用于处理平面处理物的方法、处理站和设备技术

为了将处理液(21)从在用于对处理物(10)以电解或湿化学方式进行处理的设备中输送的平面处理物(10)去除，或者为了促进处理物(10)的表面上的物质交换，辊设置有辊表面(4，14)。辊表面(4，14)相对于处理物(10)的输送路径设置，使得在辊表面(4，14)与处理物(10)的与辊表面(4，14)对置的有用区之间留有间隙(8，18)，该间隙在该有用区上延伸。辊以转动方式来驱动，使得在间隙(8，18)上产生辊表面(4，14)与处理物(10)之间的相对速度。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于处理平面处理物的方法、处理站和设备本专利技术涉及用于处理平面处理物的方法、处理站和设备。尤其是，本专利技术涉及这样的方法、处理站和设备，其允许处理具有敏感表面的处理物。本专利技术也涉及这样的方法、处理站和设备，其中可以减小在待处理的处理物有用区与坚固元件之间的接触。在加工平面处理物譬如电路板工业中的电路板时，处理物的处理通常在湿化学工艺线中进行。为了去除处理液譬如化学试剂或水，可以使用所谓的挤压辊。这样的辊例如可以被使用以便在处理站中进行浸渍处理的处理液累积，如其在DE 43 37 988A1中描述的那样。为了改进在基板表面上的物质交换可以使用喷嘴，以便将流体入流到处理物的表面。附图说明图18是处理站200的示意图，其中处理液的液体水平高于处理物203的输送平面，使得处理物203可以被浸渍地输送。处理物203在水平的输送方向204上输送通过处理站。为了输送处理物设置有辊对211-216，其与处理物203的向上指向的和向下指向的表面靠置，以便输送处理物。为了避免处理液的流出，设置有内部容器201，在该内部容器中处理液以(未示出的)高水平蓄积。内部容器201被外部容器202包围，使得外部容器202 收集从内部容器201中溢流的处理液。从在外部容器202中收集的在外部容器中具有水平 209的处理液208中，借助泵210将处理液泵送回内部容器201。处理液可以通过流入喷嘴 206,207或者另外的处理机构被回送到内部容器201中。为了在内部容器201中蓄积处理液，在内部容器201的流入区域和流出区域中使用所谓的挤压辊213、215的对。挤压辊213、215的对例如可以具有圆柱形外壳面。在该对 213的挤压辊213a、21!3b和辊对215的挤压辊靠置在处理物203上时，处理液能够通过其从内部容器201流出的自由横截面受限。通过相应调节泵210的运送率可以调节在内部容器 201中的处理液的所期望的水平。附加的辊对如辊对211、212、214和216在处理站的流入区域和流出区域中同样可以用作挤压辊。如果处理物203具有一个或多个敏感表面，则在挤压辊对213、215与处理物203 之间的直接接触会导致处理物203的表面的损伤，其中在传统挤压辊的情况下在处理物 203的整个宽度上即在横向于输送方向204的整个伸展上存在接触。对处理物203的表面的损伤例如会通过面挤压或者粘附到挤压辊213、215的表面上的颗粒和表面不平坦性引起。此外，在入流喷嘴206、207的区域中会引起处理物203的不希望的偏向，例如由于在处理站中的流动关系引起。偏向可以引起处理物203与处理站的其他元件接触。本专利技术所基于的任务是说明一种用于处理平面处理物的方法、处理站和设备，其中可以降低损伤处理物的敏感表面的危险。本专利技术基于的任务也在于说明一种用于制造电路板的方法，其中可以降低对电路板的敏感表面区域的损伤的危险。根据本专利技术，该任务通过如在独立权利要求中所说明的用于处理平面处理物的方法、处理站和设备。从属权利要求限定了本专利技术的优选的和有利的实施形式。根据一个方面说明了一种用于处理平面处理物的方法，其中该处理物在用于对处理物以电解或湿化学方式进行处理的设备中被输送。在该设备的处理站中处理物暴露于处理液，处理液覆盖处理物。