研磨抛光机制造技术

本发明专利技术涉及一种研磨抛光机，该研磨抛光机包括机架、第一调节臂、第二调节臂、驱动机构、抛光盘及研磨台。第一调节臂与机架枢接，第二调节臂与第一调节臂铰接。驱动机构包括驱动电机及伸缩件，抛光盘设置于伸缩件的末端并通过穿设于伸缩件的驱动轴与驱动电机的转子连接，研磨台包括承载盘和集液板。上述研磨抛光机，可以在驱动电机的驱动下对放置在承载盘上的待加工部件进行研磨抛光处理，由于多个集液槽围绕承载盘分布，使得在研磨抛光过程中加入的抛光液可以汇集在多个集液槽中，待加工操作完成后在进行统一处理，如此解决了抛光液在加工过程中容易流出操作台的技术问题，并在提高了工作环境的卫生，从而提高了研磨抛光的效率。

Grinding and polishing machine

The invention relates to a grinding and polishing machine, which comprises a frame, a first adjusting arm, a second adjusting arm, a driving mechanism, a polishing disc and a polishing table. The first adjusting arm is pivoted with the machine frame, and the second regulating arm is hinged with the first adjusting arm. The driving mechanism comprises a driving motor and a telescopic piece, wherein, the polishing disc is arranged at the end of the extension part and is connected with the rotor of the driving motor through a driving shaft which is arranged on the telescopic piece. The polishing machine, can drive the driving motor of the bearing components to be placed in the process of disc on the polishing process, due to the multiple collecting tank around the bearing disk distribution, makes the polishing liquid is added in the polishing process can be collected on a collecting tank, to be processed after the completion of the operation in a unified so, to solve the technical problems of easy operation Taiwan outflow polishing liquid in the machining process, and improve the working environment and health, so as to improve the efficiency of grinding and polishing.

