【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及,尤其涉及用修饰物质直接修饰核苷酸链的3’端,将核苷酸链标记化、标志化、固定化的方法。
技术介绍
以往,在基因分析中,用于将DNA、RNA、寡核苷酸、核酸等核苷酸链标记化、标志化的修饰物质一直采用放射性同位素,但因为由半衰期产生的使用期限的限制、使用场所的限制、被射线照射的问题、废弃的问题等问题,其使用逐渐减少。近年来,作为替代放射性同位素的修饰物质,用荧光素等荧光物质或者生物素等,对核苷酸链进行修饰,将其标记化、标志化的方法被广泛使用。修饰核苷酸链的方法可以分为5’端修饰法、3’端修饰法、内部修饰法这3种。5’端修饰法,提出过通过5’端的磷酸基用生物素修饰的方法(参照例如下述的非专利文献1)。关于生物素,报道有利用生物素和亲和素(avidin)的高亲和性,用碱性磷酸酶、辣根过氧化物酶等酶修饰,利用这些酶的化学发光使基因分析高灵敏度化的方法(参照例如非专利文献2~3)。通过5’端的磷酸基修饰的方法除此之外还提出了很多(参照专利文献1和非专利文献4~13)。但是在通过5’端的磷酸基修饰的方法中,对核苷酸链,修饰物质的修饰量一般为1,而碱性磷酸酶会使 ...
【技术保护点】
核苷酸链修饰方法,其中,对3’端存在具有特定碱基的核苷酸序列的作为修饰对象的核苷酸链,用对含有所述特定碱基的核苷酸特异的分解酶进行作用,在所述作为修饰对象的核苷酸链的3’端加上对目标修饰物质具有结合能力的官能团,并在具有所述官能团的核苷酸链的3’端结合所述修饰物质。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员:上甲茂树,
申请(专利权)人:松下电器产业株式会社,
类型:发明
国别省市:JP[日本]
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