The invention belongs to the field of electronic technology, and specifically provides a low trigger voltage MLSCR device for ESD protection, which is used to reduce the triggering voltage of the existing MLSCR devices. The invention of low trigger voltage MLSCR device based on the existing MLSCR devices in the first conductivity type heavily doped region across below the introduction of ESD injection layer, the ESD into the second conductivity type doped region for the middle layer doping concentration, the doping concentration between the drain / source heavily doped region concentration and wells doping concentration; because of the introduction of ESD injection, the invention of low trigger module trigger voltage of MLSCR devices from the original N+/P to N+/P well diode ESD diode reverse voltage avalanche diode ESD N+/P N+/P compared well diode has a lower voltage, trigger and realizes the lower; at the same time to realize the dynamic adjustment of the trigger voltage, further optimization of MLSCR device trigger voltage.
【技术实现步骤摘要】
一种用于ESD防护的低触发电压MLSCR器件
本专利技术属于电子
,具体涉及静电释放(ESD:Electro-Staticdischarge)保护电路的设计,尤指一种横向可控硅整流器SCR(Silicon-Controlled-Rectifier,简称SCR),具体为一种用于ESD防护的低触发电压MLSCR器件。
技术介绍
静电放电(Electro-StaticDischarge,简称ESD)是有限的电荷在两个不同电势的物体之间转移的事件。在人们日常生活中,ESD现象随处可见;例如,在10%的相对湿度下,人在地毯上行走可以产生高达35000伏的静电电压。对于集成电路来说,从生产到运输,系统集成以及用户使用,所有过程都有可能在集成电路的引脚上产生静电放电现象。ESD所产生的瞬间高压静电脉冲通过芯片管脚流经芯片内部,从而导致芯片内部线路损伤而无法正常工作;而有些芯片所受到的ESD损伤是潜伏的,通常无法在测试阶段发现,它带来的后果是最终产品交付到终端用户手中时,产品的使用寿命将会大大减少。在过去三十年的研究中发现,70%的芯片失效是由ESD事件引起的;据美国静电放电协会(ElectrostaticDischargeAssociation,EDSA)报道,全球每年因ESD对电子设备和系统所造成的损失高达450亿美金;因此,集成电路中ESD防护的设计及应用极其重要。对于片上(on-chip)ESD防护,要在一个特定半导体工艺上实现ESD器件的设计和优化,首先要确定该工艺的ESD设计窗口,ESD设计窗口就是ESD器件的安全工作区域。ESD设计窗口由两个边界确定, ...
【技术保护点】
一种用于ESD防护的低触发电压MLSCR器件,包含第二种导电类型硅衬底(110),所述衬底上形成第一种导电类型深阱区(150),所述深阱区上形成相邻接的一个第一种导电类型阱区(120)和一个第二种导电类型阱区(140),所述第一种导电类型阱区内设有均与阳极相连的第一种导电类型重掺杂区A(121)和第二种导电类型重掺杂区A(122),所述第二种导电类型阱区内设有均与阴极相连的第一种导电类型重掺杂B(141)和第二种导电类型重掺杂区B(142),所述第一种导电类型阱区与第二种导电类型阱区交界处设有第一种导电类型重掺杂区C(131)、其左右边界分别位于两个阱区内;其特征在于,所述第一种导电类型阱区与第二种导电类型阱区交界处还设有一个ESD注入层(132)、位于所述第一种导电类型重掺杂区C(131)下方,所述ESD注入层为第二种导电类型掺杂区、其掺杂浓度介于所述第一种导电类型重掺杂区C(131)和所述第二种导电类型阱区(140)之间,其左右边界同样分别位于两个阱区内。
【技术特征摘要】
1.一种用于ESD防护的低触发电压MLSCR器件,包含第二种导电类型硅衬底(110),所述衬底上形成第一种导电类型深阱区(150),所述深阱区上形成相邻接的一个第一种导电类型阱区(120)和一个第二种导电类型阱区(140),所述第一种导电类型阱区内设有均与阳极相连的第一种导电类型重掺杂区A(121)和第二种导电类型重掺杂区A(122),所述第二种导电类型阱区内设有均与阴极相连的第一种导电类型重掺杂B(141)和第二种导电类型重掺杂区B(142),所述第一种导电类型阱区与第二种导电类型阱区交界处设有第一种导电类型重掺杂区C(131)、...
【专利技术属性】
技术研发人员:刘志伟,杜飞波,刘继芝,
申请(专利权)人:电子科技大学,
类型:发明
国别省市:四川,51
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