柔性显示器和制造柔性显示器的方法技术

公开了柔性显示器和制造柔性显示器的方法。在一个方面，该方法包括在支承衬底上形成牺牲层，其中牺牲层包括连续形成的多个图案以及形成在图案之间的多个槽。该方法还包括在牺牲层上形成显示单元、用水溶解并去除牺牲层、以及从支承衬底分离显示单元。

Flexible display and method of manufacturing the same

Flexible display and method of manufacturing the same. In one aspect, the method includes forming a sacrificial layer on a supporting substrate, wherein the sacrificial layer includes a plurality of patterns formed continuously and a plurality of grooves formed between the patterns. The method further includes forming a display unit on the sacrificial layer, dissolving and removing the sacrificial layer with water, and separating the display unit from the supporting substrate.

【技术实现步骤摘要】
相关申请的交叉引用本申请要求在2015年6月10日提交于韩国知识产权局的第10-2015-0081983号韩国专利申请的权益，其公开通过引用整体并入本文。
描述的技术总体上涉及柔性显示器和制造柔性显示器的方法。
技术介绍
近年来，由于对柔性显示器的显著市场需求，已着重于对该技术的改善上进行活跃的研究。如合成树脂而非玻璃衬底的柔性衬底被用于实现这种显示器的柔性能力。然而，已存在着与在制造期间衬底的处理上存在困难有关的问题。相应地，为了解决这些问题，柔性衬底被形成在(刚性的)支承衬底上。在各种薄膜工艺被执行后，柔性衬底从支承衬底分离。然而，在传统的制造中，因为塑料衬底是柔性的并且当在分离期间使用激光时自发射二极管受损，所以制造成本增加。本
技术介绍
部分公开的信息是在获得本专利技术构思之前由专利技术人已知的或者是在获得本专利技术构思的过程中获得的技术信息。因此，本
技术介绍
部分公开的信息可包含不形成已经被公众所知的现有技术的信息。
技术实现思路
一个专利技术方面涉及在结构和制造工艺方面得到简化的柔性显示器及其制造方法。另一个方面是解决以上问题和其它问题的在结构和制造工艺方面
得到简化的柔性显示器及其制造方法。另一个方面是柔性显示器设备的制造方法，该制造方法包括：在支承衬底上形成牺牲层，牺牲层具有连续形成的图案和形成在图案之间的槽；在牺牲层上形成显示单元以实现图像；通过使用水来溶解并去除牺牲层；以及将显示单元与支承衬底分离。在形成牺牲层中，牺牲层可包括钼和氧。在形成牺牲层中，图案可包括连续形成的多边形、圆形或椭圆形的形状。形成显示单元可包括：在牺牲层上形成包括无机化合物的阻挡层；在阻挡层上形成半导体层；以及将发光装置形成为电连接至半导体层。在形成阻挡层中，阻挡层的至少一部分可通过形成在牺牲层中的槽与支承衬底接触。将显示单元与支承衬底分离可包括从支承衬底分离阻挡层。牺牲层可包括与阻挡层接触的上表面和与支承衬底接触的下表面，阻挡层可包括与牺牲层接触的第一表面和与第一表面相对布置的第二表面，以及从支承衬底分离的阻挡层的第一表面可形成为与牺牲层的上表面对应。阻挡层的第一表面可包括连续形成的突出部分和凹陷部分。该制造方法还可包括在分离显示单元与支承衬底后，将保护膜附接至阻挡层的第一表面。突出部分可与保护膜接触。在阻挡层的第一表面与保护膜之间的凹陷部分中可形成有分离空间。在阻挡层的凹陷部分中可存在有牺牲层的残余物。另一方面是柔性显示设备，该柔性显示设备包括：阻挡层，具有连续形成有突出部分和凹陷部分的第一表面和与第一表面相对布置的第二表面；薄膜晶体管，形成在阻挡层的第二表面上；以及有机发光装置，电连接至薄膜晶体管。在凹陷部分的至少一部分中可布置有包括钼和氧的材料。柔性显示设备还可包括形成在阻挡层的第一表面上的保护膜，并
且保护膜可与突出部分接触。在阻挡层的第一表面与保护膜之间的凹陷部分中可形成有分离空间。阻挡层可包括无机化合物。另一方面是制造柔性显示器的方法，该制造方法包括：在支承衬底上形成牺牲层，其中牺牲层包括连续形成的多个图案和形成在图案之间的多个槽；在牺牲层上形成显示单元；用水溶解并去除牺牲层；以及在去除牺牲层后，从支承衬底分离显示单元。在上述方法中，牺牲层包括钼和氧。在上述方法中，图案中的每个具有多边形、圆形或椭圆形的形状。在上述方法中，形成显示单元包括：在牺牲层上形成包括无机化合物的阻挡层；在阻挡层上形成半导体层；以及形成待电气连接至半导体层的发光装置。在上述方法中，阻挡层的至少一部分通过形成在牺牲层中的槽与支承衬底接触。在上述方法中，分离包括从支承衬底分离阻挡层。在上述方法中，牺牲层包括与阻挡层接触的上表面和与支承衬底接触的下表面，其中阻挡层包括与牺牲层接触的第一表面和与第一表面相对布置的第二表面，以及其中从支承衬底分离的阻挡层的第一表面与牺牲层的上表面对应。在上述方法中，阻挡层的第一表面包括连续形成的多个突出部分和多个凹陷部分。上述方法还包括：在分离后，将保护膜附接至阻挡层的第一表面。在上述方法中，突出部分与保护膜接触。在上述方法中，在阻挡层的第一表面与保护膜之间的凹陷部分中形成有分离空间。在上述方法中，在阻挡层的凹陷部分中存在有牺牲层的残余物。另一方面是柔性显示设备，包括：阻挡层，包括彼此相对的第一表面和第二表面，其中在第一表面上连续形成有多个突出部分和多个凹陷部分；薄膜晶体管，形成在阻挡层的第二表面上；以及有机发光装置，电气连接至薄膜晶体管。在上述柔性显示设备中，在凹陷部分的至少一部分中布置有包括钼和氧的材料。上述柔性显示设备还包括：保护膜，形成在阻挡层的第一表面上，其中保护膜与突出部分接触。在上述柔性显示设备中，在阻挡层的第一表面与保护膜之间的凹陷部分中形成有分离空间。在
上述柔性显示设备中，阻挡层包括无机化合物。另一方面是制造柔性显示器的方法，该方法包括：在支承衬底上形成牺牲层，其中牺牲层包括多个突起和形成在突起之间的多个槽；在牺牲层上形成显示单元；去除牺牲层；以及从支承衬底分离显示单元。在上述方法中，突起中的每个具有多边形、圆形或椭圆形的形状。在上述方法中，去除包括用水溶解牺牲层。附图说明通过结合附图对示例性实施方式进行的以下描述，这些和/或其它方面将变得显而易见和更易于理解。图1是示意性地示出了根据实施方式的柔性显示设备的制造方法的剖视图。图2A至图2E是示意性地示出了图1的牺牲层的图案的实施方式的平面图。图3至图5是示意性地示出了图1的柔性显示设备的制造方法的剖视图。图6是示意性地示出了根据实施方式的柔性显示设备的剖视图。图7是示意性地示出了根据实施方式的柔性显示设备的剖视图。图8是图7的柔性显示设备的部分VIII的放大剖视图。具体实施方式本示例性实施方式可具有不同的形式并且不应被理解为受限于本文所陈述的描述。相应地，示例性实施方式在以下仅通过参照附图进行描述以解释本说明书的方面。现在将具体对附图中示出了其示例的示例性实施方式作为参照，其中在全文中相同的附图标记指代相同的元件。将理解，虽然用语“第一”、“第二”等可在本文中被用来描述各种部件，但是这些部件不应被这些用语限制。这些用语仅用于将一个部件与另一个部件区分开。还将理解，本文使用的用语“包括”和/或“包括有”说明所陈述的特征或部件的存在，而不排除一个或多个其它特征或部件的存在或附加。将理解，当层、区域或部件被称为形成在另一层、区域或部件“上”时，该层、区域或部件可直接或间接地形成在该另一层、区域或部件上。即，例如，可存在有中间层、区域或部件。为了便于解释，附图中元件的尺寸可被夸大。换言之，由于附图中的部件的尺寸和厚度被任意地示出以便于解释，所以以下实施方式不受其限制。在以下示例中，x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴，而可用更宽的含义来解释。例如，x轴、y轴和z轴可相互垂直，或者可代表不相互垂直的不同的方向。当某个实施方式可通过不同的方式实现时，具体工艺顺序可以不同于所描述顺序的顺序来执行。例如，两个连续描述的工艺可基本同时执行或以与描述顺序相反的顺序执行。在本公开中，用语“基本上(substantially)”包括“完全地”的意思、“几乎完全地”的意思、或者在一些应用下并且根据本领域技术人员的任何显著的程度的意本文档来自技高网...

