一种氧化铝基质抛光液及其制备方法和应用技术

本发明专利技术公开了一种氧化铝基质抛光液及其制备方法和应用，制备：（1）将拟薄水铝石和硼酸混匀制成混合料，然后将混合料进行压实以缩小颗粒间间距，再煅烧，粉碎至D

【技术实现步骤摘要】
一种氧化铝基质抛光液及其制备方法和应用


[0001]本专利技术涉及树脂镜片抛光
，尤其涉及抛光树脂镜片例如CR39镜片、PC镜片的抛光介质，具体涉及一种氧化铝基质抛光液及其制备方法和应用。

技术介绍

[0002]太阳光中的紫外线会对人体的眼睛皮肤造成严重伤害，尤其是紫外线中的UVB(波长280～320nm，又称为中波红斑效应紫外线)对视力有严重影响，是烧黑皮肤的光线，大部分眼角会吸收此种UVB光线，所以一定要过滤掉此种光线。CR39镜片学名碳本酸丙烯乙酸，是应用最广泛的生产普通树脂镜片的材料，在1955
‑
1960年代已被应用在生产眼用矫正镜片，具有超轻，抗冲击的功能，CR39镜片是热固性材料，单体呈液态，在加热和催化剂的作用下进行聚合固化，形成一个新的聚合物分子，CR39的折射率分为：1.50，1.56，1.61，1.67，1.74，CR39具有将光偏极化的功能，所以能将太阳光中的有害光线阻隔掉并能够不影响可视光的透过，能够真正达到保护眼睛的作用。PC镜片学名聚碳酸酯是热塑性材料，原料为固态，经加热后塑形为镜片，所以这种镜片不适合高湿热场合，但它有着极强韧性，不破碎，机械性能良好，硬度高，折射指数高。相对于CR39镜片，PC镜片更轻，但是比CR39镜片贵，防紫外线效果更好，PC镜片在国外用的较多。
[0003]目前，针对CR39镜片和PC镜片的抛光大部分采用氧化铝基质的抛光液，其中的氧化铝可以采用拟薄水铝石煅烧制备，但现有采用拟薄水铝石制备氧化铝后而制成的抛光液或多或少地存在着使用条件苛刻、抛光效率和抛光质量不佳、波美稳定性差，使用寿命短，抛光效果好的抛光液却又价格昂贵。

