掩膜板及其制造方法技术

本发明专利技术涉及一种掩膜板及其制造方法，掩膜板包括：掩膜框架，围合形成蒸镀区；若干间隔排布设置在蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；若干间隔排布设置在蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；第一掩膜条和第二掩膜条相互交错；第一掩膜条、第二掩膜条以及掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；若干用于调整蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，蒸镀调整结构设置在第一掩膜条上和/或第二掩膜条上。上述掩膜板，第一掩膜条、第二掩膜条、掩膜框架以及蒸镀调整结构可对被蒸镀屏体进行部分遮挡而避免蒸镀材料在蒸镀调整结构对应位置沉积，因此使被蒸镀屏体形成有与蒸镀单元形状相同的覆盖蒸镀材料的蒸镀区，从而为该遮挡区域的后续切割提供了便利，简化了蒸镀过程。

Mask board and manufacturing method thereof

The invention relates to a mask plate and a manufacturing method thereof, which comprises a mask frame enclosed to form an evaporation zone, a number of first mask strips arranged in the first direction of the evaporation zone at intervals, a number of second mask strips arranged in the second direction of the evaporation zone at intervals, and a first mask strip and a second mask strip interlaced with each other. A number of evaporation adjustment structures for adjusting the evaporation area of the evaporation unit are arranged on the first mask strip and/or on the second mask strip. The mask plate, the first mask strip, the second mask strip, the mask frame and the evaporation adjusting structure can partially shield the evaporated plating screen and avoid the deposition of the evaporated plating material at the corresponding position of the evaporation adjusting structure, so that the evaporated plating screen body forms an evaporation plating area covering the evaporated plating material with the same shape as the evaporation plating unit, thereby forming an evaporation plating area for the evaporated plating material. The subsequent cutting of the sheltered area provides convenience and simplifies the evaporation process.

