阵列基板及其制作方法技术

本发明专利技术提供一种阵列基板及其制作方法。该阵列基板包括：衬底基板、设于所述衬底基板上的TFT层、覆盖所述衬底基板及TFT层的保护层、设于所述保护层上的色阻层、覆盖于所述色阻层和保护层上的有机平坦层、及设于所述有机平坦层上的BPS遮光层；所述BPS遮光层包括：黑色矩阵、以及设于所述黑色矩阵上的主隔垫物与辅助隔垫物；所述有机平坦层在与至少部分黑色矩阵对应的区域形成有第一凹槽，所述黑色矩阵填充所述第一凹槽，通过在所述有机平坦层上形成第一凹槽，并使得所述黑色矩阵填入所述第一凹槽中，能够降低黑色矩阵的凸出像素区的程度，避免黑色矩阵在各个子像素之间形成挡墙，影响液晶的流动性，保证液晶成盒制程质量和器件的显示效果。

Array substrate and its fabrication methods

The invention provides an array substrate and a method for making the substrate. The array substrate comprises a substrate, which is arranged on the substrate on the TFT layer, covering the substrate and the TFT layer of the protective layer, the protective layer is arranged on the color layer, covers the color barrier layer and a protective layer on the organic planarization layer, and is arranged on the organic planarization layer the BPS light layer; the BPS shading layer including: black matrix, and the main and auxiliary spacer is arranged on the black matrix on the spacer; the organic planarization layer and at least part of the black matrix in the region corresponding to the formation of the first groove, the black matrix filling the first groove. In the flat through the organic layer is formed on the first groove, and the black matrix in the first groove, can reduce the projected pixel area of the black matrix degree, avoid forming black matrix retaining wall in between each sub pixels. The fluidity of the liquid crystal ensures the quality of the liquid crystal box forming process and the display effect of the device.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制作方法
本专利技术涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制作方法。
技术介绍
液晶显示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)是目前市场上应用最为广泛的显示产品，其生产工艺技术十分成熟，产品良率高，生产成本相对较低，市场接受度高。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示装置，其包括液晶显示面板及背光模组。通常液晶显示面板由彩膜(ColorFilter，CF)基板、阵列(Array)基板、夹于彩膜基板与阵列基板之间的液晶及密封框胶(Sealant)组成，其中，CF基板主要包括用于通过色阻单元(R/G/B)形成有色光的彩色滤光层、用于防止像素边缘漏光的黑色矩阵(BlackMatrix，BM)、以及用于维持盒厚的隔垫物(PhotoSpacer，PS)，在大尺寸液晶显示面板中，通常会使用两种类型以上的隔垫物，如在CF基板上设置高度不同的主隔垫物(MainPS)和辅助隔垫物(SubPS)，起到多级缓冲的作用，以防止各种Mura或者不良的发生。