一种薄膜沉积温度的调整装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种薄膜沉积温度的调整装置，包括真空室、第一电源、第二电源，所述真空室内设置有制品架，两端分别设置有与第一电源相连接的阴极部分和阳极，所述阴极部分和阳极之间使用时有直流电弧弧柱，所述真空室外侧的两端分别设置有与第二电源相连接的磁场线圈，所述直流电弧弧柱周边设置有温度测量装置，所述温度测量装置、第一电源、第二电源、磁场线圈都连接到温控装置，所述温控装置设置有电源通断装置、磁场线圈调整装置。通过观测以及温控装置对磁场线圈的调整，实现CVD金刚石涂层沉积的调整。

An adjusting device for film deposition temperature

The utility model provides a device for adjusting the deposition temperature of the vacuum chamber, the first power supply and a second power supply, the vacuum chamber is provided with the product frame are arranged at both ends of the cathode and the anode part connected with the first power supply, between the cathode and the anode part when used with DC arc column, lateral ends the vacuum chamber is respectively provided with a magnetic coil is connected with the second power supply, the DC arc column is arranged on the periphery of the temperature measuring device, the temperature measurement device, the first power supply, power supply, second magnetic field coils are connected to a temperature control device, the temperature control device is provided with a power supply on-off device, magnetic field coil device. By observing and adjusting the coil of the magnetic field by the temperature control device, the deposition of CVD diamond coating is adjusted.

【技术实现步骤摘要】
一种薄膜沉积温度的调整装置
本技术涉及一种金刚石涂层技术装置，尤其是涉及一种薄膜沉积温度的调整装置。
技术介绍
以化学气相沉积法(CVD)制备的金刚石涂层具有许多独特的特性，如极高的硬度和抗磨损能力、低的摩擦系数、高的热导率和化学稳定性等。将金刚石作为保护涂层制成的硬质合金金刚石涂层工具兼备了金刚石的高硬度和硬质合金的高韧性，是加工
急需的工具品种。
技术实现思路
本技术提供一种薄膜沉积温度的调整装置，可被用于直流电弧等离子体CVD装置中进行金刚石涂层过程中沉积温度测量，并可有效地提高整个直流电弧等离子体CVD装置的可控制性的光纤式沉积温度的测量装置。一种薄膜沉积温度的调整装置，包括真空室、第一电源、第二电源，所述真空室内设置有制品架，两端分别设置有与第一电源相连接的阴极部分和阳极，所述阴极部分和阳极之间使用时有直流电弧弧柱，所述真空室外侧的两端分别设置有与第二电源相连接的磁场线圈，所述直流电弧弧柱周边设置有温度测量装置，所述温度测量装置、第一电源、第二电源、磁场线圈都连接到温控装置，所述温控装置设置有电源通断装置、磁场线圈调整装置。在真空室外侧与磁场线圈并置设置有辅助磁场线圈，所述辅本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜沉积温度的调整装置，其特征在于：包括真空室、第一电源、第二电源，所述真空室内设置有制品架，两端分别设置有与第一电源相连接的阴极部分和阳极，所述阴极部分和阳极之间使用时有直流电弧弧柱，所述真空室外侧的两端分别设置有与第二电源相连接的磁场线圈，所述直流电弧弧柱周边设置有温度测量装置，所述温度测量装置、第一电源、第二电源、磁场线圈都连接到温控装置，所述温控装置设置有电源通断装置、磁场线圈调整装置。

【技术特征摘要】
1.一种薄膜沉积温度的调整装置，其特征在于：包括真空室、第一电源、第二电源，所述真空室内设置有制品架，两端分别设置有与第一电源相连接的阴极部分和阳极，所述阴极部分和阳极之间使用时有直流电弧弧柱，所述真空室外侧的两端分别设置有与第二电源相连接的磁场线圈，所述直流电弧弧柱周边设置有温度测量装置，所述温度测量装置、第一电源、第二电源、磁场线圈都连接到温控装置，所述温控装置设置有电源通断装置、磁场线圈调整装置。2.根据权利要求1所述的薄膜沉积温度的调整装置，其特征在于：在真空室外侧与磁场线圈并置设置有辅助磁场线圈，所述辅助磁场线圈与温控装置相连接，所述辅助磁场线圈通过第二电源供电或者通过独立设置的电源供电。3.根据权利要求1所述的薄膜沉积温...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱珠，
申请(专利权)人：洛阳誉芯金刚石有限公司，
类型：新型
国别省市：河南,41