阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板技术

本发明专利技术提供一种阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板。所述阵列基板源漏极层、像素电极层及间隔层。所述间隔层上设有过孔结构，所述像素电极层通过所述过孔结构与所述源漏极层电连接。所述过孔结构包括过孔及设于所述过孔边缘的间隔设置的多个导液槽。所述像素电极层对应于所述过孔的位置形成凹槽，在对应于每个所述导液槽的位置形成子导液槽。在所述像素电极上设置配向层时，形成所述配向层的配向液能够通过所述子导液槽流入所述像素电极上的凹槽内，从而使得在所述像素电极层上的凹槽位置也能够覆盖所述配向膜，进而保证所述阵列基板形成的液晶显示面板正常显示。

Fabrication method of array substrate and array substrate and liquid crystal display panel

The invention provides an array substrate, a method for making an array substrate and a liquid crystal display panel. The array substrate has the source drain layer, the pixel electrode layer and the interlayer. The interval layer is provided with an overhole structure, and the pixel electrode layer is electrically connected with the source leakage electrode layer through the pore structure. The pore structure includes a plurality of holes and a guide groove arranged on the edge of the hole arranged at intervals. The pixel electrode layer corresponding to the position of the through hole groove, sub guide groove formed in the guide groove corresponding to each position. The pixel electrode is arranged on the alignment layer, forming the alignment layer alignment through the sub liquid can flow into the groove of the guide groove on the pixel electrodes, so that the position of the groove in the pixel electrode layer can also cover the alignment film, thereby ensuring the liquid crystal the array substrate of the display panel display form.

