一种基板支撑装置及蒸镀设备制造方法及图纸

本发明专利技术涉及蒸镀技术领域，公开了一种基板支撑装置及蒸镀设备，该基板支撑装置中包括：载具，载具包括：架体，架体具有与待蒸镀基板的侧边一一对应的支撑体，每一个支撑体上设有多个第一支撑杆；至少一个支撑体中与机械手的非工作区域相对应的位置上设有至少一个第二支撑杆，当第二支撑杆处于第一工位时，第二支撑杆的自由端伸入到待蒸镀基板的蒸镀区域内，当第二支撑杆处于第二工位时，第二支撑杆移出待蒸镀基板的蒸镀区域。上述基板支撑装置的载具承载基板时，可以使基板保持平整状态，使基板与冷却板保持水平，在基板与冷却板贴合、分离过程中可以避免基板与冷却板之间产生摩擦，基板支撑更加稳固，有效降低基板掉落的风险。

A substrate support device and evaporation equipment

The present invention relates to evaporation technology field, discloses a device for supporting substrate and coating equipment, the substrate support device comprises a carrier carrier comprises: a frame, the frame body comprises a supporting body corresponding to the evaporation side of the substrate, each supporting body is provided with a plurality of article a supporting rod; at least one non working area in the support body and the robot is arranged on the position corresponding to at least one of second support when the second support bar is in the first position, the second support rods to the free end into a deposition substrate evaporation area, when the second support bar is at the second position when the second supporting rod to be plated from the substrate deposition area. The carrier substrate the substrate supporting device, can make the flat substrate, the substrate and the cooling plate to maintain the level of the substrate and the cooling plate fitting, separation process can avoid the friction between the substrate and the cooling plate, a substrate support more stable, effective to reduce the risk of falling low substrate.

【技术实现步骤摘要】
一种基板支撑装置及蒸镀设备
本专利技术涉及蒸镀
，特别涉及一种基板支撑装置及蒸镀设备。
技术介绍
真空蒸发镀膜法(简称真空蒸镀法)是在真空蒸镀室中通过对蒸镀材料进行加热，使蒸镀材料的原子或分子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上形成固态薄膜的方法，且真空蒸镀法已经广泛应用于显示器件的制备。现有的蒸镀设备通常包括基板支撑装置，如图1所示，现有的基板支撑装置中包括支撑玻璃基板的载具，玻璃基板通过四周边缘搭在载具的支撑件上，然后与冷却板进行贴合、分离，但现有的载具支撑基板时玻璃基板中部有下垂状况，如图2所示，使玻璃基板在载具上不能保持平整状态，在上述玻璃基板有下垂状态下与冷却板贴合、分离时，会使玻璃基板与冷却板相互摩擦，且由于玻璃基本靠边缘搭在载具的支撑件上，也会有掉落的风险。
技术实现思路
本专利技术提供了一种基板支撑装置及蒸镀设备，该基板支撑装置的载具承载基板时，可以使基板保持平整状态，使基板与冷却板保持水平，在基板与冷却板贴合、分离过程中可以避免基板与冷却板之间产生摩擦，同时，基板支撑更加稳固，有效降低基板掉落的风险。为达到上述目的，本专利技术提供以下技术方案：一种基板支撑装置，用本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种基板支撑装置，用于真空蒸镀设备，其特征在于，包括：用于承载待蒸镀基板的载具，所述载具包括：架体，所述架体具有与所述待蒸镀基板的侧边一一对应的支撑体，每一个所述支撑体上设有多个用于支撑所述待蒸镀基板对应的侧边中非蒸镀区域的第一支撑杆；至少一个所述支撑体中与用于取放所述待蒸镀基板的机械手的非工作区域相对应的位置上设有至少一个第二支撑杆，每一个所述第二支撑杆相对于所述支撑体位置可调，当所述第二支撑杆处于第一工位时，所述第二支撑杆的自由端伸入到所述待蒸镀基板的蒸镀区域内以对所述待蒸镀基板的中部区域进行支撑，当所述第二支撑杆处于第二工位时，所述第二支撑杆移出所述待蒸镀基板的蒸镀区域；用于驱动所述第二...

【技术特征摘要】
1.一种基板支撑装置，用于真空蒸镀设备，其特征在于，包括：用于承载待蒸镀基板的载具，所述载具包括：架体，所述架体具有与所述待蒸镀基板的侧边一一对应的支撑体，每一个所述支撑体上设有多个用于支撑所述待蒸镀基板对应的侧边中非蒸镀区域的第一支撑杆；至少一个所述支撑体中与用于取放所述待蒸镀基板的机械手的非工作区域相对应的位置上设有至少一个第二支撑杆，每一个所述第二支撑杆相对于所述支撑体位置可调，当所述第二支撑杆处于第一工位时，所述第二支撑杆的自由端伸入到所述待蒸镀基板的蒸镀区域内以对所述待蒸镀基板的中部区域进行支撑，当所述第二支撑杆处于第二工位时，所述第二支撑杆移出所述待蒸镀基板的蒸镀区域；用于驱动所述第二支撑杆在第一工位和第二工位之间切换的驱动组件。2.根据权利要求1所述的基板支撑装置，其特征在于，所述架体包括两个所述支撑体组，每一个所述支撑体组包括两个相对设置的支撑体，且至少一个所述支撑体组中的两个支撑体上均设有一个所述第二支撑杆。3.根据权利要求2所述的基板支撑装置，其特征在于，两个所述支撑体组中的一组设有所述第二支撑杆，且未设置所述第二支撑杆的支撑组中支撑体的长度大于设置有所述第二支撑杆的支撑体组中支撑...

【专利技术属性】
技术研发人员：许如意，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司，
类型：发明
国别省市：北京,11