一种D-π-A-π-D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料及其制备方法和应用技术

本发明专利技术的目的是提供D‑π‑A‑π‑D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料的合成方法，这类化合物是光学性能优异、稳定性好的有机荧光材料。本发明专利技术以喹唑啉酮作为母体结构，在母环引入碳碳三键延长整个大π共轭体系，得到了一类有较好三阶非线性响应的光学材料。本发明专利技术采用的技术方案是：本发明专利技术提供一类式(I)所示D‑π‑A‑π‑D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料：

【技术实现步骤摘要】
一种D-π-A-π-D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料及其制备方法和应用(一)
本专利技术属于新材料
，具体涉及一种D-π-A-π-D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料及其制备方法和应用。(二)
技术介绍
21世纪是一个高速运转的信息化时代，随着信息的大量处理人们对显示显像等器件的性能要求越来越高，大大促进了光电子学的迅速发展。因此，具有特殊信息处理功能和超快响应的非线性光学材料成为未来信息材料发展的主体。不同于无机非线性光学功能材料，有机非线性光能材料具有可分子设计及裁剪、响应值高、开关速度快、光损伤阈值高、机械强度优、介电常数低、加工性能好等优点。有机非线性光学材料的应用主要集中在两个方面：一是进行光波频率的转换，即通过倍频、和频、差频或混频、光学参数振荡等方式拓宽激光波长的范围，开辟新的激光光源。二在图像处理、全光开关、光学存储和记忆系统等领域有着较大的应用潜力。因此，设计并合成具有优良光学性能、热稳定性和加工性能的新型有机三阶非线性光学材料是当前十分活跃的研究领域。有机三阶非线性光学材料的极化源于主链上π电子的离域，电荷易于移动，介质粒子极化产生电偶极子所需的时间比较短，表现出强本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种D‑π‑A‑π‑D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料，其特征在于，所述的D‑π‑A‑π‑D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料结构式如式(Ⅰ)所示，

【技术特征摘要】
1.一种D-π-A-π-D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料，其特征在于，所述的D-π-A-π-D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料结构式如式(Ⅰ)所示，式(I)中：R为氢、卤素、C1-C4的烷基或C1-C4的烷氧基。2.根据权利要求1所述的一种D-π-A-π-D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料，其特征在于，所述的D-π-A-π-D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料结构式优选如下：3.一种制备权利要求1所述的D-π-A-π-D型喹唑啉酮三阶非线性光学材料的方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：(1)Ullmann反应在碱A和铜催化剂A条件下，式(II)所示的5-溴靛红与2,5-二溴吡啶于溶剂A中，在90～150℃下进行Ullmann反应，得到式(III)所示的二溴代化合物；(2)Sonogashira偶联反应在氮气保护下，式(III)所示的二溴代化合物加入溶剂B中，在碱B、钯催化剂A和铜催化剂B的作用下，与苯乙炔或取代的苯乙炔在60～100℃下进行Sonogashira偶联反应，得到式(IV)所示的喹唑啉酮衍生物；4.如权利要求3所述的D-π-A-π-D型喹唑啉酮光学材料制备方法，其特征在于，步骤(1)中所述溶剂A为N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、甲苯或1...

【专利技术属性】
技术研发人员：贾建洪，王文标，叶孙斌，胡成坤，李益珠，
申请(专利权)人：浙江工业大学，
类型：发明
国别省市：浙江,33