一种原子层沉积自动镀膜装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开了一种原子层沉积自动镀膜装置，包括ALD反应器及自动上下料系统，所述自动上下料系统包括桨、抓舟机械手、舟平台滑动组件、载板、抓舟取盖天车、载具平移部组、硅片转移机构、花篮平移部组、花篮及舟；采用本发明专利技术的技术方案，可连续生产的ALD薄膜镀膜装置，自动化上下料系统使得硅片进入ALD反应器或者由ALD反应器取出，全部由机械完成，实现了自动化，避免了人工操作的繁琐重复的工序，大大提高了工作效率，完全满足光伏电池大批量工业化生产的要求。

An automatic coating device for atomic layer deposition

The invention discloses an atomic layer deposition automatic coating device, including ALD reactor and automatic feeding system, automatic feeding system comprises a paddle, boat, boat grasping manipulator platform slide assembly, loading board, grab crane, carrying out a boat to take cover of translation group, wafer transfer mechanism, basket translation department group, and the basket boat; the technical scheme of the invention, the ALD thin film coating device capable of continuous production, automatic loading and unloading system of the wafer into the ALD reactor or removed by ALD reactor, all done by machinery, automated, avoid the manual operation of the tedious repetitive process, greatly improved the working efficiency, fully meet the photovoltaic cell mass production requirements.

【技术实现步骤摘要】
一种原子层沉积自动镀膜装置
本专利技术涉及到镀膜
，具体涉及到可批量化、自动化进行原子层沉积镀膜装置。
技术介绍
原子层沉积(Atomiclayerdeposition，ALD)技术是一个以表面化学气相反应为基础的薄膜沉积技术。它通过将两种以上的化学气体前驱物分开导入反应腔，使得每一种前驱物在基地表面分别发生充分饱和的表面化学反应，其间对饱和表面反应后的气相反应产物及未反应的气体吹扫干净，因此可以将物质以单原子膜形式镀在基底表面，并对所沉积的薄膜的厚度及均匀度精确控制在原子层厚度范围内。ALD技术最早称为AtomicLayerEpitaxy,(ALE),是由芬兰科学家在1970年代提出(US4058430)，主要用于制备电致发光薄膜的应用。但是由于时代的局限性，该技术的其它应用在较长一段时间内受到限制。另一方面，半导体产业正在遵循摩尔定律的指导不断朝高性能、小型化发展。到1990年代末，随着半导体工艺技术持续推进，功能的提升成为半导体制造业技术的关键。芯片尺寸及线宽的不断缩小和器件结构的深宽比不断增加，使得对于薄膜工艺的厚度均匀性及质量的要求日渐升高。传统的薄膜沉积技术，包括物本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种原子层沉积自动镀膜装置，包括ALD反应器及自动上下料系统，其特征在于，所述自动上下料系统包括：花篮，花篮内放置硅片；花篮平移部组，将花篮在硅片转移机构处至上下料机最右端的上料处移转；花篮的上下料可采用人工操作或与自动化搬运小车对接；硅片转移机构，设置于花篮平移部组的上方，硅片转移机构将硅片在舟与花篮之间转移；舟平台滑动组件，其设置在ALD反应器的前端，其将舟在抓舟机械手下方的工位与抓舟取盖天车下方的工位之间移动；载具平移部组，其平行设置在舟平台滑动组件的两侧，舟在载具平移部组上平行放置；抓舟取盖天车，其设置在载具平移部组上方，其将舟在舟平台滑动组件与载具平移部组之间搬运；桨，设置在舟平台滑...

【技术特征摘要】
1.一种原子层沉积自动镀膜装置，包括ALD反应器及自动上下料系统，其特征在于，所述自动上下料系统包括：花篮，花篮内放置硅片；花篮平移部组，将花篮在硅片转移机构处至上下料机最右端的上料处移转；花篮的上下料可采用人工操作或与自动化搬运小车对接；硅片转移机构，设置于花篮平移部组的上方，硅片转移机构将硅片在舟与花篮之间转移；舟平台滑动组件，其设置在ALD反应器的前端，其将舟在抓舟机械手下方的工位与抓舟取盖天车下方的工位之间移动；载具平移部组，其平行设置在舟平台滑动组件的两侧，舟在载具平移部组上平行放置；抓舟取盖天车，其设置在载具平移部组上方，其将舟在舟平台滑动组件与载具平移部组之间搬运；桨，设置在舟平台滑动组件的一侧，桨伸入ALD反应器腔体内将舟取出及放入；抓舟机械手，设置在舟平台滑动组件的另一侧与桨相对，其抓取桨上的舟放置在舟平台滑动组件上，或者抓取舟平台滑动组件上的舟放置在桨上；舟，舟内放置的硅片，舟进入ALD反应器内的腔体，在腔体内进行镀膜反应。2.根据权利要求1所述的一种原子层沉积自动镀膜装置，其特征在于：所述舟平台滑动组件上设有放置舟的载板，舟平台滑动组件设有左、右两工位，左工位位于抓舟机械手下方，右工位位于抓舟取盖天车下方，舟随载板左右平移在左、右两工位之间转换。3.根据权利要求1所述的一种原子层沉积自动镀膜...

【专利技术属性】
技术研发人员：黎微明，杨玉峰，胡彬，李翔，左敏，濮一鹏，
申请(专利权)人：江苏微导纳米装备科技有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32