【技术实现步骤摘要】
阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板
本专利技术涉及一种显示面板制造
，尤其涉及一种阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板。
技术介绍
液晶显示面板(LCD)由于具有体积小、功耗低、无辐射等特点而备受关注，在平板显示领域中占据了主导地位，被广泛地应用到各行各业中。液晶显示面板通常由彩膜基板和阵列基板对盒而成。其中，所述阵列基板一般包括源漏极层、设于所述源漏极层上的间隔层及位于所述间隔层上的像素电极层。其中，需要在所述间隔层上设置过孔，使得所述像素电极层通过所述过孔与所述源漏极层进行电连接，以实现所述液晶显示面板的驱动及显示。所述像素电极通过所述过孔与所述源漏极电连接时，会在所述像素电极层相对于所述过孔的位置形成凹槽。其中，由于所述过孔的面积较小，从而使得后续在所述像素电极层上方设置配向膜时，在所述凹槽内容易产生气泡，从而形成所述配向膜的配向液不容易进入所述像素电极层的所述凹槽并均匀的分散在所述凹槽内，使得此区域缺少配向膜，进而使得所述液晶显示面板出现显示异常。
技术实现思路
本专利技术提供一种阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板，使得所述阵列基板的像素电极层的各位置均能够覆盖有配向膜，保证所述阵列基板形成的液晶显示面板正常显示。所述阵列基板包括衬底、层叠于所述衬底上的源漏极层、位于所述源漏极层上的像素电极层、及层叠于所述源漏极层及所述像素电极层之间的间隔层，所述间隔层包括过孔结构，所述过孔结构包括过孔及设于所述过孔边缘的间隔设置的多个导液槽，所述导液槽从所述过孔的内壁向背离所述过孔内部的方向凹陷，所述过孔具有第一孔口及与所述第一孔口相对的第二孔口，所述导液槽从所述第一孔口向所述第二孔口的方向延伸；所述像素电极层通过所述过孔结构与所述源漏极层电连接。其中，所述导液槽的延伸方向与所述过孔的轴线方向的夹角同所述过孔内壁与所述轴线方向的夹角相同。其中，所述像素电极层对应于所述过孔的位置形成一凹槽，所述像素电极层在对应于每个所述导液槽的位置形成一子导液槽。其中，所述阵列基板还包括配向层，所述配向层覆盖所述像素电极层。所述阵列基板的制作方法，包括步骤：在衬底上通过构图工艺形成源漏极层；在所述源漏极层上形成间隔层，并通过构图工艺在所述间隔层上形成过孔结构，所述过孔结构包括过孔及设于所述过孔边缘的间隔设置的多个导液槽，所述导液槽从所述过孔的内壁向背离所述过孔内部的方向凹陷形成，所述过孔具有第一孔口及与所述第一孔口相对的第二孔口，所述导液槽从所述第一孔口向所述第二孔口的方向延伸，且所述导液槽的延伸方向与所述过孔的轴线方向的夹角同所述过孔内壁与所述轴线方向的夹角相同或不同；在所述间隔层上形成像素电极层，所述像素电极层通过所述过孔结构与所述源漏极层电连接，且所述像素电极层对应于所述过孔的位置形成与所述过孔形状结构相同的凹槽，在对应于每个所述导液槽的位置形成与所述导液槽形状结构相同的子导液槽；在所述像素电极层上形成覆盖所述像素电极层的配向层，所述配向层覆盖所述像素电极层及所述像素电极层的所述凹槽的内壁、所述子导液槽的内壁。其中，所述“通过构图工艺在所述间隔层上形成过孔结构”包括步骤：在所述源漏极层上依次形成间隔材料层及光阻材料层；通过所述光罩对所述光阻材料层进行曝光、显影，以将所述光罩上的过孔图案转移至所述光阻材料层上，所述光罩上的过孔图案与所述过孔结构形状大小相同；对所述间隔材料层进行刻蚀，将所述光阻材料层上形成所述过孔图案转移至所述间隔材料层上，得到具有所述过孔结构的间隔层；剥离所述光阻材料层。其中，所述导液槽的延伸方向与所述过孔的轴线方向的夹角同所述过孔内壁与所述轴线方向的夹角相同时，所述光罩包括遮光区、透光区及多个半透光区，所述多个半透光区围绕所述透光区并间隔排布，且所述半透光区与所述透光区连接，所述半透光区的透光率从远离所述透光区的方向向所述透光区的方向逐渐增加；所述透光区对应于所述间隔层上形成所述过孔的位置，所述半透光区对应于所述间隔层上形成所述导液槽的位置。其中，所述导液槽的延伸方向与所述过孔的轴线方向的夹角同所述过孔内壁与所述轴线方向的夹角不相同时，所述光罩包括遮光区、第一透光区及多个第二半透光区，所述多个第二半透光区围绕所述第一透光区并间隔排布，且所述第二透光区与所述第一透光区连接；所述第一透光区对应于所述间隔层上形成所述过孔的位置，所述第二透光区对应于所述间隔层上形成所述导液槽的位置。其中，所述步骤“在所述像素电极层上形成覆盖所述像素电极层的配向层，所述配向层覆盖所述像素电极层、所述凹槽及所述子导液槽的内壁”包括步骤：将配向液印刷于所述像素电极层上并覆盖所述像素电极层，且所述配向液沿所述子导液槽流至所述凹槽内，并附着于所述凹槽及所述子导液槽的内壁；对所述像素电极层、所述凹槽及所述子导液槽的内壁的所述配向液进行预烘烤，得到覆盖所述像素电极层、所述凹槽及所述子导液槽的内壁的配向层。所述液晶显示面板，包括上述阵列基板、与所述阵列基板相对的彩膜基板，及设于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层，所述阵列基板的所述配向层与所述液晶层接触。