掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法制造方法及图纸

本申请涉及掩膜装置、蒸镀设备以及蒸镀方法。该掩膜装置包括框架，所述框架包括外框架以及内框架，所述内框架设置于所述外框架的内部；其中，所述外框架与所述内框架为一体成型结构。这样设置后，内框架和外框架无需在各自加工完成后进行连接，而是两者在同一块材料上通过机械加工的方式加工而成，或者，两者采用浇铸或注塑的方式一次加工成型，因此，框架的结构稳定性得到提升，其中，内框架作为支撑掩膜，其在自身重力及掩膜板的重力共同作用下引起的下垂现象可以得到缓解，进而掩膜板上出现褶皱的情况会得到控制和改善。

Mask device, evaporation equipment and method of evaporation

The application relates to a mask device, a evaporation device, and a method of evaporation. The mask device comprises a frame, which comprises an outer frame and an inner frame, wherein the inner frame is arranged in the inner part of the outer frame, wherein the outer frame and the inner frame are integrated forming structures. With this setting, the inner frame and the outer frame without connection in their processing is completed, but the two in the same piece of material through the machining way, or both, by way of a casting or injection molding, therefore, the structural stability framework has been improved, which, within the framework of as a support mask, which can ease the gravity and the mask plate under the action of gravity caused by the sagging phenomenon, and then on the mask of fold will be controlled and improved.

【技术实现步骤摘要】
掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法
本申请涉及OLED制造
，尤其涉及一种掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法。
技术介绍
基于OLED(Organiclightemittingdiodes，有机发光二极管)的显示技术在近几年得到了极大的关注，且在产品化方面有了重大突破。由于该显示技术涉及到有机膜层的制备，因此，真空蒸镀工艺被引入生产制程。蒸镀制程中，蒸镀材料被加热到一定温度后蒸发并沉积至玻璃基板上。现有技术中，通常利用掩膜装置中的掩膜板来遮挡玻璃基板上特定位置的蒸镀材料以生成具有设计图案的薄膜结构。然而，现有技术中为了减小掩膜板因重力产生的重垂，除了采用支撑掩膜进行支撑外，还需要使用较大的拉力将掩膜绷紧；这导致掩膜板出现结构失稳并表现为褶皱，进而在后续的蒸镀过程中出现混色现象，严重降低了蒸镀段的良率。
技术实现思路
本申请提供了一种掩膜装置、蒸镀设备及蒸镀方法，能够降低分立掩膜出现褶皱的风险。本申请提供了一种掩膜装置，包括框架，所述框架包括：外框架；以及内框架，所述内框架设置于所述外框架的内部；其中，所述外框架与所述内框架为一体成型结构。本申请的第二方面提供了一种蒸镀设备，该蒸镀设备包含上述任本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜装置，其特征在于，包括框架，所述框架包括：外框架；以及内框架，所述内框架设置于所述外框架的内部；其中，所述外框架与所述内框架为一体成型结构。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜装置，其特征在于，包括框架，所述框架包括：外框架；以及内框架，所述内框架设置于所述外框架的内部；其中，所述外框架与所述内框架为一体成型结构。2.根据权利要求1所述的掩膜装置，其特征在于，还包括掩膜板；所述框架包括相对的第一侧面和第二侧面；所述掩膜板固定于所述框架的所述第一侧面。3.根据权利要求2所述的掩膜装置，其特征在于，所述内框架包括至少一个第一支撑杆，在平行于所述掩膜板所在的平面上具有第一方向和第二方向，所述第一方向垂直于所述第二方向，所述第一支撑杆沿所述第一方向延伸。4.根据权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，所述内框架还包括至少一个第二支撑杆，所述第二支撑杆的两端固定于所述外框架，所述第二支撑杆沿所述第二方向延伸。5.根据权利要求4所述的掩膜装置，其特征在于，所述第一支撑杆上与所述第二支撑杆交叉的部位开设有第一凹槽，所述第二支撑杆穿过所述第一凹槽。6.根据权利要求5所述的掩膜装置，其特征在于，所述第二支撑杆上与所述第一支撑杆交叉的部位开设有第二凹槽，所述第一支撑杆穿过所述第二凹槽。7.根据权利要求3所述的掩膜装置，其特征在于，所述外框架为矩形，在垂直于所述掩膜板所在平面的方向上，所述第一支撑杆的最大尺寸为δ1，其中25mm≥δ1≥1mm。8.根据权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘耀阳，徐健，
申请(专利权)人：上海天马微电子有限公司，
类型：发明
国别省市：上海,31