研磨垫及其制造方法、以及研磨物的制造方法技术

本发明专利技术涉及研磨垫及其制造方法、以及研磨物的制造方法。本发明专利技术的目的在于提供研磨垫及其制造方法、以及使用了研磨垫的研磨物的制造方法，所述研磨垫能够确保对具有曲面的被研磨物进行研磨时的研磨面品质。本发明专利技术的课题是一种研磨垫，所述研磨垫具有基材和含浸于该基材中的树脂，所述基材具有配置有绒头的研磨面和连接所述绒头的一端的连接部，所述研磨垫至少满足下述条件：所述绒头来自于具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维的针织物中的所述中间纤维，所述针织物是以经编或纬编构成的针织物；所述连接部来自于所述表面背面纤维中的任一方。

【技术实现步骤摘要】
研磨垫及其制造方法、以及研磨物的制造方法
本专利技术涉及研磨垫及其制造方法、以及研磨物的制造方法
技术介绍
以往，在对具有平面和曲面的被研磨物的研磨中，使用抛光轮(buff)是已知的(专利文献1)。在专利文献1中提出了下述抛光轮，为了使研磨面上产生缓冲作用从而降低其与被研磨物之间的摩擦阻力，在铺设于旋转板表面的基布的表面上，多张带状的研磨布以彼此具有适宜间隔的方式从旋转板的中心呈放射状配置。现有技术文献专利文献专利文献1：日本特开平10-15835号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而，抛光轮缺少对被研磨物表面的追随性，要研磨平面及曲面时，需要一边改变接触的位置及角度一边进行研磨，因此，研磨工序变得复杂，从成本的观点考虑存在问题。另外，也可考虑代替抛光轮而使用下述研磨垫对具有平面和曲面的被研磨物进行研磨，所述研磨垫是在海绵、无纺布中含浸树脂而得到的，其中，为了实现对曲面的追随性而在研磨表面上形成有槽。但是，仅通过形成槽以试图提高对曲面的追随性的研磨垫存在容易使被研磨物的表面产生来自槽的研磨痕迹的问题。此外，在为了使如上所述地形成有槽的研磨垫追随被研磨物而将该研磨垫弯曲时，在被槽夹住的脊面部的尤其是接近槽的部分中会被施以负荷，脊面部变得容易破损·脱落，结果，会使被研磨物上产生划伤等缺陷。此外，在使用无纺布的情况下，也有可能由于纤维的脱落而使被研磨物上产生划伤等缺陷。因此，在对具有平面及曲面、进而还具有侧面(其为朝向与平面不同的方向的面，通常介由曲面而与平面相连接。)的玻璃、金属壳体的这些表面进行镜面研磨时，需要在使用平面研磨机时不仅能对平面进行研磨而且还能对曲面及侧面进行研磨、并且不会使研磨后的被研磨物表面产生研磨痕迹的研磨垫。本专利技术是鉴于上述情况而作出的，目的在于提供下述研磨垫及其制造方法、以及使用了研磨垫的研磨物的制造方法，所述研磨垫使得在使用平面研磨机时不仅能对被研磨物所具有的平面进行研磨而且还能对曲面及侧面进行研磨，并且能够确保研磨面品质。用于解决课题的手段为了解决上述课题，本申请的专利技术人进行了锐意研究。结果发现，若为构成是具备通过除去针织物的表面而形成有绒头的基材、并且该基材含浸有树脂的研磨垫，则能够解决上述课题，从而完成了本专利技术。即，本专利技术如下所述。〔1〕研磨垫，所述研磨垫具有：基材，所述基材具有配置有绒头的研磨面和连接所述绒头的一端的连接部；和含浸于该基材中的树脂，所述研磨垫至少满足下述条件：所述绒头来自于具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维的针织物中的所述中间纤维，所述针织物是以经编或纬编构成的针织物；所述连接部来自于所述表面背面纤维中的任一方。〔2〕如〔1〕所述的研磨垫，其中，所述绒头的平均长度为0.5～20mm。〔3〕如〔1〕或〔2〕所述的研磨垫，其中，所述绒头为原纱(日文：なま糸)。〔4〕如〔1〕～〔3〕中任一项所述的研磨垫，其中，所述树脂包含聚碳酸酯系聚氨酯树脂。〔5〕如〔1〕～〔4〕中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的肖氏A硬度为0～30°。〔6〕如〔1〕～〔5〕中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的压缩弹性模量为50～98％。〔7〕如〔1〕～〔6〕中任一项所述的研磨垫，其中，构成所述针织物的单纱的数均直径为3～500μm。〔8〕如〔1〕～〔7〕中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的压缩变形量为0.5～15mm。〔9〕如〔1〕～〔8〕中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的厚度为1.0～22mm。〔10〕如〔1〕～〔9〕中任一项所述的研磨垫，其中，在所述基材的与所述研磨面相反的一侧还具有缓冲层。〔11〕如〔10〕所述的研磨垫，其中，所述缓冲层的厚度为3～25mm。〔12〕如〔10〕或〔11〕所述的研磨垫，其中，所述缓冲层的肖氏A硬度为0～0.3°。〔13〕如〔10〕～〔12〕中任一项所述的研磨垫，其中，所述缓冲层的压缩变形量为2.0～20mm。〔14〕如〔10〕～〔13〕中任一项所述的研磨垫，其中，所述缓冲层的压缩弹性模量为85～99％。〔15〕如〔10〕～〔14〕中任一项所述的研磨垫，其中，所述缓冲层的密度为0.010～0.100g/cm3。〔16〕研磨垫的制造方法，所述制造方法包括下述工序：含浸工序，使包含树脂的树脂溶液含浸于以经编或纬编构成的针织物中，并进行湿式凝固，由此得到树脂含浸针织物；和表面除去工序，将存在于所述树脂含浸针织物的表面背面中任一面上的树脂及纤维除去，由此，使连接所述针织物的表面背面的中间纤维以绒头的形式露出。〔17〕如〔16〕所述的制造方法，其中，在所述表面除去工序前包括浸渍工序，所述浸渍工序为：将所述树脂含浸针织物浸渍在包含可溶解所述树脂的溶剂的浸渍液中。〔18〕如〔16〕或〔17〕所述的研磨垫的制造方法，其中，所述树脂在选自由N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、甲基乙基酮及二甲基亚砜组成的组中的1种以上的溶剂中可溶。〔19〕如〔16〕～〔18〕中任一项所述的研磨垫的制造方法，其中，可溶解所述树脂的溶剂包含选自由N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、甲基乙基酮及二甲基亚砜组成的组中的1种以上的溶剂〔20〕研磨物的制造方法，所述制造方法包括使用〔1〕～〔15〕中任一项所述的研磨垫对被研磨物进行研磨的研磨工序。专利技术的效果通过本专利技术，可提供下述研磨垫及其制造方法、以及使用了研磨垫的研磨物的制造方法，所述研磨垫使得在使用平面研磨机时不仅能对被研磨物所具有的平面进行研磨而且还能对曲面及侧面进行研磨，并且能够确保研磨面品质。附图说明[图1]是表示本实施方式的研磨垫的制造方法中的表面除去工序的概念图。[图2]是表示实施例的研磨试验中使用的托架(carrier)的概念图。[图3]是用于说明实施例的研磨试验的概念图。[图4]是比较例中使用的无纺布A的剖面图。[图5]是实施例1的研磨试验前的被研磨物表面(曲面)的照片。[图6]是实施例1的研磨试验后的被研磨物表面(曲面)的照片。具体实施方式以下，根据需要参照附图对本专利技术的具体实施方式(以下，简称为“本实施方式”。)进行详细说明。另外，只要没有特别的说明，则上下左右等位置关系以附图中所示的位置关系为基准。此外，附图的尺寸比例并不限于图示的比例。〔研磨垫〕本实施方式的研磨垫具有基材和含浸于该基材中的树脂，所述基材具有配置有绒头的研磨面和连接所述绒头的一端的连接部，所述研磨垫至少满足下述条件：所述绒头来自于具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维的针织物中的所述中间纤维，所述针织物是以经编或纬编构成的针织物；所述连接部来自于所述表面背面纤维中的任一方。即，本实施方式的研磨垫的基材是通过下述方式得到的：从以经编或纬编构成的、具有形成表面背面的表面背面纤维和连接表面背面的中间纤维的针织物，通过抛光处理或切剖处理而将表面背面中的任一面除去，由此制成具有配置有绒头的研磨面和连接所述绒头的一端的连接部的基材。如上所述，通过使得以经编或纬编构成的针织物的表面背面中的任一面以沿面方向被切剖的状态被具备，能够形成绒头，并且绒头的纤维端面分布均匀，从而能够形成纤维的脱离被抑制的研磨面。因此，在使用本实施方式的研磨垫通本文档来自技高网...

