一种OLED显示面板的像素结构及其制程制造技术

本发明专利技术提供了一种OLED显示面板的像素结构及其制程，其中像素结构包括像素区域、像素单元阳极导电层和阴极导电层，像素区域包括多个依次相邻的子像素区域，相邻的至少两个子像素区域形成一子像素区域组，子像素区域组内的至少两个子像素区域一体设置；阳极导电层设置在子像素区域内，且各个阳极导电层相互分开；阴极导电层与阳极导电层电性连接，用于控制像素单元；像素单元包括多个子像素，像素单元设置在所述像素区域内，每个子像素分别设置在一个子像素区域内，设置在子像素区域组内的子像素一体成型，且颜色相同；像素单元包括空穴注入层、发光层和电子注入层。

【技术实现步骤摘要】
一种OLED显示面板的像素结构及其制程
本专利技术涉及显示器制作领域，特别涉及一种OLED显示面板的像素结构及其制程。
技术介绍
现有的显示器主要包括有液晶显示器和OLED显示器。液晶显示器具有机身薄、省电、无辐射等众多优点，得到了广泛的应用。现有市场上的液晶显示器大部分为背光型液晶显示器，其包括液晶面板及背光模组(BacklightModule)。液晶面板的工作原理是在两片平行的玻璃基板当中放置液晶分子，并在两片玻璃基板上施加驱动电压来控制液晶分子的旋转方向，以将背光模组的光线折射出来产生画面。其中，薄膜晶体管液晶显示器(ThinFilmTransistor-LiquidCrystalDisplay，TFT-LCD)由于具有低的功耗、优异的画面品质以及较高的生产良率等性能，近年来得到了飞速的发展和广泛的应用。具体而言，TFT-LCD可视为两片玻璃基板中间夹着一层液晶，上层的玻璃基板是彩色滤光片、下层的玻璃基板上设置有薄膜晶体管。当电流通过薄膜晶体管时，产生电场变化，电场的变化引起液晶分子偏转，从而来改变光线的偏极性，而实现预期的显示画面。有机发光二极管(OLED，OrganicLight-EmittingDiode)显示技术与传统的液晶显示器(LCD，LiquidCrystalDisplay)显示方式不同，无需背光灯，采用非常薄的有机材料涂层，当有电流通过时，有机材料就会发光；具有对比度高、色域广、柔性、轻薄、节能等优点。近年来OLED显示技术逐渐在智能手机和平板电脑等移动设备、智能手表等柔性可穿戴设备、大尺寸曲面电视、白光照明等领域普及，发展势头强劲。对于OLED显示器而言，现有OLED器件的制作有通过蒸镀设备通过真空蒸镀完成的，也有通过喷墨打印方式完成的。对于喷墨打印方式完成的，现有技术中，如图1和图2所示，图1为现有技术中通过喷墨打印方式形成的一种像素结构，图2为图1中的像素区域结构，该像素结构1包括像素单元2和像素区域4。像素区域4包括多个子像素区域5，在像素区域5内通过喷墨打印的方式形成像素单元2，像素单元2包括多个子像素3，比如：红色像素、绿色像素及蓝色像素，每个子像素形成在每个字像素区域内。在实际生产过程中，像素区域或子像素区域的形成具体是在发光区域上铺设一层基材，然后在基材上设置多个间隔的槽，以形成多个子像素区域。然后通过喷墨打印机的喷嘴向槽中，或者说是向各个子像素区域中滴入像素材料，由于子像素区域的槽空间较小，喷嘴不易对准子像素区域，容易将像素材料滴到其它位置。另外，由于子像素区域的槽空间较小，喷嘴在滴入像素材料时滴入几滴就容易溢出。导致像素单元的膜厚不均匀，容易出现mura(斑)。
技术实现思路
