【技术实现步骤摘要】
本公开涉及封装，尤其涉及一种芯片封装结构及芯片封装方法、芯片、掩膜版组件。
技术介绍
1、晶粒(die)是一种半导体电子元件，具有体积小、亮度高、能耗小等特点，被广泛应用于照明等领域。在现有晶粒的制备工艺中，晶粒在封装过程中，常发生位置偏移，进而增加了后续工序的工艺难度。
技术实现思路
1、有鉴于此，本公开的目的在于：提出一种芯片封装结构及芯片封装方法、芯片、掩膜版组件。该封装结构下可减小芯片中晶粒发生偏移的现象。
2、基于上述目的，本公开揭示一种芯片封装结构，其包括：
3、多个晶粒；
4、封装定位层，至少部分形成于相邻的晶粒之间，且对应于晶粒形成有镂空部，所述晶粒套设于所述镂空部中；
5、封装层，设于封装定位层上，所述封装层的刚度小于所述封装定位层；
6、重布线层，位于所述封装定位层远离所述封装层的一侧，所述重布线层中设有信号线，所述晶粒与所述信号线电连接；
7、多个引脚，设于所述重布线层远离所述晶粒的一侧，并与所述重布线层中的信号线电连接。
8、通过这样的结构设计，该封装定位层可对晶粒(die)起到有效的位置固定作用，消除emc工艺中应力释放对die的位置影响；还可兼作晶粒与封装层的致密连接层；该封装定位层呈网状结构，其围住晶粒对其具有支撑作用。
9、在其中一个实施例中，所述封装定位层包括层叠设置的至少一个有机膜层和至少一个无机膜层所述封装定位层的厚度大于等于3μm；
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11、优选地，所述有机膜层的厚度大于等于12μm；
12、进一步优选地，所述有机膜层中远离封装层一侧的所述有机膜层密度小于0.5克/立方厘米；
13、或者，所述封装定位层包括两个所述无机膜层和一个所述有机膜层，所述封装定位层在所述芯片厚度方向的两侧均为所述无机膜层，两个以上所述无机膜层中靠近所述封装层的所述无机膜层的下表面距离所述晶粒下表面的距离小于等于所述晶粒高度的50％。
14、通过叠层设置的有机膜层与无机膜层可以在固定晶粒位置的同时增加有机膜层与封装层之间的连接致密性，也能够防止水氧通过有机膜层进入到芯片封装结构中，进而延长器件的使用寿命。
15、在其中一个实施例中，所述封装定位层的厚度大于等于2μm，并小于所述晶粒的高度；优选地，所述封装定位层的厚度大于等于2.5μm，并小于所述晶粒的高度的50％；优选地，所述封装定位层的厚度大于等于3μm，并小于所述晶粒的高度的30％。这样的设计保证封装定位层具有一定的刚度的同时与emc材料可靠的连接。厚度太小时刚性较弱，固定作用有限。
16、在其中一个实施例中，所述封装定位层的热膨胀系数小于所述封装层的热膨胀系数。所述封装定位层的材料包括无机材料、有机材料和复合材料中的一种或两种以上；优选地，所述无机材料包括金属材料、陶瓷材料、碳基材料和氧化物材料中的一种或两种以上，所述有机材料包括聚合物材料；进一步优选地，所述无机材料为非晶态材料。所述封装定位层采用较低热膨胀系数的材料能够降低在不同温度下膜层发生形变、产生收缩应力的风险，进而能够牢牢固定住晶粒。
17、在其中一个实施例中，所述金属材料包括金纳米粒子(aunps)、银纳米粒子(agnps)和铜纳米粒子(cunps)中的一种或两种以上。所述氧化物材料选包括三氧化二铝(al2o3)、氧化锌(zno)、二氧化钛(tio2)、二氧化铪(hfo2)、二氧化锆(zro2)和五氧化二钽(ta2o5)中的至少一种。所述非晶态材料包括非晶硅(a-si)、氧化硅(siox)、氮化硅(sinx)、铟锡氧化物(ito)和铟镓锌氧化物(igzo)中的至少一种。所述碳基类材料包括碳纳米管(cnts)、石墨烯(graphene)和炭黑(cb)中的一种或两种以上。所述聚合物材料包括聚乙烯醇(pva)、聚二甲基硅氧烷(pdms)、聚丙烯腈(pan)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(pet)、pmma和聚酰亚胺(pi)中的一种或两种以上。所述复合材料包括agnws/peo、苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯(sebs)/tio2和聚(三聚氰胺-共甲醛)(pmf)/pva中的一种或两种以上。
18、基于同样的构思本公开提供一种掩模版组件，其用于进行芯片封装，其包括：
