用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件制造技术

技术编号:1812624 阅读:219 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开一种用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件。在掩模组件中,清洗该掩模组件以后残留在单元掩模和框架之间的间隙中的清洗液可被最少化。掩模组件包括框架和多个单元掩模。框架包括围绕一开口的一对第一支撑部和一对第二支撑部。多个单元掩模具有至少一组图案开口,多个单元掩模被固定在第一支撑部上,同时多个单元掩模上施加有张紧力。第一支撑部包括第一表面和第二表面。多个单元掩模被固定在第一表面上,并且,第二表面从第一表面沿多个单元掩模的厚度方向具有相对第一表面的高度差。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件。更具体地 说,本专利技术涉及一种框架,多个张紧的单元掩模被固定并支撑在其中,并且 掩模组件被形成。
技术介绍
近来,平板显示器由于其深度浅、重量轻而解决了阴极射线管的难题,所以得到普及。平板显示器的实例包括有机发光二极管(OLED)显示器、 液晶显示器(LCD)和等离子体显示面板(PDP)。通常,利用预定图案来形成电极和发射层,从而制造平板显示器(例如 OLED显示器)。利用掩模组件的气相沉积法可用于形成电极和发射层。上述在
技术介绍
部分中公开的信息只用于增强对本专利技术的
技术介绍
的 理解,因此,它可包含并不构成对本领域普通技术人员在本国为已知的现有 技术的信息。
技术实现思路
本专利技术的一个方面是一种用于气相沉积平板显示器的薄膜的掩模组件, 其中清洗所述掩模组件以后残留在单元掩模与框架之间的间隙中的清洗液 可被最少化,并且防止在所述单元掩模上形成突起和凹陷,以提高气相沉积 的精度并使气相沉积误差最小化。本专利技术的另 一方面是一种用于气相沉积平板显示器的薄膜的掩模组件, 其包括框架和多个单元掩模。所述框架包括围绕一开口的一对第一支撑部和 一对第二支撑部。所述多个单元掩模具有至少一组图案开口,所述多个单元 掩模被固定在所述第一支撑部上,同时所述多个单元掩模上施加有张紧力。所述第 一支撑部包括第 一表面和第二表面。所述多个单元掩模被固定在所述 第一表面上。所述第二表面从第一表面沿所述多个单元掩模的厚度方向具有 相对所述第一表面的高度差。所述第一表面可比第二表面更靠近所述开口 ,所述第二表面可具有比第 一表面的高度低的高度。所述第一支撑部的第一表面的厚度可大于所述第一 支撑部的第二表面的厚度。所述第一支撑部的所述第一表面和第二表面的相 对表面可纟皮形成为平坦的。所述第一表面可具有与所述第二支撑部的高度相同的高度。所述第一支撑部可满足关系式0.2<W2/W1<0.4,其中Wl表示所述第 一支撑部的宽 度,W2表示所述第一表面的宽度。本专利技术的另 一 方面是一种用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件, 所述掩模组件包括i)包括一对第一支撑部和一对第二支撑部的框架,其中 所述两对支撑部被彼此连接,以使连接后的所述两对支撑部的内周界限定一 开口;和ii)具有至少一组图案开口的多个单元掩模,其中所述多个单元掩模 被固定至所述第一支撑部,同时所述多个单元掩模上施加有张紧力,所述多 个单元掩模具有长度和厚度;其中,所述第一支撑部包括a)连接至所述多 个单元掩模的一部分的第一子区域,其中当从所述多个单元掩模的厚度方向 观察时,所述第一子区域与所述多个单元掩模的所述一部分重叠,并且,所 述第一子区域具有沿所述厚度方向测量的第一高度,和b)沿所述多个单元掩 模的长度方向从所述第一子区域延伸的第二子区域,其中当从所述厚度方向 观察时,所述第二子区域未被连接至所述多个单元掩模,并与所述多个单元 掩模不重叠,并且,所述第二子区域具有与所述第一高度不同的第二高度。在上述掩模组件中,所述第一子区域可比所述第二子区域更靠近所述开 口。在上述掩模组件中,所述第一高度可大于所述第二高度。在上述掩模组 件中,所述第一子区域和第二子区域中的每一个均包括彼此相对的上表面和 下表面,其中所述第 一子区域的上表面可被连接至所述多个单元掩模的所述 一部分,并且所述第一子区域和第二子区域的下表面可共同形成平坦表面。在上述掩模组件中,所述第一子区域可具有与所述第二支撑部的高度相同的高度。在上述掩模组件中,所述第一支撑部可满足关系式0.2<W2/W1 <0.4,其中Wl表示所述第一支撑部的宽度,W2表示所述第一子区域的宽 度。在上述掩模组件中,所述框架可被构造为通过所述开口接收从气相沉积 源蒸发的有机材料。