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及抛光
，特别是涉及一种研磨抛光机。
技术介绍
研磨抛光机在晶片加工行业中应用比较广泛，主要用于晶片的铜抛光与CMP抛光，属于高精密加工，产品尺寸的精度要求较高。目前，研磨机在晶片的研磨抛光等精加工过程中所使用的研磨抛光液，在加工过程中容易流出操作台，影响研磨机周围的卫生环境。
技术实现思路
基于此，有必要针对抛光液在加工过程中容易流出操作台的技术问题，提供一种研磨抛光机。一种研磨抛光机，该研磨抛光机包括机架、第一调节臂、第二调节臂、驱动机构、抛光盘及研磨台。所述第一调节臂与所述机架枢接，所述第二调节臂与所述第一调节臂铰接。所述驱动机构包括驱动电机及伸缩件，所述驱动电机设置于所述第二调节臂上，所述伸缩件设置于所述第二调节臂上。所述抛光盘设置于所述伸缩件的末端并通过穿设于所述伸缩件的驱动轴与所述驱动电机的转子连接。所述研磨台包括承载盘和集液板，所述承载盘设置于所述集液板的中部区域，所述集液板设置于所述机架上，所述集液板具有多个集液槽，多个所述集液槽围绕所述承载盘分布。在其中一个实施例中，所述集液板为长方体结构，所述集液板的四个转角通过螺钉固定在所述机架上。在其中一个实施例中，所述承载盘的表面开设有网格槽，所述网格槽具有若干凹槽，相邻的两个所述凹槽连通设置。在其中一个实施例中，所述承载盘的底部开设有排液口，所述排液口与一所述凹槽连通，且所述排液口还与多个所述集液槽连通设置。在其中一个实施例中，所述集液板开设有多条引流槽，每一所述引流槽对应于一所述集液槽连通，且多条所述引流槽均与所述排液口连通设置。在其中一个实施例中，多条所述引流槽从所述集液板的中部区域朝外部呈放射状分布。上述研磨抛光机，通过第二调节臂与第一调节臂，可以将抛光盘移动到研磨台的上方位置，待加工部件放置在承载盘后，通过伸缩件调节抛光盘与承载盘的距离，并在驱动电机的驱动下对放置在承载盘上的待加工部件进行研磨抛光处理，由于集液板具有多个集液槽，且多个集液槽围绕承载盘分布，使得在研磨抛光过程中加入的抛光液可以汇集在多个集液槽中，待加工操作完成后在进行统一处理，如此解决了抛光液在加工过程中容易流出操作台的技术问题，并在提高了工作环境的卫生，从而提高了研磨抛光的效率。附图说明图1为一个实施例中研磨抛光机的结构示意图；图2为一个实施例中研磨抛光机的另一视角的结构示意图；图3为另一个实施例中研磨抛光机的结构示意图；图4为另一个实施例中研磨抛光机的结构示意图。具体实施方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。在本专利技术的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本专利技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本专利技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本专利技术的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本专利技术中的具体含义。在本专利技术中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。请参阅图1，其为一个实施例中研磨抛光机10的结构示意图，例如，一种研磨抛光机10包括：机架110、第一调节臂120、第二调节臂130、驱动机构140、抛光盘150以及研磨台160。例如，第一调节臂120与机架110枢接。例如，第一调节臂120通过轴承与机架110连接。也就是说，第一调节臂120相对机架110可左右转动。例如，第一调节臂120相对机架110转动360度、逆时针循环转动或者顺时针循环转动。这样可以根据研磨抛光的需要，调节第一调节臂120相对机架110的角度。例如，第二调节臂130与第一调节臂120铰接。例如，第一调节臂120通过轴承与第一调节臂120连接。也就是说，第二调节臂130相对第一调节臂120可自由转动。由于第一调节臂120相对机架110可左右转动。因此，第一调节臂120和第二调节臂130组合后可以根据研磨抛光的需要进一步调节第二调节臂130相对机架110的角度。例如，研磨抛光机还包括除尘机构，除尘机构设置于所述机架上，例如，除尘机构包括吸尘条和静电产生器。例如，静电产生器设置于机架上，吸尘条邻近所述抛光盘。例如，静电产生器与吸尘条电性连接，用于使吸尘条带上静电。本实施例中，静电产生器设置在所述机架的边缘位置并且与吸尘条电性连接。例如，吸尘条围绕抛光盘设置。本实施例中，吸尘条靠近机架设置，这样可以有效地吸附从研磨抛光机散出的粉尘。又如，所述吸尘条设置于所述机架上，例如，所述吸尘条通过变速齿轮连接所述转子或所述抛光盘，用于在所述转子带动所述抛光盘转动时，所述吸尘条相应地慢速转动，以达到自动高效除尘效果。有如，所述吸尘条具有相连接的固定子结构与旋转子结构，所述固定子结构与所述静电产生器电性连接，所述旋转子结构设置吸尘套件及环形连接件，所述环形连接件与所述变速齿轮连接，用于跟随所述转子慢速转动，例如所述变速齿轮为1：(50～5000)的降速齿轮组，使得所述环形连接件较所述转子慢速转动，环形连接件的速度较低，所述吸尘套件可拆卸地套置于所述环形连接件，并且所述吸尘套件与所述固定子结构电性连接，所述静电产生器用于使所述吸尘条的所述吸尘套件带上静电，所述吸尘套件用于实现自动吸尘、容易本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种研磨抛光机，其特征在于，包括：机架；第一调节臂，所述第一调节臂与所述机架枢接；第二调节臂，所述第二调节臂与所述第一调节臂铰接；驱动机构，所述驱动机构包括驱动电机及伸缩件，所述驱动电机设置于所述第二调节臂上，所述伸缩件设置于所述第二调节臂上；抛光盘，所述抛光盘设置于所述伸缩件的末端并通过穿设于所述伸缩件的驱动轴与所述驱动电机的转子连接；研磨台，所述研磨台包括承载盘和集液板，所述承载盘设置于所述集液板的中部区域，所述集液板设置于所述机架上，所述集液板具有多个集液槽，多个所述集液槽围绕所述承载盘分布。

【技术特征摘要】
1.一种研磨抛光机，其特征在于，包括：机架；第一调节臂，所述第一调节臂与所述机架枢接；第二调节臂，所述第二调节臂与所述第一调节臂铰接；驱动机构，所述驱动机构包括驱动电机及伸缩件，所述驱动电机设置于所述第二调节臂上，所述伸缩件设置于所述第二调节臂上；抛光盘，所述抛光盘设置于所述伸缩件的末端并通过穿设于所述伸缩件的驱动轴与所述驱动电机的转子连接；研磨台，所述研磨台包括承载盘和集液板，所述承载盘设置于所述集液板的中部区域，所述集液板设置于所述机架上，所述集液板具有多个集液槽，多个所述集液槽围绕所述承载盘分布。2.根据权利要求1所述的研磨抛光机，其特征在于，所述集液板为长方体结构，...

【专利技术属性】
技术研发人员：周利虎，刘宇杰，宋军，
申请(专利权)人：德米特苏州电子环保材料有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏;32