用于晶圆清洗的化学液喷淋管及清洗装置制造方法及图纸

本发明专利技术属于半导体技术领域，具体涉及一种用于晶圆清洗的化学液喷淋管及清洗装置。本发明专利技术所述的用于晶圆清洗的化学液喷淋管，其中包括管体和多个喷嘴，所述管体内部设有用于化学液流动的通道，多个所述喷嘴共同连通于所述管体的内部通道，且多个所述喷嘴沿所述管体的中轴线方向依次设置在所述管体的外周面上，当待清洗的晶圆绕自身中轴线进行转动时，所述管体内部的化学液能够从多个所述喷嘴喷出并在所述晶圆的表面形成环形区域。通过使用本发明专利技术所述的用于晶圆清洗的化学液喷淋管及清洗装置，通过在化学液喷淋管的底部设置多个喷嘴，能够在晶圆转动过程中将化学液均匀的喷射到晶圆表面，完成清洗，从而使晶圆能够达到较好的刻蚀均匀性。

Chemical liquid spray pipe and cleaning device for wafer cleaning

The invention belongs to the field of semiconductor technology, in particular to a chemical liquid spray pipe for cleaning wafer and a cleaning device. The chemical liquid spray tube for wafer cleaning includes a tube body and a plurality of nozzles. The tube body is provided with a channel for the flow of chemical liquid, and a plurality of nozzles are connected to the inner channel of the tube, and the nozzles are arranged in the direction of the tube body in the direction of the tube body. On the outer surface, when the cleaned wafer rotates around the axis of its own, the chemical liquid inside the tube can be ejected from a plurality of nozzles and forms a ring area on the surface of the wafer. By using the chemical liquid spray tube and the cleaning device used in the wafer cleaning, by setting a number of nozzles at the bottom of the chemical liquid spray tube, the chemical liquid can be evenly sprayed to the wafer surface in the rotation of the wafer, and the cleaning is completed, so that the wafer can achieve a better etching uniformity.

【技术实现步骤摘要】
用于晶圆清洗的化学液喷淋管及清洗装置
本专利技术属于半导体
，具体涉及一种用于晶圆清洗的化学液喷淋管及清洗装置。
技术介绍
湿法刻蚀是利用溶液和薄膜进行化学反应来去除需要刻蚀的部分而达到刻蚀的目的。现有的湿法工艺中，晶圆在单机台的清洗过程中采用的化学液喷淋管一般都为单喷嘴。如图1所示，在晶圆清洗过程中，化学液从喷淋管的单喷嘴进行喷出，晶圆绕自身中轴线做旋转运动且喷淋管的喷嘴沿晶圆表面做往复式直线运动，从而完成对晶圆表面的清洗均匀。为达到晶圆表面较好的清洗效果，以满足晶圆的刻蚀均匀性，需要不断调整晶圆的旋转速度和喷嘴的移动速度，控制过程较为复杂。
技术实现思路
本专利技术的目的是为了解决上述存在的至少一个问题，该目的是通过以下技术方案实现的。本专利技术提出了一种用于晶圆清洗的化学液喷淋管，其中包括管体和多个喷嘴，所述管体内部设有用于化学液流动的通道，多个所述喷嘴共同连通于所述管体的内部通道，且多个所述喷嘴沿所述管体的中轴线方向依次设置在所述管体的外周面上，当待清洗的晶圆绕自身中轴线进行转动时，所述管体内部的化学液能够从多个所述喷嘴喷出并在所述晶圆的表面形成环形区域。进一步地，多个所述本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于晶圆清洗的化学液喷淋管，其特征在于，包括管体和多个喷嘴，所述管体内部设有用于化学液流动的通道，多个所述喷嘴共同连通于所述管体的内部通道，且多个所述喷嘴沿所述管体的中轴线方向依次设置在所述管体的外周面上，当待清洗的晶圆绕自身中轴线进行转动时，所述管体内部的化学液能够从多个所述喷嘴喷出并在所述晶圆的表面形成环形区域。

【技术特征摘要】
1.一种用于晶圆清洗的化学液喷淋管，其特征在于，包括管体和多个喷嘴，所述管体内部设有用于化学液流动的通道，多个所述喷嘴共同连通于所述管体的内部通道，且多个所述喷嘴沿所述管体的中轴线方向依次设置在所述管体的外周面上，当待清洗的晶圆绕自身中轴线进行转动时，所述管体内部的化学液能够从多个所述喷嘴喷出并在所述晶圆的表面形成环形区域。2.根据权利要求1所述的用于晶圆清洗的化学液喷淋管，其特征在于，多个所述喷嘴沿同一条平行于所述管体的中轴线的直线间隔设置在所述管体的外周面上。3.根据权利要求2所述的用于晶圆清洗的化学液喷淋管，其特征在于，所述管体内还设有线加热器和温度调节单元，所述线加热器用于调节所述管体内的化学液，所述线加热器的外表面上设有防化学液腐蚀的涂层，所述温度调节单元用于调节所述线加热器的温度。4.一种清洗装置，其特征在于，包括上述权利要求1-3中任一项...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴良辉，蒋阳波，张静平，汪亚军，顾立勋，
申请(专利权)人：长江存储科技有限责任公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42