【技术实现步骤摘要】
掩膜板及其制造方法
本专利技术涉及显示装置制作领域，特别是涉及一种掩膜板及其制造方法。
技术介绍
OLED(OrganicLight-EmittingDiode，有机发光二极管)显示面板由于具有主动发光、高亮度、宽视角、高对比度、可挠曲、低能耗等特性，已经开始广泛应用于手机等各种智能设备上。但目前，随着人们对智能设备(特别是智能手机)的屏占比要求的不断提高，具有超高屏占比的超窄边框甚至无边框设计成为目前的发展趋势，因此用于实现摄像、人脸识别等功能的电子器件通常被安装于显示屏范围内以避免占用显示屏边缘外侧的空间而增大边框宽度，从而导致需要在屏体上预留安装孔以安装摄像头等电子器件。而现有技术中，通常对屏体采用异形切割以形成摄像头等电子器件的安装空间，而异形切割的切割过程复杂、良品率低且切割后容易造成屏体受到水氧入侵而降低屏体的使用寿命。
技术实现思路
基于此，有必要针对异形屏体切割困难、良品率低的问题，提供一种可解决上述问题的掩膜板及其制造方法。一种掩膜板，所述掩膜板包括：掩膜框架，围合形成蒸镀区；若干间隔排布设置在所述蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；若干间隔排布设置在所述蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错；所述第一掩膜条、所述第二掩膜条以及所述掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；若干用于调整所述蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，设置在所述第一掩膜条上和/或所述第二掩膜条上。上述掩膜板，当掩膜板应用于蒸镀过程中时，第一掩膜条、第二掩膜条、掩膜框架以及蒸镀调整结构可对被蒸镀屏体进行部分遮挡而避免蒸镀材料在蒸镀调整结构对应位置沉积，因此使被蒸镀屏体形成有与蒸镀单元形状相同的覆盖蒸镀材料的蒸镀区，从而为该遮挡区域的后续切割提供了便利，简化了蒸镀过程，提高了通过该掩膜板蒸镀的异形屏体的良品率。在其中一个实施例中，若干所述蒸镀调整结构间隔排布设置在所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上。在其中一个实施例中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条形成交叠区，所述蒸镀调整结构设置在位于非交叠区的所述第一掩膜条上和/或所述第二掩膜条上。在其中一个实施例中，所述蒸镀调整结构与所述蒸镀调整结构所在的所述第一掩膜条或第二掩膜条一体成型。在其中一个实施例中，所述第一方向与所述第二方向相互垂直，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条围成至少一个蒸镀单元，围成一个所述蒸镀单元的所述第一掩膜条和所述第二掩膜条上设置至少一个蒸镀调整结构。在其中一个实施例中，所述蒸镀调整结构延伸至相邻的所述蒸镀单元内。在其中一个实施例中，所述蒸镀调整结构、所述第一掩膜条与所述第二掩膜条的材料均相同。一种掩膜板的制造方法，包括以下步骤：提供一形成有蒸镀区的掩膜框架；在所述蒸镀区的第一方向上设置若干间隔排布的第一掩膜条；在所述蒸镀区的第二方向上设置若干间隔排布的第二掩膜条；其中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错，所述第一掩膜条、所述第二掩膜条以及所述掩膜框架围合形成若干蒸镀单元，所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上形成有若干蒸镀调整结构。在其中一个实施例中，所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上形成有若干蒸镀调整结构具体包括：所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错形成交叠区和非交叠区，所述若干蒸镀调整结构形成在所述非交叠区的所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上。在其中一个实施例中，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错围成所述至少一个蒸镀单元，所述蒸镀调整结构向相邻的所述蒸镀单元延伸。附图说明图1为第一实施例的掩膜板的结构示意图；图2为第二实施例的掩膜板的结构示意图；图3为第三实施例的掩膜板的结构示意图；图4为第四实施例的掩膜板的结构示意图；图5为另一实施例的掩膜板的结构示意图；图6为一实施方式的掩模板的制造方法的流程示意图。具体实施方式为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳的实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。如图1-图4所示，本较佳实施方式的一种掩膜板100，包括掩膜框架120、第一掩膜条130、第二掩模条140及若干蒸镀调整结构150。其中，掩膜框架120围合形成蒸镀区。若干第一掩膜条130间隔排布设置在蒸镀区的第一方向上，若干第二掩膜条140间隔排布设置在蒸镀区的第二方向上，第一掩膜条130和第二掩膜条140相互交错，第一掩膜条130、第二掩膜条140以及掩膜框架120围合形成若干蒸镀单元110。若干蒸镀调整结构150设置在第一掩膜条130上和/或第二掩膜条140上，用于调节蒸镀单元110的蒸镀面积。上述掩膜板100，当掩膜板100应用于蒸镀过程中时，第一掩膜条130、第二掩膜条140、掩膜框架120蒸镀调整结构150可对被蒸镀屏体进行部分遮挡而避免蒸镀材料在蒸镀调整结构150对应位置沉积，因此使被蒸镀屏体形成有与蒸镀单元110形状相同的覆盖蒸镀材料的蒸镀区，从而为该遮挡区域的后续切割提供了便利，简化了蒸镀过程，提高了通过该掩膜板100蒸镀的异形屏体的良品率。请继续参阅图1-图4，掩膜框架120大致呈矩形框架结构，从而形成大致呈矩形的蒸镀区，掩膜板100的长度方向(即蒸镀区的长度方向)为第一方向，掩膜板100的宽度方向(即蒸镀区的宽度方向)为第二方向，第一方向与第二方向相互垂直。第一掩膜条130在第一方向上间隔的两端均焊接于掩膜框架120的长度方向的两端，第二掩膜条140在第二方向上间隔的两端均焊接于掩膜框架120的宽度方向上的两端。可以理解，第一方向与第二方向不限于掩膜板100的长度或宽度方向，第一方向与第二方向也可仅相交而不垂直，从而形成若干形状不同的蒸镀单元110。具体地，如图1及图2所示，蒸镀单元110可由第一掩膜条130、第二掩膜条140以及掩膜框架120三者共同围合形成。如图3及图4所示，蒸镀单元110也可仅由第一掩膜条130与第二掩膜条140两者围合形成，第一掩膜条130与第二掩膜条140围成至少一个蒸镀单元110，掩膜框架120与第一掩膜条130和/或第二掩膜条140共同围合形成无效区域，从而具有更高的蒸镀精度。进一步在本实施方式中，用于围合形成一个蒸镀单元110的第一掩膜条130和第二掩膜条140上设置至少一个蒸镀调整结构150，且蒸镀调整结构150延伸至相邻的蒸镀单元110内(即，当用于围成一个蒸镀单元110的第一掩膜条130上未设置有蒸镀调整结构150时，用于围成该蒸镀单元110的第二掩膜条140上设置有至少一个蒸镀调整结构150。当用于本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：掩膜框架，围合形成蒸镀区；若干间隔排布设置在所述蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；若干间隔排布设置在所述蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错；所述第一掩膜条、所述第二掩膜条以及所述掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；若干用于调整所述蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，设置在所述第一掩膜条上和/或所述第二掩膜条上。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板，其特征在于，所述掩膜板包括：掩膜框架，围合形成蒸镀区；若干间隔排布设置在所述蒸镀区第一方向上的第一掩膜条；若干间隔排布设置在所述蒸镀区第二方向上的第二掩膜条；所述第一掩膜条和所述第二掩膜条相互交错；所述第一掩膜条、所述第二掩膜条以及所述掩膜框架围合形成的若干蒸镀单元；若干用于调整所述蒸镀单元蒸镀面积的蒸镀调整结构，设置在所述第一掩膜条上和/或所述第二掩膜条上。2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，若干所述蒸镀调整结构间隔排布设置在所述第一掩膜条和/或第二掩膜条上。3.根据权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条形成交叠区，所述蒸镀调整结构设置在位于非交叠区的所述第一掩膜条上和/或所述第二掩膜条上。4.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述蒸镀调整结构与所述蒸镀调整结构所在的所述第一掩膜条或第二掩膜条一体成型。5.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述第一方向与所述第二方向相互垂直，所述第一掩膜条和所述第二掩膜条围成至少一个蒸镀单元，围成一个所述蒸镀单元的所述第一掩膜条和所述第二掩膜条上设置至少一个蒸镀调...

【专利技术属性】
技术研发人员：单为健，王亚玲，罗志忠，黄俊杰，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：河北,13