The invention discloses a mask device and a mask plate for evaporation plating. The mask plate comprises a plurality of transparent opening areas and opaque shading areas located outside each opening area. The shading areas are provided with holes formed at intervals on the back of the mask plate. The mask of the present invention has a number of depressions in the shading area near the evaporation source, so that the film deposited on the surface of the mask can release stress at the depression, which can overcome the problem of peeling off the film on the mask when the multilayer film is mixed with evaporation, and avoid the process defects without increasing the process cost and the process time. The generation.
【技术实现步骤摘要】
蒸镀用的掩膜版及掩膜版装置
本专利技术涉及面板制作
，尤其涉及一种蒸镀用的掩膜版及掩膜版装置。
技术介绍
近年来，OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)显示装置以其独有的优势正吸引着业内绝大多数从业者注意，在中小尺寸显示领域更有取代LCD(LiquidCrystalDisplay，液晶显示)面板的趋势，现阶段中小尺寸的OLED面板大多依赖蒸镀制程，其中在蒸镀制程中用于图形定义的治具为金属掩模版，可分为精密金属掩膜板(FineMetalMask，简称FMM)和通用金属掩模版(CommonMetalMask，简称CMM)。FMM用于RGB像素定义，主要用于R、G、B发光层和掺杂材料蒸镀，FMM制程能力直接制约产品PPI所能达到的高度，而CMM作为共通层图形定义装置亦非常重要。蒸镀制程中需将诸多EL(ElectroLuminescent，电致发光)功能层一一蒸镀到基板上，故其设备具有很多蒸镀不同功能层的腔体，如将所有不同性质的功能层均分开蒸镀，则设置腔体过多，设备购置费用高，占地面积更大，故有部分设备商将一些蒸镀条件相近的...
【技术保护点】
1.一种蒸镀用的掩膜版，其特征在于，包括多个透光的开口区域(10)和设于每个开口区域(10)外围且不透光的遮蔽区(20)，所述遮蔽区(20)设有间隔地形成于掩膜版的背面的若干凹陷部(200)。
【技术特征摘要】
1.一种蒸镀用的掩膜版，其特征在于，包括多个透光的开口区域(10)和设于每个开口区域(10)外围且不透光的遮蔽区(20)，所述遮蔽区(20)设有间隔地形成于掩膜版的背面的若干凹陷部(200)。2.根据权利要求1所述的蒸镀用的掩膜版，其特征在于，所述遮蔽区(20)包括绕所述开口区域(10)外围形成的一圈边缘(21)，所述凹陷部(200)形成于所述边缘(21)外围。3.根据权利要求2所述的蒸镀用的掩膜版，其特征在于，所述开口区域(10)为贯穿掩膜版的通孔，所述凹陷部(200)为掩膜版表面的凹槽。4.根据权利要求3所述的蒸镀用的掩膜版，其特征在于，所述开口区域(10)呈矩阵阵列布置。5.根据权利要求2所述的蒸镀用的掩膜版，其特征在于，最靠近所述开口区域(10)的所述凹陷部(200)与所述开口区域(10)之间的距...
【专利技术属性】
技术研发人员：杜骁，陈永胜，
申请(专利权)人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42
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