【技术保护点】
制造柔性显示器的方法，所述方法包括：在支承衬底上形成牺牲层，其中所述牺牲层包括连续形成的多个图案和形成在所述图案之间的多个槽；在所述牺牲层上形成显示单元；用水溶解并去除所述牺牲层；以及在去除所述牺牲层后，从所述支承衬底分离所述显示单元。

【技术特征摘要】
2015.06.10 KR 10-2015-00819831.制造柔性显示器的方法，所述方法包括：在支承衬底上形成牺牲层，其中所述牺牲层包括连续形成的多个图案和形成在所述图案之间的多个槽；在所述牺牲层上形成显示单元；用水溶解并去除所述牺牲层；以及在去除所述牺牲层后，从所述支承衬底分离所述显示单元。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述牺牲层包括钼和氧。3.根据权利要求1所述的方法，其中所述图案中的每个具有多边形、圆形或椭圆形的形状。4.根据权利要求1所述的方法，其中所述形成所述显示单元包括：在所述牺牲层上形成包括无机化合物的阻挡层；在所述阻挡层上形成半导体层；以及将发光装置形成为电连接至所述半导体层。5.根据权利要求4所述的方法，其中所述阻挡层的至少一部分通过形成在所述牺牲层中的所述槽与所述支承衬底接触。6.根据权利要求4所述的方法，其中所述分离包括从所述支承衬底分离所述阻挡层。7.根据权利要求6所述的方法，其中所述牺牲层包括与所述阻挡层接触的上表面和与所述支承衬底接触的下表面，其中所述阻挡层包括与所述牺牲层接触的第一表面和与所述第一表面相对布置的第二表面，以及其中从所述支承衬底分离的所述阻挡层的所述第一表面与所述牺牲层的所述上表面对应。8.根据权利要求7所述的方法，其中所述阻挡层的所述第一表面包括连续形成的多个突出部分和多个凹陷部分。9.根据权利要求8所述的方法，还包括：在所述分离后，将保护膜附接至所述阻...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐泰安，金基铉，崔溱桓，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR