抛光回转工作台及抛光装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供的抛光回转工作台及抛光装置，涉及抛光技术领域。该抛光回转工作台包括：工作台、支座和传动轴；所述工作台与所述支座之间设置有轴承，所述传动轴由伺服电机驱动转动，从而通过谐波减速机带动所述工作台转动。本发明专利技术提供的抛光回转工作台中所述传动轴由伺服电机驱动转动，从而通过谐波减速机带动所述工作台转动，由谐波减速机具有抱闸功能，防止工作台静止时由于外力导致工作台旋转，造成晶圆损伤。谐波减速机具有高转矩和精确定位的性能，且具有大的减速比范围。采用谐波减速机具有可靠性好和结构简单等优点。 1

Polishing rotary table and polishing device

The polishing rotary table and polishing device provided by the invention relates to the field of polishing technology. The polishing rotary table consists of a worktable, a bearing and a drive shaft, and a bearing is arranged between the working table and the support, and the drive shaft is driven by a servo motor drive to drive the working table by a harmonic reducer. The transmission shaft in the polishing rotary table provided by the invention is rotated by the servo motor drive, thus turning the working table through the harmonic speed reducer, and the harmonic reducer has the lock function, preventing the worktable from rotating and causing the wafer damage when the working table is static. The harmonic reducer has the characteristics of high torque and precise positioning, and has a large reduction range. The harmonic reducer has the advantages of good reliability and simple structure. One

