研磨垫以及研磨方法技术

本发明专利技术提供一种研磨垫，其在对表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨对象物进行研磨时，能够充分研磨至研磨对象物的表面中凸部的附近部分、凹部的内表面。研磨垫具有立毛部(1)，所述立毛部(1)是多个长度为2mm以上的纤维(12)在基部(11)的表面立起而成的，纤维(12)的质量为250g/m

Grinding pad and grinding method

The present invention provides a polishing pad, the grinding in grinding object has at least one convex and concave on the surface, can be fully grinding and polishing object surface of convex concave part, near the inner surface. The grinding pad has a vertical hair part (1), and the vertical hair part (1) is made up of several fibers (12) above 2mm in length, and is made up on the surface of the base part (11), and the quality of the fiber (12) is 250g/m.

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】研磨垫以及研磨方法
本专利技术涉及研磨垫以及研磨方法。
技术介绍
使用例如由绒面革构成的以往的研磨垫对表面具有凸部的研磨对象物进行研磨时，虽然能够对研磨对象物的大部分表面进行研磨，但是对于研磨对象物的表面中凸部的附近部分，由于研磨垫的变形性不充分，因此有时研磨垫不与其接触，不能充分研磨。若使用具有纤维立起的立毛部的布帛(例如参照专利文献1)作为研磨垫，则由于立毛部的变形性高，因此可能立毛部也会接触研磨对象物的表面中凸部的附近部分。但是，在使用了专利文献1中公开的布帛作为研磨垫的研磨中，根据凸部的形状、大小不同，有时不能对研磨对象物表面中凸部的附近部分进行充分研磨。对表面具有凹部的研磨对象物进行研磨时也同样，使用了由绒面革构成的以往的研磨垫的研磨中、使用了专利文献1中公开的布帛作为研磨垫的研磨中，有时不能充分研磨至凹部的内表面。现有技术文献专利文献专利文献1：日本专利公开公报2010年第53502号
技术实现思路
专利技术要解决的问题因此，本专利技术的课题在于，解决如上所述的现有技术所具有的问题，提供一种在对表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨对象物进行研磨时，能够充分研磨至研磨对象物的表本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种研磨垫，其用于含有金属、合金、或者金属氧化物材料、且表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨对象物的研磨，所述研磨垫具有立毛部，所述立毛部是多个长度为2mm以上的纤维在基部的表面立起而成的，所述纤维的质量为250g/m

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2015.07.17 JP 2015-143464;2016.03.28 JP 2016-064311.一种研磨垫，其用于含有金属、合金、或者金属氧化物材料、且表面具有凸部和凹部中的至少一者的研磨对象物的研磨，所述研磨垫具有立毛部，所述立毛部是多个长度为2mm以上的纤维在基部的表面立起而成的，所述纤维的质量为250g/m2以上。2.根据权利要求1所述的研磨垫，其中，所述纤维的长度为10mm以上。3.根据权利要求1或2所述的研磨垫，其中，所述纤维的质量为800g/m2以上。4.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨垫，其中，所述纤维的根数为1000根/cm2以上。5.根据权利要求1～3中任一项所述的研磨垫，其中，所述纤维的根数为4000根/cm2以上。6.根据权利要求1～5中任一项所述的研磨垫，其具有多层结构，所述多层结构是在所述基部的与所述纤维立起的一侧相反的一侧设置由弹性体形成的弹性层而成的。7.根据权利要求1～6中任一项所述的研磨垫，其中，所述凸部的高度或者所述凹部的深度为0.1mm以上。8.根据权利要求1～7中任一项所述的研磨垫，其中，所述纤维的长度为所述凸部的高度或者所述凹部的深度的5.5倍以上。9.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：森永均，玉井一诚，田原宗明，浅井舞子，伊藤友一，
申请(专利权)人：福吉米株式会社，
类型：发明
国别省市：日本,JP