技术实现思路

[0004]本专利技术所要解决的技术问题是克服现有技术的不足，提供了一种改进的氧化铝基质抛光液的制备方法，该方法制成的氧化铝基质抛光液能够在对CR39镜片和PC镜片的抛光过程中兼具优异的抛光效率、低划伤甚至不划伤，且工艺简单，成本低。
[0005]本专利技术同时还提供了一种上述制备方法制成的氧化铝基质抛光液。
[0006]本专利技术同时还提供了一种上述制成的氧化铝基质抛光液在抛光CR39镜片、PC镜片中的应用。
[0007]为解决以上技术问题，本专利技术采取的一种技术方案如下：
[0008]一种氧化铝基质抛光液的制备方法，所述制备方法包括如下步骤：
[0009](1)将拟薄水铝石和硼酸混匀制成混合料，然后将混合料进行压实以缩小颗粒间间距，再煅烧，粉碎至D
50
为20
‑
25μm，采用湿法研磨并研磨至颗粒粒度D
50
为2.0
‑
2.5μm，D
100
小于15μm；
[0010](2)将按照步骤(1)方法获得的球磨浆液、硅溶胶、悬浮剂和消泡剂混合，制成氧化铝基质抛光液。
[0011]根据本专利技术的一些优选方面，步骤(1)中，以质量百分含量计，硼酸的添加量占拟
薄水铝石的0.01
‑
1％。
[0012]根据本专利技术，步骤(1)中，所述压实为通过外力对混合料进行挤压并形成具有一定形状的中间体，该中间体在无其它外力作用下可以保持其形状。
[0013]根据本专利技术的一些优选方面，步骤(1)中，所述煅烧在煅烧温度为1050
‑
1100℃下进行。
[0014]根据本专利技术的一些优选方面，步骤(1)中，控制煅烧后颗粒的比表面积为20
‑
40m2/g，晶粒尺寸为90
‑
110nm。
[0015]根据本专利技术的一些优选方面，步骤(1)中，在所述湿法研磨过程中，向球磨浆液中添加硝酸和/或磷酸，以质量百分含量计，所述硝酸和/或磷酸的添加量为球磨浆液的2
‑
4％。
[0016]根据本专利技术的一些优选方面，步骤(1)中，在所述湿法研磨过程中，采用高能振动球磨机进行，所述高能振动球磨机的参数为：球磨机输入能量为50
‑
80Hz，磨珠直径为10
‑
14mm，料球比为1∶8
‑
12，球磨浆液的固含量为35
‑
40％。
[0017]根据本专利技术的一些优选方面，步骤(2)中，以质量百分含量计，制成的氧化铝基质抛光液中，硅溶胶占5
‑
10％，悬浮剂占0.5
‑
2％，消泡剂占0.2
‑
1％，其余为按照步骤(1)方法获得的球磨浆液以及选择性的水。
[0018]根据本专利技术的一些优选方面，所述硅溶胶中颗粒D
50
为80
‑
120nm。
[0019]根据本专利技术，控制氧化铝基质抛光液的固含量为20
‑
30％。
[0020]根据本专利技术的一些优选方面，步骤(2)的具体实施方式为：在搅拌条件下，依次向按照步骤(1)方法获得的球磨浆液中加入硅溶胶、悬浮剂、消泡剂，制成氧化铝基质抛光液。
[0021]本专利技术提供的又一技术方案：一种上述所述的制备方法制成的氧化铝基质抛光液。
[0022]本专利技术提供的又一技术方案：一种上述所述的氧化铝基质抛光液在抛光CR39镜片、PC镜片中的应用。
[0023]由于以上技术方案的采用，本专利技术与现有技术相比具有如下优点：
[0024]本专利技术基于现有采用拟薄水铝石制备氧化铝基质抛光液存在的问题，通过在制备起始时向拟薄水铝石中引入硼酸，并结合压实操作，使得煅烧后的物料颗粒更圆润且颗粒尺寸能够更大，从而使得粉碎研磨后获得的氧化铝颗粒表面具有边缘更加圆润，棱角模糊化，晶粒长大且晶粒较均匀，但又极少存在现有常规煅烧步骤极易发生的杂乱无章的棱角，从而在显著提升抛光速度的同时减少划伤，且工艺简单，成本低。
[0025]此外，本专利技术方法制备的氧化铝基质抛光液还具有更好的波美稳定性，不起泡，使用寿命长。
附图说明
[0026]图1为CR39镜片未抛光的金相显微镜图；
[0027]图2为PC镜片未抛光的金相显微镜图；
[0028]图3为实施例1的氧化铝基质抛光液对CR39镜片抛光后的金相显微镜图；
[0029]图4为实施例1的氧化铝基质抛光液对PC镜片抛光后的金相显微镜图；
[0030]图5为实施例2的氧化铝基质抛光液对CR39镜片抛光后的金相显微镜图；
[0031]图6为实施例2的氧化铝基质抛光液对PC镜片抛光后的金相显微镜图；
[0032]图7为实施例3的氧化铝基质抛光液对CR39镜片抛光后的金相显微镜图；
[0033]图8为实施例3的氧化铝基质抛光液对PC镜片抛光后的金相显微镜图；
[0034]图9为对比例1的氧化铝基质抛光液对CR39镜片抛光后的金相显微镜图；
[0035]图10为对比例1的氧化铝基质抛光液对PC镜片抛光后的金相显微镜图；
[0036]图11为对比例2的氧化铝基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种氧化铝基质抛光液的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：（1）将拟薄水铝石和硼酸混匀制成混合料，然后将混合料进行压实以缩小颗粒间间距，再煅烧，粉碎至D
50
为20
‑
25μm，采用湿法研磨并研磨至颗粒粒度D
50
为2.0
‑
2.5μm，D
100
小于15μm；（2）将按照步骤（1）方法获得的球磨浆液、硅溶胶、悬浮剂和消泡剂混合，制成氧化铝基质抛光液。2.根据权利要求1所述的氧化铝基质抛光液的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，以质量百分含量计，硼酸的添加量占拟薄水铝石的0.01
‑
1%。3.根据权利要求1所述的氧化铝基质抛光液的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述压实为通过外力对混合料进行挤压并形成具有一定形状的中间体，该中间体在无其它外力作用下可以保持其形状。4.根据权利要求1所述的氧化铝基质抛光液的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，所述煅烧在煅烧温度为1050
‑
1100℃下进行，且控制煅烧后颗粒的比表面积为20
‑
40 m2/g，晶粒尺寸为90
‑
110nm。5.根据权利要求1所述的氧化铝基质抛光液的制备方法，其特征在于，步骤（1）中，在所述湿法研磨过程中，向球磨浆液中添加硝酸和/或磷酸，以质量百分含量计，所述硝酸和/或磷酸的添加量为球...

【专利技术属性】
技术研发人员：周利虎，付莹，
申请(专利权)人：德米特苏州电子环保材料有限公司，
类型：发明
国别省市：