【技术实现步骤摘要】
抛光回转工作台及抛光装置
本专利技术涉及抛光
，尤其是涉及一种抛光回转工作台及抛光装置。
技术介绍
随着微电子技术的迅猛发展，对电子器件的要求越来越高，传统的大型器件的设计已经不能满足当今微型化、高速化、精密化的迫切要求，这也就对集成电路(IC)特别是大规模集成电路提出了更高的要求。芯片越来越小，互联层越来越多，要实现多层布线，这就对晶圆表面的平整度、光滑度、洁净度提出了更高的要求。化学机械平坦化技术(CMP)是目前认可度最高、最有效的晶圆全局平坦化工艺技术。高精度旋转工作台作为CMP技术设备中的核心组成部分，直接影响着晶圆表面平整度、光滑度、洁净度的最终结果，整个旋转工作台的精度、稳定性、效率对整个CMP工艺的影响可见一斑。CMP技术不同于普通的机械抛光，而是将机械研磨和化学腐蚀有机结合起来的高平整度、光滑度的全局平坦化技术。其中化学作用可以减少单纯的机械作用可能引起的物理损伤并依靠抛光液与晶圆的腐蚀作用来提高抛光效率，机械作用可以保证整个材料表面抛光的同步进行，平整度高。如图1所示，现有技术一中采用电机附加减速机与传动轴4相连，传动轴4带动工作台旋转。采用一对圆锥辊子轴承16用于轴向和径向的定位，该结构中由于支撑轴15本身直径足够大所以在轴承以上部分采用直径阶梯递增的形式。该方案中为了减小受力时的挠曲度，不仅要调节轴承以上部分各阶梯段的直径和厚度还需增大圆锥辊子轴承16的直径(以减小约束位置与受力位置之间的距离)从而导致整体尺寸较大，过多的占用了有效空间。由于圆螺母18无防松措施连续长时间工作的条件下，可能会引起松动，导致轴承内外圈之间的游隙增大，轴承的刚性降低、甚至滑落。由于支撑轴15、箱体17的精度以及安装误差难以控制而导致轴承内外圈倾斜。为了保证轴承在受负载旋转过程中不产生震动，对支撑轴15和箱体17造成摩擦，需要求轴承内圈与支撑轴15之间以及轴承外圈与箱体17内壁之间均需过盈配合安装，转配难度较大。如图2所示，现有技术二中采用电机附加减速机与传动轴4相连，传动轴4带动工作台旋转。在传动轴4和工作台之间装有推力圆柱辊子轴承19，基座20和传动轴4之间采用圆锥辊子轴承16用于轴向定位，有效减小了工作台端面轴向跳动的影响因素——只与推力圆柱辊子轴承19的轴向跳动有关。该方案中由于推力圆柱辊子轴承19在旋转过程中由于两端线速度不等，滚子在套圈滚动时不可避免的产生滑动，因此其可承受的有效转速受到限制。为了工作台与传动轴4之间的连接以及推力圆柱辊子轴承19的压紧，工作台中间必须开孔，导致工作台的整体尺寸加大。该结构较为复杂，对于该结构进行密封和润滑有一定的难度。现有的回转工作台不能够实现低速高刚性的回转运动，可靠性差。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种抛光回转工作台，以解决现有的回转工作台不能够实现低速高刚性的回转运动，可靠性差的技术问题。为解决上述技术问题，本专利技术采用了以下技术方案；本专利技术第一方面提供的抛光回转工作台，其中，包括：工作台、支座和传动轴；所述工作台与所述支座之间设置有轴承，所述传动轴由伺服电机驱动转动，从而通过谐波减速机带动所述工作台转动。本专利技术提供的抛光回转工作台中所述传动轴由伺服电机驱动转动，从而通过谐波减速机带动所述工作台转动，由谐波减速机具有抱闸功能，防止工作台静止时由于外力导致工作台旋转，造成晶圆损伤。谐波减速机具有高转矩和精确定位的性能，且具有大的减速比范围。采用谐波减速机具有可靠性好和结构简单等优点。在上述任一技术方案中，进一步的，所述谐波减速机包括由外向内依次套设的钢轮、柔轮和波发生器，所述传动轴套设于所述波发生器内，所述柔轮与所述钢轮通过齿轮啮合，所述钢轮与所述工作台固定连接。在上述任一技术方案中，进一步的，所述钢轮包括上钢轮和下钢轮，所述上钢轮与所述工作台固定连接。在上述任一技术方案中，进一步的，所述传动轴通过减速机联轴器与所述波发生器连接。在上述任一技术方案中，进一步的，所述轴承为交叉滚子轴承。在上述任一技术方案中，进一步的，所述传动轴通过传动轴联轴器与所述伺服电机的转轴连接。在上述任一技术方案中，进一步的，所述支座上对应于所述工作台设置有挡块。在上述任一技术方案中，进一步的，所述挡块上设置有角度传感器。可实现工作台一定角度的旋转限位。工作台根据工作需要可进行替换。在上述任一技术方案中，进一步的，所述工作台上设置有多个工位。工作台上设置有两个、三个或多个工位。多个工位绕工作平台的周向均布。本专利技术提供了一种抛光装置，其中，包括如上所述的抛光回转工作台。采用上述技术方案，本专利技术具有如下有益效果：本专利技术提供的抛光回转工作台中所述传动轴由伺服电机驱动转动，从而通过谐波减速机带动所述工作台转动，由谐波减速机具有抱闸功能，防止工作台静止时由于外力导致工作台旋转，造成晶圆损伤。谐波减速机具有高转矩和精确定位的性能，且具有大的减速比范围。采用谐波减速机具有可靠性好和结构简单等优点。进一步的，所述谐波减速机包括由外向内依次套设的钢轮、柔轮和波发生器，所述传动轴套设于所述波发生器内，所述柔轮与所述钢轮通过齿轮啮合，所述钢轮与所述工作台固定连接。进一步的，所述轴承为交叉滚子轴承。进一步的，所述支座上对应于所述工作台设置有挡块。本专利技术的附加方面和优点将在下面的描述部分中变得明显，或通过本专利技术的实践了解到。附图说明为了更清楚地说明本专利技术具体实施方式或现有技术中的技术方案下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本专利技术的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。图1为本专利技术
技术介绍
提供的技术方案一的结构示意图；图2为本专利技术
技术介绍
提供的技术方案二的结构示意图；图3为本专利技术实施例一提供的抛光回转工作台的结构示意图；图4为图3的放大示意图；图5为本专利技术实施例二提供的抛光回转工作台中工作台的结构示意图。附图标记：1：工作台；2：减速机联轴器；3：谐波减速机；4：传动轴；5：支座；6：伺服电机；7：传动轴联轴器；8：挡块；9：交叉滚子轴承；10：工作位；11：上钢轮；12：下钢轮；13：柔轮；14：波发生器；15：支撑轴；16：圆锥辊子轴承；17：箱体；18：圆螺母；19：推力圆柱辊子轴承；20：基座。具体实施方式下面将结合附图对本专利技术的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。在本专利技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。在本专利技术的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种抛光回转工作台，其特征在于，包括：工作台、支座和传动轴；所述工作台与所述

【技术特征摘要】
1.一种抛光回转工作台，其特征在于，包括：工作台、支座和传动轴；所述工作台与所述支座之间设置有轴承，所述传动轴由伺服电机驱动转动，从而通过谐波减速机带动所述工作台转动。2.根据权利要求1所述的抛光回转工作台，其特征在于，所述谐波减速机包括由外向内依次套设的钢轮、柔轮和波发生器，所述传动轴套设于所述波发生器内，所述柔轮与所述钢轮通过齿轮啮合，所述钢轮与所述工作台固定连接。3.根据权利要求2所述的抛光回转工作台，其特征在于，所述钢轮包括上钢轮和下钢轮，所述上钢轮与所述工作台固定连接。4.根据权利要求2所述的抛光回转工作台，其特征在于，所述传动轴...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘福强，费玖海，
申请(专利权)人：北京半导体专用设备研究所中国电子科技集团公司第四十五研究所，
类型：发明
国别省市：北京,11