研磨垫制造技术

目的在于提供一种在不从水平方向与薄板状被研磨物的侧端部等凸状曲面部抵接的情况下不会施加过大的负荷的圆板状研磨垫。根据本实用新型专利技术，提供一种研磨垫，所述研磨垫是一边以中心轴线(A)为中心旋转一边对被研磨物(W)的侧端部进行研磨的圆板状研磨垫(1)，其具备遍及外周面整体地形成并向径向外侧开口的环状凹部(4)，环状凹部的横截面形状具有底边(6)、第一侧边(8)及第二侧边(10)，所述第一侧边及第二侧边分别从底边的两端到达环状凹部的各开口端部，第一侧边及第二侧边中的至少一方和底边为大致直线状，大致直线状的侧边向开口端，向圆板状研磨垫的轴线方向外侧相对于径向倾斜地延伸。

Grinding pad

The purpose is to provide a polishing pad in a circular plate from the horizontal direction and the thin plate-like abrasive side end of the convex curved face abutting the other without excessive load applied. The utility model provides a polishing pad, the polishing pad is the side to the center axis (A) as the center of rotation side of the object to be polished (W) side of the end plate shaped grinding polishing pad (1), an annular recess with the outer peripheral surface in integrally formed and open to the radial direction (4), the shape of cross section of the annular concave part has a base (6), the first side (8) and Ji Di (10), the two side of the first side of Ji Di two side respectively from the bottom edge of the ends of at the opening end of the annular recess, the first side of the two side of Ji Di the edge of at least one of the side and the bottom is approximately linear, approximately linear side to the open end, lateral to the axis of a circular plate polishing pad extend obliquely relative to the radial direction.

【技术实现步骤摘要】
研磨垫
本技术涉及研磨垫，详细而言，涉及一边旋转一边对被研磨物进行研磨的圆板状研磨垫。
技术介绍
作为对比较薄板状的被研磨物的侧端部的凸状曲面部进行研磨的研磨垫，已知有在侧面具备环状凹研磨部的圆板状研磨垫(专利文献1)。在先技术文献专利文献专利文献1：日本特开2015－208782号公报
技术实现思路
技术所要解决的问题该研磨垫是为了防止对薄板状被研磨物的侧端部等的凸状曲面部进行镜面精加工研磨时产生的研磨不均而设计的研磨垫，由圆盘状的弹性体构成，并在侧面(外周面)形成有环状凹研磨部。该研磨垫的环状凹研磨部与薄板状被研磨物的侧端部等凸状曲面部的形状相匹配地形成，并构成为具有比被研磨物的凸状曲面部分的形状稍微大径的横截面形状。在使用时，使被旋转驱动的研磨垫从水平方向(与中心轴线正交的方向)与被研磨物抵接并进行研磨。此时，当被研磨物的凸状曲面部分的顶点与研磨垫的环状凹研磨部的底点接触时，由于构成研磨垫的弹性体的压缩应力，环状凹研磨部的两侧的环状突起会向内侧弯曲。并且，当将被研磨物推压到环状凹研磨部时，环状凹研磨部整体沿着被研磨物的形状变形，并与被研磨物的凸状曲面部分及其周边部分紧贴。其结果是，没有本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种研磨垫，所述研磨垫是一边以中心轴线为中心旋转，一边对被研磨物的侧端部进行研磨的圆板状研磨垫，其特征在于，具备遍及外周面整体地形成并向径向外侧开口的环状凹部，所述环状凹部的横截面形状具有底边、第一侧边及第二侧边，所述第一侧边及第二侧边分别从所述底边的两端到达所述环状凹部的各开口端部，所述第一侧边及第二侧边中的至少一方和所述底边为大致直线状，所述大致直线状的侧边向所述开口端，向圆板状研磨垫的轴线方向外侧相对于径向倾斜地延伸。

【技术特征摘要】
2017.03.30 JP 2017-0014051.一种研磨垫，所述研磨垫是一边以中心轴线为中心旋转，一边对被研磨物的侧端部进行研磨的圆板状研磨垫，其特征在于，具备遍及外周面整体地形成并向径向外侧开口的环状凹部，所述环状凹部的横截面形状具有底边、第一侧边及第二侧边，所述第一侧边及第二侧边分别从所述底边的两端到达所述环状凹部的各开口端部，所述第一侧边及第二侧边中的至少一方和所述底边为大致直线状，所述大致直线状的侧边向所述开口端，向圆板状研磨垫的轴线方向外侧相对于径向倾斜地延伸。2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述底边、所述第一侧边及第二侧边为大致直线状。3.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，在所述第一侧边构成的第一侧面及第二侧边构成的第二侧面中的至少一方的开口侧端部与所述圆板的外缘之间，形成有环状带部。4.根据权利要求2所述的研磨垫，其特征在于，在所述第一侧边构成的第一侧面及第二侧边构成的第二侧面中的至少一方的开口侧端部与所述圆板的外缘之间，形成有环状带部。5.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，在所述第一侧边构成的第一侧面及第二侧边构成的第二侧面的开口侧端部与所述圆板的外缘之间，形成有环状带部。6.根据权利要求2所述的研磨垫，其特征在于，在所述第一侧边构成的第一侧面及第二侧边构成的第二侧面的开口侧端部与所述圆板的外缘之间，形成有环状带部。7.根据权利要求1至6中任一项所述的研磨垫，其特征在于，所述研磨垫由无纺布构成。8.根据权利要求1至6中任一项所述的研磨垫，其特征在于，将所述圆板的半径设为R，将所述环状凹部的深度设为Z时，满足式(1)：0.02≤Z/R≤0.5…式(1)。9.根据权利要求1至6中任一项所述的研磨垫，其特征在于，所述环状带部具有长度X的所述圆板的轴线方向长度，将所述环状凹部的侧壁的基部的厚度设为Y，将所述环状凹部的深度设为Z，将所述研磨垫的材料的A硬度设为A时，满足式(2)及式(3)：20≤A×(X+Y)/Z≤800…式(2)0.2≤(Y－X)/Z≤4.0…式(3)。10.根据权利要求1至6中任一项所述的研磨垫，其特征在于，将所述圆板的半径设为R...

【专利技术属性】
技术研发人员：小池坚一，柏田太志，德重伸，山田龙也，
申请(专利权)人：富士纺控股株式会社，
类型：新型
国别省市：日本,JP