在处理站中，带有辊表面的辊定位为使得辊表面至少与处理物的有用区(该有用区连续地在处理物的边缘区域之间延伸)间隔使得在处理物的有用区与辊表面之间留有间隙。辊表面至少部分设置在处理液中。辊以转动方式驱动使得在间隙上引起在辊表面与处理物的表面之间的相对速度。对处理物的表面的损伤的危险在该方法中可以减小，因为设置有在辊与处理物的有用区之间延伸的间隙。在一个扩展方案中，辊与整个处理物间隔。通过在间隙的相反的侧上的相对速度可以促进处理物的表面上的物质交换和/或减小处理液通过间隙流出。在辊表面与处理物的有用区之间留有的间隙可以通过设备的几何形状来预先给定或尤其是在处理物具有低固有硬度时由力平衡形成。辊表面的以间隙高度与处理物的表面间隔的部分可以以如下速度运动，该速度与处理物的输送速度在方向和/或量值上不同。辊可以驱动为使得辊表面的形成间隙边界的部分与处理物的输送方向相反地运动。由此，可以实现间隙上的相对速度，而辊不必以高转速旋转。辊有利地设置为使得其旋转轴线平行于处理物的输送平面。辊于是可以驱动为使得辊表面的环周速度的量值不同于处理物的输送速度的量值，尤其是大于输送速度的量值。在该情况下，辊表面的以间隙高度与处理物的表面间隔的部分在处理物的输送方向上运动。借助刮擦装置可以将处理液从辊去除。该刮擦装置可以调整为调节从辊去除的处理液量。以此方式可以控制通过辊引起的物质交换有多强或多强地减小液体从间隙中流出ο该刮擦装置可以设置为使得其距辊表面具有均等的距离。由此可以实现在轴向上对辊的均勻作用。在刮擦装置与辊表面之间的距离可以调节。例如，刮擦装置可以构建为板条，其平行于辊的轴线延伸并且可以以距辊表面不同的间隔来定位。辊可以作为处理机构设置在处理站中。这允许辊例如代替入流喷嘴而设置。通过将辊用作处理机构可以以较低的结构尺寸实现处理站。相应地，可以实现成本节约。作用于处理物的力可以被减小。可以降低能量开销。也可以实现处理浴的维护。在辊用作处理机构时，在辊表面与处理物的有用区之间的最小间隙高度小于 1mm、尤其是小于0. 7mm、尤其是小于0. 5mm。最小间隙高度可以为至少0. 05mm、尤其是至少0. 07mm、尤其是至少0. 09mm。最小间隙高度也可以大于所述的边界值，然而典型应小于 10.Omm0辊可以设置为使得通过在辊表面与处理物的表面之间的相对速度提高在处理物的待处理的表面上的物质交换。尤其是，辊可以设置为使得通过辊的转动形成对表面上的或在处理物的钻孔中的处理液的作用。在辊的在输送方向上相反的侧上，处理液可以在辊上累积(anstehen)直至处理站的运行水平。该辊也可以完全设置在处理站的运行水平以下。这允许将辊用作在处理站的可以与流入区域和流出区域间隔的区段中的处理机构。该辊也可以设置在处理站的流入区域或流出区域中。例如，该辊可以设置在处理站的内部容器的边缘的周边中。辊表面在此情况下形成了用于止回处理液的止回面。处理液通过间隙的流出由于在间隙上的相对运动而会降低。在辊表面用作止回面时，在辊表面与处理物的有用区之间的最小间隙高度可以小于1mm、尤其是小于0. 7mm、尤其是小于0. 5mm。最小间隙高度可以为至少0. 05mm、尤其是为至少0. 07mm、尤其是为最小0. 09mm。具有另一辊表面的另一辊可以定位为使得在处理物的有用区与该另一辊表面之间留有另一间隙。该辊和该另一辊可以设置在处理物的输送平面的相反的侧上。例如，该辊和该另一辊可以设置为使得其轴线设置在输送方向上相同的位置上。在另外的扩展方案中，该辊和该另一辊的轴线可以在输送方向上间隔。通过设置该另一辊可以进一步改进处理物的处理和/或可以进一步降低处理液的流出。该另一辊可以以转动方式驱动，使得该另一辊表面的形成该另一间隙的边缘的部分具有朝着输送方向的速度。该另一辊的环周速度的量值可以等于输送速度士20%的量值。由此，可以有利地影响具有低固有硬度的处理物的输送。该另一辊可以以转动方式本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：亨利·孔策，
申请(专利权)人：埃托特克德国有限公司，
类型：发明
国别省市：