本专利技术提供的所述阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板，通过在所述过孔的边缘设置间隔设置的多个导液槽，所述像素电极层层叠于所述间隔层上时，所述像素电极层对应于所述过孔的位置形成与所述过孔形状结构相同的凹槽，在对应于每个所述导液槽的位置形成与所述导液槽形状结构相同的子导液槽。进而在所述像素电极上设置配向层时，形成所述配向层的配向液能够通过所述子导液槽流入所述像素电极上的凹槽内，从而使得在所述像素电极层上的凹槽位置也能够覆盖所述配向膜，进而保证所述阵列基板形成的液晶显示面板正常显示。附图说明为更清楚地阐述本专利技术的构造特征和功效，下面结合附图与具体实施例来对其进行详细说明。图1是本专利技术一实施例的阵列基板的截面示意图；图2是图1所述阵列基板的过孔结构示意图；图3是图2所述阵列基板的过孔的截面示意图；图4是本专利技术另一实施例的所述阵列基板的过孔的截面示意图；图5是本专利技术实施例的阵列基板的制作流程示意图；图6是图3所述制作流程中步骤120的具体流程示意图；图7是图3所述制作流程中步骤140的具体流程示意图；图8是形成图3所述阵列基板上的过孔结构的遮光罩的结构示意图；图9是形成图4所述阵列基板上的过孔结构的遮光罩的结构示意图；图10是本专利技术一实施例的液晶显示面板的示意图。具体实施方式下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。其中，附图仅用于示例性说明，表示的仅是示意图，不能理解为对本专利的限制。请参阅图1，本专利技术提供一种阵列基板100。所述阵列基板100包括衬底10、层叠于所述衬底10上的源漏极层20、层叠于所述源漏极层20上的像素电极层40、及层叠于所述源漏极层20及所述像素电极层40之间的间隔层30。所述间隔层30上设有过孔结构50，所述像素电极层40通过所述过孔结构50与所述源漏极层20进行电连接。本实施例中，所述间隔层30包括绝缘层及平坦层。可以理解的是，根据所述阵列基板100的设计需要，所述间隔层30还可以包括其他的层结构。请参阅图2及图3，所述过孔结构50包括过孔51及设于所述过孔51边缘的间隔设置的多个导液槽52，通过本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括衬底、层叠于所述衬底上的源漏极层、位于所述源漏极层上的像素电极层、及层叠于所述源漏极层及所述像素电极层之间的间隔层，所述间隔层包括过孔结构，所述过孔结构包括过孔及设于所述过孔边缘的间隔设置的多个导液槽，所述导液槽从所述过孔的内壁向背离所述过孔内部的方向凹陷，所述过孔具有第一孔口及与所述第一孔口相对的第二孔口，所述导液槽从所述第一孔口向所述第二孔口的方向延伸；所述像素电极层通过所述过孔结构与所述源漏极层电连接。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括衬底、层叠于所述衬底上的源漏极层、位于所述源漏极层上的像素电极层、及层叠于所述源漏极层及所述像素电极层之间的间隔层，所述间隔层包括过孔结构，所述过孔结构包括过孔及设于所述过孔边缘的间隔设置的多个导液槽，所述导液槽从所述过孔的内壁向背离所述过孔内部的方向凹陷，所述过孔具有第一孔口及与所述第一孔口相对的第二孔口，所述导液槽从所述第一孔口向所述第二孔口的方向延伸；所述像素电极层通过所述过孔结构与所述源漏极层电连接。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述导液槽的延伸方向与所述过孔的轴线方向的夹角同所述过孔内壁与所述轴线方向的夹角相同。3.如权利要求1或2所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极层对应于所述过孔的位置形成一凹槽，所述像素电极层在对应于每个所述导液槽的位置形成一子导液槽。4.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括配向层，所述配向层覆盖所述像素电极层。5.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括步骤：在衬底上通过构图工艺形成源漏极层；在所述源漏极层上形成间隔层，并通过构图工艺在所述间隔层上形成过孔结构，所述过孔结构包括过孔及设于所述过孔边缘的间隔设置的多个导液槽，所述导液槽从所述过孔的内壁向背离所述过孔内部的方向凹陷形成，所述过孔具有第一孔口及与所述第一孔口相对的第二孔口，所述导液槽从所述第一孔口向所述第二孔口的方向延伸，且所述导液槽的延伸方向与所述过孔的轴线方向的夹角同所述过孔内壁与所述轴线方向的夹角相同或不同；在所述间隔层上形成像素电极层，所述像素电极层通过所述过孔结构与所述源漏极层电连接，且所述像素电极层对应于所述过孔的位置形成与所述过孔形状结构相同的凹槽，在对应于每个所述导液槽的位置形成与所述导液槽形状结构相同的子导液槽；在所述像素电极层上形成覆盖所述像素电极层的配向层，所述配向层覆盖所述像素电极层及所述像素电极层的所述凹槽的内壁、所述子导液槽的内壁。6.如权利要求5所述的阵列基板的制作方法，其特征在于，所述“通过构图工艺在所述间隔层上形成过孔结构”包括步骤：在所述源漏...

【专利技术属性】
技术研发人员：李任鹏，米田公太郎，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：湖北,42