The invention discloses a preparation method of a flexible display, including the following steps: (1) providing a rigid base material, making a flexible substrate on the rigid base material; (2) forming a semiconductor layer and an insulating layer on a flexible substrate, wherein the semiconductor layer is composed of amorphous silicon, and the insulating layer is composed of silicon nitride. The temperature of the semiconductor layer and insulating layer is 200 to 250 degrees centigrade. In the flexible display process, the temperature of the formation of the semiconductor layer and the insulating layer is adjusted to 200 250 degrees C, which not only protects the organic polymer materials such as PI and PET from the physical and chemical changes in the high temperature process, but also ensures the thin film densification of the semiconductor layer and the insulating layer. The preparation method of the invention can improve the yield of products.
【技术实现步骤摘要】
一种柔性显示器的制备方法
本专利技术涉及显示
，特别是涉及了一种柔性显示器的制备方法。
技术介绍
在平板显示
，薄膜晶体管液晶显示器（ThinFilmTransistorLiquidCrystalDisplay，TFT-LCD）和有机电致发光显示器（OrganicLightEmittingDisplay，OLED），因其具有轻、薄、功耗低、亮度高，以及画质高等优点，在平板显示领域占据重要的地位。尤其是大尺寸、高分辨率以及高画质的平板显示装置，如液晶电视，在当前的平板显示器市场已经占据了主导地位。柔性显示技术在近几年有了飞速的发展，由此带动柔性显示器从屏幕的尺寸到显示的质量都取得了很大进步。无论是濒临消失的阴极射线管还是现今主流的液晶显示器，本质上都属于传统的刚性显示器。与传统的刚性显示器相比，柔性显示器具有诸多优点，例如耐冲击，抗震能力强，重量轻，体积小，携带更加方便等。由于柔性显示器需要在柔性基材上制作，柔性基材一般由PI、PET等有机高分子材料构成，目前在柔性显示器制程中，由非晶硅构成的半导体层、由氮化硅构成的绝缘层的成膜温度往往在280-350℃...
【技术保护点】
一种柔性显示器的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤：（1）提供一刚性基材，在所述刚性基材上制作柔性衬底；（2）在柔性衬底上形成半导体层和绝缘层，其中，所述半导体层由非晶硅构成，所述绝缘层由氮化硅构成，形成半导体层和绝缘层的温度为200‑250℃。
【技术特征摘要】
1.一种柔性显示器的制备方法，其特征在于，其包括如下步骤：（1）提供一刚性基材，在所述刚性基材上制作柔性衬底；（2）在柔性衬底上形成半导体层和绝缘层，其中，所述半导体层由非晶硅构成，所述绝缘层由氮化硅构成，形成半导体层和绝缘层的温度为200-250℃。2.如权利要求1所述柔性显示器的制备...
【专利技术属性】
技术研发人员：李林，万方馨，于春崎，
申请(专利权)人：信利半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44
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