本专利技术的一个目的在于提供一种像素结构，其增大在子像素区域组内一体成型的子像素面积，便于形成子像素，提高子像素的膜厚均匀性，减少产生mura的可能性，提高像素材料的利用率。本专利技术的另一个目的在于提供一种像素结构的制程，其增大在子像素区域组内一体成型的子像素面积，便于形成子像素，提高子像素的膜厚均匀性，减少产生mura的可能性，提高像素材料的利用率。为解决上述问题，本专利技术的优选实施例提供了一种像素结构，所述像素结构包括：像素区域，包括多个依次相邻的子像素区域，相邻的至少两个子像素区域形成一子像素区域组，所述子像素区域组内的至少两个子像素区域一体设置；阳极导电层，至少为两个，分别设置在所述子像素区域内，所述子像素区域组内的各个阳极导电层相互分开；像素单元，包括多个子像素，所述像素单元设置在所述像素区域内，每个所述子像素分别设置在一个所述子像素区域内，设置在所述子像素区域组内的各个子像素一体成型，且颜色相同；所述像素单元包括：空穴注入层，往所述子像素区域组内注入空穴材料形成，所述空穴注入层位于所述阳极导电层上；发光层，往所述子像素区域组内注入发光材料形成，所述发光层位于所述空穴注入层上；电子注入层，往所述子像素区域组内注入电子材料形成，所述电子注入层位于所述发光层上；所述阴极导电层位于所述电子注入层上。在本专利技术优选实施例的像素结构中，所述子像素区域组包括两个子像素区域。相邻的两个子像素区域可以是同一行，也可以是同一列，像素区域由多行中多个子像素区域或多列中的多个子像素区域形成。本专利技术优选实施例的像素结构优选同一行相邻的两个子像素区域形成一个子像素区域组，从而同一行多个子像素区域就形成多个相邻排列的子像素区域组。可以采用喷墨印刷的方式将空穴材料、发光材料及电子材料注入到子像素区域组内，分别形成空穴注入层、发光层和电子注入层，进而形成两个一体成型的子像素。相比将两个子像素分别涂布于两个分开的子像素区域内，就增加了注入的面积，方便往子像素区域组中注入空穴材料、发光材料和电子材料，提高像素材料的利用率，提高子像素的膜厚均匀性，减少产生mura的可能性。进而，便于将像素结构应用于分辨率较高的OLED显示面板中。在本专利技术优选实施例的像素结构中，所述子像素区域组包括四个子像素区域，所述四个子像素区域中的任一个子像素区域与所述四个子像素区域中的其中两个相邻。也就是说在相邻的两行中分别有两个相邻的子像素区域，或者说是在相邻的两列中分别有两个相邻的子像素区域。采用四个子像素区域形成一个子像素区域组，像素区域包括多个子像素区域组，可以采用喷墨印刷的方式将空穴材料、发光材料及电子材料注入到子像素区域组内，分别形成空穴注入层、发光层和电子注入层，进而形成四个一体成型的子像素。相比将四个子像素分别涂布于两个分开的子像素区域内，就增加了注入的面积，方便往子像素区域组中注入空穴材料、发光材料和电子材料，提高像素材料的利用率，提高子像素的膜厚均匀性，减少产生mura的可能性。进而，便于将像素结构应用于分辨率较高的OLED显示面板中。在本专利技术优选实施例的像素结构中，所述像素区域子像素区域组的边沿通过具有疏水疏油性的材料制成。子像素区域组是在疏水疏油性的材料上形成的，具体为槽形结构，槽的周围侧壁为疏水疏油性的材料。在本专利技术优选实施例的像素结构中，所述子像素区域组为椭圆形结构。也可以为其它结构，比如：矩形、圆形等。在本专利技术优选实施例的像素结构中，所述子像素包括红色像素、绿色像素和蓝色像素。在本专利技术优选实施例的像素结构中，所述子像素包括白色像素、红色像素、绿色像素和蓝色像素。在本专利技术优选实施例的像素结构中，所述像素结构还包括至少两个绝缘层，所述绝缘层包裹在所述阳极导电层边沿，且所述绝缘层位于不同所述阳极导电层的相邻位置。防止阳极导电层和阴极导电层之间因凸出而接触形成短路。