19、掩模版，所述掩模版包括多个遮挡件和多个连接件，所述连接件连接所述遮挡件，多个所述遮挡件和多个所述连接件围合形成多个镂空区；
20、多个所述连接件形成网状，每个遮挡件的一条边缘处对应有两条以上所述连接件。
21、基于同样的专利技术构思本公开提供一种芯片封装方法，包括如下步骤：
22、s10,在基板的一侧配置键合层；
23、s20,将晶粒按照预设的位置的放置于所述键合层的远离所述基板侧；
24、s30,制备封装定位层，所述封装定位层填充于所述晶粒间的间隙(也称沟槽)，以固定所述晶粒；
25、s40,在所述封装定位层的远离所述基板侧涂布塑料封装材料，经固化得到封装层，
26、s50,去除所述基板及所述键合层；
27、s60，通过重布线工艺在所述封装定位层和所述晶粒远离所述封装层的一侧形成重布线层；以及，在所述重布线层上设置引脚。
28、该封装方法通过在晶粒与晶粒间的间隙设置封装定位层该封装定位层具有一定的刚度，具有支撑兼固定的作用。通过该封装定位层可以有效的消除后续工序中如基板分离后emc带来的应力，改善晶粒偏移缺陷。
29、在其中一个实施例中，所述步骤s30中包括利用喷墨打印设备将填充材料填充于所述晶粒间的间隙，得到所述封装定位层；或者，
30、所述步骤s30中还包括：在所述晶粒上设置一掩模版，所述掩模版的遮挡件对应于所述晶粒，所述掩模版的镂空部对应于所述晶粒间的间隙，将所述填充材料从所述镂空部填充于所述晶粒间的间隙，得到所述封装定位层。
31、在其中一个实施例中，在步骤s30前或者在步骤s20前包括：在所述晶粒的顶部形成抑制层，从所述晶粒远离基板的一侧将填充材料填充于所述晶粒间的间隙，以制得所述封装定位层，形成所述封装定位层后去除所述抑制层；
32、优选地，在切割母板以形成所述晶粒前形成所述抑制层；
33、优选地，所述抑制层中包含有机聚合物，所述有机聚合物包括聚甲基丙烯酸甲酯(pmma)和聚乙烯吡咯烷酮(pvp)中的至少一种。
34、在其中一个实施例中，所述填充材料中包括无机材料、有机材料和复合材料中的一种或两种以上；
35、优选地，所述步骤s30中包括：将所述有机材料填充至所述间隙中，待所述有机材料固化后将所述无机材料填充至所述间隙中，待所述本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种芯片封装结构，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的芯片封装结构，其特征在于，
3.如权利要求1所述的芯片封装结构，其特征在于，
4.如权利要求1所述的芯片封装结构，其特征在于，
5.如权利要求4中所述的芯片封装结构，其特征在于，
6.一种掩模版组件，用于进行芯片封装，其特征在于，包括：
7.一种芯片封装方法，其特征在于，包括如下步骤：
8.如权利要求7所述的芯片封装方法，其特征在于，
9.如权利要求7所述的芯片封装方法，其特征在于，在步骤S30前或者在步骤S20前包括：在所述晶粒的顶部形成抑制层，从所述晶粒远离基板的一侧将填充材料填充于所述晶粒间的间隙，以制得所述封装定位层，形成所述封装定位层后去除所述抑制层；
10.如权利要求8或9所述的芯片封装方法，其特征在于，所述填充材料中包括无机材料、有机材料和复合材料中的一种或两种以上；
11.如权利要求7所述的芯片封装方法，其特征在于，
12.一种芯片，其特征在于，由权利要求1-5中任意一项
...【技术特征摘要】
1.一种芯片封装结构，其特征在于，包括：
2.如权利要求1所述的芯片封装结构，其特征在于，
3.如权利要求1所述的芯片封装结构，其特征在于，
4.如权利要求1所述的芯片封装结构，其特征在于，
5.如权利要求4中所述的芯片封装结构，其特征在于，
6.一种掩模版组件，用于进行芯片封装，其特征在于，包括：
7.一种芯片封装方法，其特征在于，包括如下步骤：
8.如权利要求7所述的芯片封装方法，其特征在于，
9.如权利要求7所述的芯片封装方法，其特征在于，在...
【专利技术属性】
技术研发人员：张立祥，
申请(专利权)人：云谷固安科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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