一种半透膜掩模版LCVD修补系统技术方案

本发明专利技术公开了一种半透膜掩模版LCVD修补系统，使用激光扫描的方式，扫描光斑小于1um，可以均匀扫描沉积出一块可以控制厚度和均匀性的铬层，从而实现半透膜掩模版修补。该修补系统包括：激光器、光栅光阀、滤光组件、振镜以及物镜组件，所述激光器发出的光源经过整形成一线光源，所述线光源照射在所述光栅光阀后反射形成一均匀线光源，所述均匀线光源照射在所述振镜后经所述物镜组件聚集照射在掩模版上，所述掩模版设置在一XY平台上，通过所述振镜在所述掩模版上形成一块方形均匀激光扫描光斑，分解羰基铬并沉积铬到所述掩模版。

【技术实现步骤摘要】
一种半透膜掩模版LCVD修补系统
本专利技术涉及掩模版制作
，特别涉及一种半透膜掩模版LCVD修补系统。
技术介绍
在IC加工过程中，需要使用中间掩模版和光掩模版。我们定义中间掩模版是为整个基片曝光而必须分步和重复的包含图像的工具。通常图像的尺寸被放大到基片上图像的2倍到20倍，但在一些情况下也用相等的图像。光掩模版被定义为在一次曝光中能把图形转移到整个硅片中(或另一张光掩模版上)的工具。中间掩模版有两种应用：1)把图形复印到工作掩模版上。2)在分步重复对准仪中把图像直接转移到硅片上。在1X硅片步进光刻机中，掩模版上的图形与投影到硅片上图形一样大；在缩小步进光刻机中，掩模版上的图形是放大的真实器件图像。在VLSI中，电子束曝光10X或5X的掩模版，或直接用电子束产生1X的工作掩模版。在掩模版制作过程中，由于版材缺陷或工艺原因，经常会出现一些白缺陷，需要做修补处理。行业内最为有效的修补方式是LCVD(激光化学沉积)技术，用激光把羰基铬分解沉积到玻璃上。目前这种方式使用的光学系统采用精缩方式，脉冲激光照射到一个可变光阑上，缩小投射成像到掩模版上。这种方式对于修补普通的Binary掩本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种半透膜掩模版LCVD修补系统，其特征在于，所述系统包括激光器、光栅光阀、滤光组件、振镜以及物镜组件，所述激光器发出的光源经过整形成一线光源，所述线光源照射在所述光栅光阀后反射形成一均匀线光源，所述均匀线光源照射在所述振镜后经所述物镜组件聚集照射在掩模版上，所述掩模版设置在一XY平台上，通过所述振镜在所述掩模版上形成一块方形均匀激光扫描光斑，分解羰基铬并沉积铬到所述掩模版。

【技术特征摘要】
1.一种半透膜掩模版LCVD修补系统，其特征在于，所述系统包括激光器、光栅光阀、滤光组件、振镜以及物镜组件，所述激光器发出的光源经过整形成一线光源，所述线光源照射在所述光栅光阀后反射形成一均匀线光源，所述均匀线光源照射在所述振镜后经所述物镜组件聚集照射在掩模版上，所述掩模版设置在一XY平台上，通过所述振镜在所述掩模版上形成一块方形均匀激光扫描光斑，分解羰基铬并沉积铬到所述掩模版。2.根据权利要求1所述的一种半透膜掩模版LCVD修补系统，其特征在于，所述激光器发出的光源依次通过一鲍威尔棱镜、柱面镜以及聚集镜后形成一线光源。3.根据权利要求1所述的一种半透膜掩模版LCVD修补系统，其特征在于，所述滤光组件包括傅立叶变换镜、傅立叶过滤片、傅立叶反变换镜，所述光栅光阀发射的均匀线光源依次通过所述傅立叶变换镜、所述傅立叶过滤片、所述傅立叶反变换镜。4.根据权利要求1所述的一种半透膜掩模版LCVD修补系统，其特征在于，所述均匀线光源照射在所述振镜后经一中继镜后通过所述物镜组件聚焦照射在所述掩模版上，所述物镜组件与所述掩模版相互垂直。5.根据权利要求2所述的一种半透膜掩模版LCVD修补系统，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：李跃松，张建国，罗俊辉，
申请(专利权)人：深圳清溢光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44