为解决上述问题，本专利技术的优选实施例还提供了一种像素结构的制程，所述制程包括以下步骤：在基板上形成像素区域，所述像素区域包括多个依次相邻的子像素区域，相邻的至少两个子像素区域在所述基板上形成一子像素区域组，所述子像素区域组内的至少两个子像素区域一体设置；在基板上形成至少两个阳极导电层，分别形成在所述子像素区域内，所述子像素区域组内的各个阳极导电层相互分开；在像素区域内形成像素单元，像素单元包括多个子像素，在每个子像素区域内形成一个子像素，在所述子像素区域组内形成至少两个一体成型、且颜色相同的子像素；在基板上形成阴极导电层，与所述阳极导电层电性连接，用于控本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种OLED显示面板的像素结构，其特征在于，包括：像素区域，包括多个依次相邻的子像素区域，相邻的至少两个子像素区域形成一子像素区域组，所述子像素区域组内的至少两个子像素区域一体设置；阳极导电层，至少为两个，分别设置在所述子像素区域内，所述子像素区域组内的各个阳极导电层相互分开；像素单元，包括多个子像素，所述像素单元设置在所述像素区域内，每个所述子像素分别设置在一个所述子像素区域内，设置在所述子像素区域组内的各个子像素一体成型，且颜色相同；阴极导电层，与所述阳极导电层电性连接，用于控制所述像素单元；所述像素单元包括：空穴注入层，往所述子像素区域组内注入空穴材料形成，所述空穴注入层位于所述阳极导电层上；发光层，往所述子像素区域组内注入发光材料形成，所述发光层位于所述空穴注入层上；电子注入层，往所述子像素区域组内注入电子材料形成，所述电子注入层位于所述发光层上；所述阴极导电层位于所述电子注入层上。

【技术特征摘要】
1.一种OLED显示面板的像素结构，其特征在于，包括：像素区域，包括多个依次相邻的子像素区域，相邻的至少两个子像素区域形成一子像素区域组，所述子像素区域组内的至少两个子像素区域一体设置；阳极导电层，至少为两个，分别设置在所述子像素区域内，所述子像素区域组内的各个阳极导电层相互分开；像素单元，包括多个子像素，所述像素单元设置在所述像素区域内，每个所述子像素分别设置在一个所述子像素区域内，设置在所述子像素区域组内的各个子像素一体成型，且颜色相同；阴极导电层，与所述阳极导电层电性连接，用于控制所述像素单元；所述像素单元包括：空穴注入层，往所述子像素区域组内注入空穴材料形成，所述空穴注入层位于所述阳极导电层上；发光层，往所述子像素区域组内注入发光材料形成，所述发光层位于所述空穴注入层上；电子注入层，往所述子像素区域组内注入电子材料形成，所述电子注入层位于所述发光层上；所述阴极导电层位于所述电子注入层上。2.根据权利要求1所述的一种像素结构，其特征在于，所述子像素区域组包括两个子像素区域。3.根据权利要求1所述的一种像素结构，其特征在于，所述子像素区域组包括四个子像素区域，所述四个子像素区域中的任一个子像素区域与所述四个子像素区域中的其中两个相邻。4.根据权利要求1至3任一项所述的一种像素结构，其特征在于，所述子像素区域组的边沿通过具有疏水疏油性的材料制成。5.根据权利要求1至3任一项所述的一种像素结构，其特征在于，所述子像素区域组为椭圆形结构。6.根据权利要求1至3任一项所述的一种像素结构，其特征在于，所述像素结构还包括至少两个绝缘层，所述绝缘...

【专利技术属性】
技术研发人员：井口真介，吴元均，蔡玉莹，
申请(专利权)人：深圳市华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：广东,44