COA(ColorFilteronArray)技术是将彩色滤光层制备在阵列基板上的技术。由于COA结构的显示面板不存在彩膜基板与阵列基板的对位问题，因此可以降低显示面板制备过程中对盒制程的难度，避免了对盒时的误差，因此黑色矩阵可以设计为窄线宽，提高了开口率。但是追求更好观影效果如曲面显示器，并且更低成本的显示面板已成为技术开发人员持之以恒的研究课题。黑色隔垫物(BlackPhotoSpacer，BPS)材料是一种新型材料，它既具有传统技术中隔垫物材料的特性，如较优秀的弹性回复力及对液晶较低的污染等，而且还具有较高的光学密度(opticaldensity，OD)值，可以起到遮光作用而达到黑色矩阵的效果。一种新型的BM-Less技术是基于COA技术上将BM与PS集合于同一BPS材料且同一制程完成并设计在Array基板上的一种技术，与传统的液晶显示技术比较，将黑色矩阵、主隔垫物、辅助隔垫物、及彩色滤光膜全部设计在阵列基板侧，这样不仅可以避免对组制程中由于对组精度的误差，或者曲面显示技术中由于面板弯曲造成的平移带来的露光；更重要的是节省一道材料及制程，缩短生产时间(tacttime)，降低了产品成本。与此同时，为了解决改善COA型阵列基板的地形平坦性，同时减少气泡(Bubble)，现有技术还会在COA型阵列基板的色阻层上覆盖一层有机平坦层，然后再在所述有机平坦层上形成包括主隔垫物、辅助副隔垫物、及黑色矩阵的BPS层，同时为了能够形成主隔垫物、辅助副隔垫物、及黑色矩阵之间的断差且保证主隔垫物和辅助隔垫物的高度，BPS层的厚度通常较厚，在具有有机平坦层的情况下其形成黑色矩阵后，容易造成黑色矩阵凸出像素区过多，在各个子像素之间形成壁垒，阻碍液晶的流动，引起显示不良。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种阵列基板，能够减小黑色矩阵凸出像素区的程度，保证液晶的流动性，避免显示不良。本专利技术的目的还在于提供一种阵列基板的制作方法，能够减小黑色矩阵凸出像素区的程度，保证液晶的流动性，避免显示不良。为实现上述目的，本专利技术提供了一种阵列基板，包括：衬底基板、设于所述衬底基板上的TFT层、覆盖所述衬底基板及TFT层的保护层、设于所述保护层上的色阻层、覆盖于所述色阻层和保护层上的有机平坦层、及设于所述有机平坦层上的BPS遮光层；所述BPS遮光层包括：黑色矩阵、以及设于所述黑色矩阵上的主隔垫物与辅助隔垫物；所述有机平坦层在与至少部分黑色矩阵对应的区域形成有第一凹槽，所述黑色矩阵填充所述第一凹槽。所述色阻层在与所述第一凹槽对应的区域形成有第二凹槽，所述黑色矩阵还填充所述第二凹槽。所述TFT层包括：多条平行间隔排列的扫描线、多条平行间隔排列的与所述扫描线垂直的数据线、以及多个阵列排布的TFT。所述第一凹槽形成于所述数据线的上方、或所述扫描线的上方、或所述数据线和扫描线的上方。所述色阻层具有第一衬垫部和第二衬垫部，所述第一衬垫部的厚度大于所述第二衬垫部，所述主隔垫物与辅助隔垫物分别对应位于所述第一衬垫部和第二衬垫部的上方。本专利技术还提供一种阵列基板的制作方法，包括如下步骤：步骤1、提供一衬底基板，在衬底基板上形成TFT层；步骤2、在衬底基板及TFT层上覆盖保护层；在所述保护层上形成色阻层；步骤3、在所述保护层上形成一层有机薄膜，并通过一道光罩制程图案化所述有机薄膜，得到有机平坦层、及形成于所述有机平坦层中的第一凹槽；步骤4、在所述有机平坦层上涂布BPS材料，并对所述BPS材料进行图案化，得到黑色矩阵、以及设于所述黑色矩阵上的主隔垫物与辅助隔垫物，至少部分黑色矩阵所在的区域与所述第一凹槽相对应并填充所述第一凹槽。所述步骤2还包括：在所述色阻层中形成第二凹槽，所述步骤3中所述第一凹槽形成在与所述第二凹槽对应的区域。所述步骤1中所述的TFT层包括：多条平行间隔排列的扫描线、多条平行间隔排列的与所述扫描线垂直的数据线、以及多个阵列排布的TFT。所述第一凹槽形成于所述数据线的上方、或所述扫描线的上方、或所述数据线和扫描线的上方。所述色阻层具有第一衬垫部和第二衬垫部，所述第一衬垫部的厚度大于所述第二衬垫部，所述主隔垫物与辅助隔垫物分别对应位于所述第一衬垫部和第二衬垫部的上方。本专利技术的有益效果：本专利技术提供一种阵列基板，该阵列基板包括：衬底基板、设于所述衬底基板上的TFT层、覆盖所述衬底基板及TFT层的保护层、设于所述保护层上的色阻层、覆盖于所述色阻层和保护层上的有机平坦层、及设于所述有机平坦层上的BPS遮光层；所述BPS遮光层包括：黑色矩阵、以及设于所述黑色矩阵上的主隔垫物与辅助隔垫物；所述有机平坦层在与至少部分黑色矩阵对应的区域形成有第一凹槽，所述黑色矩阵填充所述第一凹槽，通过在所述有机平坦层上形成第一凹槽，并使得所述黑色矩阵填入所述第一凹槽中，能够减小黑色矩阵凸出像素区的程度，避免黑色矩阵在各个子像素之间形成挡墙，影响液晶的流动性，保证液晶成盒制程质量和器件的效果。本专利技术还提供一种阵列基板的制作方法，保证液晶的流动性，避免显示不良。附图说明为了能更进一步了解本专利技术的特征以及
