片上方，然后进行曝光、显影和烘烤，以形成第三彩色像素单元，从而形成第三彩色像素基片，所述第三彩色光刻胶为红色光刻胶、绿色光刻胶和蓝色光刻胶中的与所述第一彩色光刻胶和所述第二彩色光刻胶均不同的第三者。优选地，该制造方法还包括在所述步骤五之后：在所述第三彩色像素基片上溅镀铟锡氧化物薄膜以形成透明导电层。优选地，该制造方法还包括：在所述第三彩色像素基片上完成溅镀铟锡氧化物薄膜后，在所述第三彩色像素基片上涂覆间隔柱光刻胶。优选地，所述黑色矩阵彼此之间缝隙的宽度大于或者等于20μm。附图说明图1是根据专利技术的一种实施方式的彩色滤光片的制造方法的流程图。具体实施方式下面结合附图和实施例，对本专利技术的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本专利技术，但不用来限制本专利技术的范围。根据本专利技术的第一方面，首先提供了一种掩膜版，该掩膜版包括玻璃基板和设置于所述玻璃基板上的薄膜层，所述薄膜层包括透光薄膜本体和形成于所述透光薄膜本体上的黑色不透光图案。本专利技术的掩膜版结构简单、制造成本低廉，能够代替现有的Cr掩膜版用于彩色滤光片的制造工艺中，由于不含有重金属Cr，因此，不仅成本低还对环境友好。需要说明的是，在本申请中所提及的透光，指示UV光可以透过，而不透光则指UV光不能够透过。其中，所述玻璃基板需要使用完全透光的材质，例如可以为石英玻璃基板；所述透光薄膜本体也需要采用完全透光的材质；另外，所述黑色不透光图案通过设置于所述透光薄膜本体上的部分位置上的黑色不透光介质形成，所述黑色不透光介质为黑色光刻胶，该黑色光刻胶可以包括丙烯酸树脂、光引发剂、颜料分散剂、黑色颜料、添加剂和溶剂等，其中黑色颜料、添加剂和溶剂可以选择本
内常见并适合的。根据本专利技术的第二方面，还提供了一种掩膜版的制造方法，所述掩膜版为根据本专利技术的掩膜版，所述制造方法包括：步骤一：清洗所述玻璃基板，在所述透光薄膜本体上的部分位置印刷黑色不透光介质浆料、然后烘干以在所述透光薄膜本体上形成黑色不透光图案；步骤二：将形成有所述黑色不透光图案的透光薄膜设置于清洗干净的所述玻璃基板上。其中，所述步骤二可以包括在干净的所述玻璃基板上涂覆黑色光刻胶将形成有所述黑色不透光图案的透光薄膜放置于所述玻璃基板上以与所述玻璃基板黏结。根据本专利技术的第三方面，还提供了一种彩色滤光片的制造方法，该制造方法包括：步骤一：清洗玻璃基片；步骤二：在清洗干净的所述玻璃基片上涂覆一层黑色光刻胶，将第一掩膜版放置于所述玻璃基片上方，然后进行曝光、显影和烘烤，以在所述玻璃基片上形成黑色矩阵，从而形成黑色矩阵基片；步骤三：在所述黑色矩阵基片上涂覆一层第一彩色光刻胶，将第二掩膜版放置于所述黑色矩阵基片上方，然后进行曝光、显影和烘烤，以形成第一彩色像素单元，从而形成第一彩色像素基片；其中，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中至少一者为根据本专利技术的掩膜版；或者，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中至少一者为掩膜用黑色矩阵基片，所述掩膜用黑色矩阵基片采用下述步骤制造：清洗另一玻璃基片，在清洗干净的所述另一玻璃基片上涂覆一层黑色光刻胶，将第三掩膜版放置于所述另一玻璃本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜版，其特征在于，该掩膜版包括玻璃基板和设置于所述玻璃基板上的薄膜层，所述薄膜层包括透光薄膜本体和形成于所述透光薄膜本体上的黑色不透光图案。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜版，其特征在于，该掩膜版包括玻璃基板和设置于所述玻璃基板上的薄膜层，所述薄膜层包括透光薄膜本体和形成于所述透光薄膜本体上的黑色不透光图案。2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述玻璃基板为石英玻璃基板；所述黑色不透光图案通过设置于所述透光薄膜本体上的部分位置上的黑色不透光介质形成，所述黑色不透光介质为黑色光刻胶。3.一种掩膜版的制造方法，其特征在于，所述掩膜版为根据权利要求1或2所述的掩膜版，所述制造方法包括：步骤一：清洗所述玻璃基板，在所述透光薄膜本体上的部分位置印刷黑色不透光介质浆料、然后烘干以在所述透光薄膜本体上形成黑色不透光图案；步骤二：将形成有所述黑色不透光图案的透光薄膜设置于清洗干净的所述玻璃基板上。4.根据权利要求3所述的掩膜版的制造方法，其特征在于，所述步骤二包括：在干净的所述玻璃基板上涂覆黑色光刻胶，将形成有所述黑色不透光图案的透光薄膜放置于所述玻璃基板上以与所述玻璃基板黏结。5.一种彩色滤光片的制造方法，该制造方法包括：步骤一：清洗玻璃基片；步骤二：在清洗干净的所述玻璃基片上涂覆一层黑色光刻胶，将第一掩膜版放置于所述玻璃基片上方，然后进行曝光、显影和烘烤，以在所述玻璃基片上形成黑色矩阵，从而形成黑色矩阵基片；步骤三：在所述黑色矩阵基片上涂覆第一彩色光刻胶，将第二掩膜版放置于所述黑色矩阵基片上方，然后进行曝光、显影和烘烤，以形成第一彩色像素单元，从而形成第一彩色像素基片；其特征在于，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中至少一者为根据权利要求1或2所述的掩膜版；或者，所述第一掩膜版和所述第二掩膜版中至少一者为掩膜用黑色矩阵基片，所述掩膜用黑色矩...

【专利技术属性】
技术研发人员：姚园，
申请(专利权)人：东旭昆山显示材料有限公司，东旭集团有限公司，东旭科技集团有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32