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本发明公开了一种半透膜掩模版LCVD修补系统，使用激光扫描的方式，扫描光斑小于1um，可以均匀扫描沉积出一块可以控制厚度和均匀性的铬层，从而实现半透膜掩模版修补。该修补系统包括：激光器、光栅光阀、滤光组件、振镜以及物镜组件，所述激光器发出的...
该专利属于深圳清溢光电股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳清溢光电股份有限公司授权不得商用。

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