在上述掩模组件中,所述第一子区域可被焊接至所述多 个单元掩模的所述一部分。在上述掩模组件中,所述第 一子区域具有沿所述多个单元掩模的长度方 向测量的第一长度,所述第二子区域具有沿所述长度方向测量的第二长度, 并且所述第二长度可大于所述第一长度。本专利技术的另一方面是一种用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件, 所述掩模组件包括i)具有至少一组图案开口的多个单元掩模;和ii)包括第 一对侧部和第二对侧部的框架,其中所述第一对侧部和第二对侧部祐:彼此连接,以使连接后的所述两对侧部的内周界限定一开口 ,其中a)所述两对侧 部被构造为支撑所述多个单元掩模,b)所述多个单元掩模的大部分通过所述 框架的开口被暴露,c)所述第 一对侧部中的每一个均包括彼此具有不同厚度 的第 一子区域和第二子区域,其中所述第二子区域从所述第 一子区域延伸, d)当从所述多个单元掩模的厚度方向观察时,所述笫一子区域被连接至所述 多个单元掩模的一部分,并与所述多个单元掩模的所述一部分重叠;和e)当 从所述厚度方向观察时,所述第二子区域未被连接至所述多个单元掩模,并 与所述多个单元掩模不重叠。在上述掩模组件中,所述第一子区域的厚度可大于所述第二子区域的厚 度。在上述掩模组件中,所述第一子区域的厚度与所述第二子区域的厚度之 间的差小于10mm。在上述掩模组件中,所述第一子区域具有沿所述多个单元掩模的长度方 向测量的第一长度,所述第二子区域具有沿所述长度方向测量的第二长度, 并且所述第二长度可大于所述第一长度。在上述掩模组件中,所述框架被构造为通过所述开口接收从气相沉积源蒸发的有机材料。在上述掩模组件中,W2/W1的比可基于所需气相沉积精度而被确定, 其中Wl表示所述第一对侧部中每一个的宽度,W2表示所述第一子区域的 宽度。在上述掩模组件中,所述W2/W1的比可在从0.2至0.4的范围内。附图说明图1是根据本专利技术一示例性实施例的用于气相沉积平板显示器的薄膜 的掩模组件的分解透视图。图2是根据本专利技术该示例性实施例的用于气相沉积平板显示器的薄膜 的掩模组件的俯视图。图3是沿图2中所示的线I-I所取的掩模组件的横截面图。图4是表示通过利用该掩模组件的平板显示器的气相沉积过程的示意图。图5是图3中所示的掩模组件的局部放大图。 图6是根据比较示例的掩模组件的局部放大图。具体实施例方式典型的掩模组件包括具有开口的框架,并且带形的一些单元掩模被基本 平行地固定在该框架上,同时沿长度方向具有张紧特性。所述单元掩模被焊 接至所述框架,且所述框架的上表面具有平坦表面。每个单元掩模包括多组图案开口 ,以使多个OLED显示器可被形成在母 板上。 一组图案开口对应于一个显示装置,并且,每个图案开口的形状与形 成在该显示装置中的多个电极或多个发射层的形状基本相同。当气相沉积过程通过利用掩模组件被执行一段预定时间时,有机材料被 气相沉积在单元掩模和框架上。因此,通过清洗去除该有机材料以后,掩模 组件被再次气相沉积。掩模組件的清洗,通过利用清洗液、从该掩模组件去 除有机材料以及干燥该掩模组件而执行。然而,清洗液在清洗过程中可能流入单元掩模与框架之间的空隙中,且 清洗液在掩模组件被干燥后仍有残留。由于有机材料被包括在该清洗液中, 因此,由残留的清洗液在单元掩模的表面上可形成突起或凹陷。在这种情况下,当母板被设置在蕈元掩模上以执行气相沉积时,单元掩 模与母板之间的粘本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于平板显示器的薄膜气相沉积的掩模组件,所述掩模组件包括: 包括一对第一支撑部和一对第二支撑部的框架,其中所述两对支撑部被彼此连接,以使连接后的所述两对支撑部的内周界限定一开口;以及 具有至少一组图案开口的多个单元掩模,其中 所述多个单元掩模被固定至所述第一支撑部,同时所述多个单元掩模上施加有张紧力,所述多个单元掩模具有长度和厚度, 其中,所述第一支撑部包括: 连接至所述多个单元掩模的一部分的第一子区域,其中当从所述多个单元掩模的厚度方向观察时,所述 第一子区域与所述多个单元掩模的所述一部分重叠,并且,所述第一子区域具有沿所述厚度方向测量的第一高度,以及 沿所述多个单元掩模的长度方向从所述第一子区域延伸的第二子区域,其中当从所述厚度方向观察时,所述第二子区域未被连接至所述多个单元掩 模,并与所述多个单元掩模不重叠,并且,所述第二子区域具有与所述第一高度不同的第二高度。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:成栋永金和正
申请(专利权)人:三星移动显示器株式会社
类型:发明
国别省市:KR[韩国]

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