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本发明公开了一种蒸镀用的掩膜版装置及掩膜版,掩膜版包括多个透光的开口区域和设于每个开口区域外围且不透光的遮蔽区,所述遮蔽区设有间隔地形成于掩膜版背面的若干凹陷部。本发明的掩膜版在靠近蒸镀源的一侧的遮光区制作有若干凹陷部,使掩膜版表面沉积的膜...该专利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过武汉华星光电半导体显示技术有限公司授权不得商用。
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本发明公开了一种蒸镀用的掩膜版装置及掩膜版,掩膜版包括多个透光的开口区域和设于每个开口区域外围且不透光的遮蔽区,所述遮蔽区设有间隔地形成于掩膜版背面的若干凹陷部。本发明的掩膜版在靠近蒸镀源的一侧的遮光区制作有若干凹陷部,使掩膜版表面沉积的膜...