技术实现思路
，请参阅以下有关本专利技术的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本专利技术加以限制。附图中，图1为本专利技术的阵列基板的第一实施例在TFT区域沿水平线方向的剖面图；图2为本专利技术的阵列基板的第一实施例在数据线区域沿水平方向的剖面图；图3为本专利技术的阵列基板的俯视图；图4为为本专利技术的阵列基板的第二实施例在TFT区域沿水平线方向的剖面图；图5为本专利技术的阵列基板的第二实施例在数据线区域沿水平方向的剖面图；图6为本专利技术的阵列基板的制作方法的流程图。具体实施方式为更进一步阐述本专利技术所采取的技术手段及其效果，以下结合本专利技术的优选实施例及其附图进行详细描述。请参阅图1至图3，本专利技术的第一实施例提供一种阵列基板，包括：衬底基板10、设于所述衬底基板10上的TFT层20、覆盖所述衬底基板10及TFT层20的保护层30、设于所述保护层30上的色阻层40、覆盖于所述色阻层40和保护层30上的有机平坦层50、及设于所述有机平坦层50上的BPS遮光层60；所述BPS遮光层60包括：黑色矩阵61、以及设于所述黑色矩阵61上的主隔垫本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板(10)、设于所述衬底基板(10)上的TFT层(20)、覆盖所述衬底基板(10)及TFT层(20)的保护层(30)、设于所述保护层(30)上的色阻层(40)、覆盖于所述色阻层(40)和保护层(30)上的有机平坦层(50)、及设于所述有机平坦层(50)上的BPS遮光层(60)；所述BPS遮光层(60)包括：黑色矩阵(61)、以及设于所述黑色矩阵(61)上的主隔垫物(62)与辅助隔垫物(63)；所述有机平坦层(50)在与至少部分黑色矩阵(61)对应的区域形成有第一凹槽(51)，所述黑色矩阵(61)填充所述第一凹槽(51)。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板(10)、设于所述衬底基板(10)上的TFT层(20)、覆盖所述衬底基板(10)及TFT层(20)的保护层(30)、设于所述保护层(30)上的色阻层(40)、覆盖于所述色阻层(40)和保护层(30)上的有机平坦层(50)、及设于所述有机平坦层(50)上的BPS遮光层(60)；所述BPS遮光层(60)包括：黑色矩阵(61)、以及设于所述黑色矩阵(61)上的主隔垫物(62)与辅助隔垫物(63)；所述有机平坦层(50)在与至少部分黑色矩阵(61)对应的区域形成有第一凹槽(51)，所述黑色矩阵(61)填充所述第一凹槽(51)。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述色阻层(40)在与所述第一凹槽(51)对应的区域形成有第二凹槽(52)，所述黑色矩阵(61)还填充所述第二凹槽(52)。3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述TFT层(20)包括：多条平行间隔排列的扫描线(21)、多条平行间隔排列的与所述扫描线(21)垂直的数据线(22)、以及多个阵列排布的TFT(23)。4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一凹槽(51)形成于所述数据线(22)的上方、或所述扫描线(21)的上方、或所述数据线(22)和扫描线(21)的上方。5.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述色阻层(40)具有第一衬垫部(41)和第二衬垫部(42)，所述第一衬垫部(41)的厚度大于所述第二衬垫部(42)，所述主隔垫物(62)与辅助隔垫物(63)分别对应位于所述第一衬垫部(41)和第二衬垫部(42)的上方。6.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1、提供一衬底基板(...

【专利技术属性】
技术研发人员：曹武，柳铭岗，邓竹明，林永伦，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44