【技术保护点】
研磨垫，所述研磨垫具有：基材，所述基材具有配置有绒头的研磨面和连接所述绒头的一端的连接部；和含浸于所述基材中的树脂，所述研磨垫至少满足下述条件：所述绒头来自于具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维的针织物中的所述中间纤维，所述针织物是以经编或纬编构成的针织物；所述连接部来自于所述表面背面纤维中的任一方。

【技术特征摘要】
2016.11.11 JP 2016-220324;2017.06.19 JP 2017-119461.研磨垫，所述研磨垫具有：基材，所述基材具有配置有绒头的研磨面和连接所述绒头的一端的连接部；和含浸于所述基材中的树脂，所述研磨垫至少满足下述条件：所述绒头来自于具有形成表面背面的表面背面纤维和连接所述表面背面的中间纤维的针织物中的所述中间纤维，所述针织物是以经编或纬编构成的针织物；所述连接部来自于所述表面背面纤维中的任一方。2.如权利要求1所述的研磨垫，其中，所述绒头的平均长度为0.5～20mm。3.如权利要求1或2所述的研磨垫，其中，所述绒头为原纱。4.如权利要求1～3中任一项所述的研磨垫，其中，所述树脂包含聚碳酸酯系聚氨酯树脂。5.如权利要求1～4中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的肖氏A硬度为0～30°。6.如权利要求1～5中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的压缩弹性模量为50～98％。7.如权利要求1～6中任一项所述的研磨垫，其中，构成所述针织物的单纱的数均直径为3～500μm。8.如权利要求1～7中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的压缩变形量为0.5～15mm。9.如权利要求1～8中任一项所述的研磨垫，其中，含浸有所述树脂的所述基材的厚度为1.0～22mm。10.如权利要求1～9中任一项所述的研磨垫，其中，在所述基材的与所述研磨面相反的一侧还具有缓冲层。11.如权利要求10...

【专利技术属性】
技术研发人员：小池坚一，德重伸，山田龙也，柏田太志，
申请(专利权)人：富士纺控股株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP