一种链条式分段传送的磁控溅射镀膜机制造技术

技术编号:16686903 阅读:102 留言:0更新日期:2017-12-02 03:33
本实用新型专利技术公开一种链条式分段传送的磁控溅射镀膜机,划分为三个真空室段:进样室段、镀膜段、出样室段;进样室段、镀膜段、出样室段之间设置真空隔离装置;进样室段、镀膜段、出样室段中均设有独立运行的样片输送装置;样片输送装置包括链条驱动电机、传动机构、链驱动轴、轴上链轮、链条,所述链条有两根,平行设置,同步运动,共同支撑样片托盘。本实用新型专利技术通过采用链条传动机构,大大减少了真空室壁上的穿孔数量,有效防止泄漏;采用真空隔离措施,有效保障了镀膜段的真空度。

A magnetron sputtering coating machine with chain section transmission

Magnetron sputtering machine of the utility model discloses a chain type transmission section, divided into three sections: the vacuum chamber inlet chamber, coating section, sample chamber; sample chamber, vacuum coating, isolation device is arranged between the sample chamber; the injection chamber section, section, coating a kind of independent operation section in the sample conveying device; sample conveying device comprises a chain drive motor, drive mechanism, chain drive shaft, shaft sprocket, chain, the chain are arranged in parallel, synchronous movement, to support the sample tray. By adopting the chain transmission mechanism, the utility model greatly reduces the number of holes on the wall of the vacuum chamber, effectively prevents leakage, and adopts vacuum isolation measures to effectively guarantee the vacuum degree of the coating section.

【技术实现步骤摘要】
一种链条式分段传送的磁控溅射镀膜机
本技术属于真空行业技术,特别是为真空等离子体行业半导体、微电子
提供一种链条式分段传送的磁控溅射镀膜机。
技术介绍
在磁控溅射镀膜机(sputter)、等离子体化学气相沉积(PECVD)、离子束刻蚀(IBE)、反应离子刻蚀及感应耦合等离子体刻蚀(RIE、DRIE、ICP)、等离子体清洗(Plasmacleaning)等设备中,如果设备用于批量生产目的,或样片量比较大,其等离子体激发装置多为矩形体形状,磁控溅射镀膜机为矩形磁控溅射靶,等离子体化学气相沉积为矩形PECVD等离子体源或矩形等离子体发生器,离子束刻蚀为矩形离子源,感应耦合等离子体刻蚀为矩形ICP源。这些离子源需要固定安装在真空腔体上,样片需要在与离子源面对面的位置相对移动,才能使离子束均匀扫描到样片表面的各个位置,达到均匀薄膜或均匀刻蚀目的。配合多样片传送机构,实现连续生产。样品传输有多种方法,如:辊轴传动、输送带传动……。但这些方法主驱动、从驱动机构要放在真空外面,这就涉及到“过真空”问题,众多机构“过真空”必然会带来真空漏气问题,对工艺极其不利。同时,辅助机构得在“过真空”转台下本文档来自技高网...
一种链条式分段传送的磁控溅射镀膜机

【技术保护点】
一种链条式分段传送的磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述镀膜机划分为三个真空室段,分别为进样室段、镀膜段、出样室段;所述进样室段、镀膜段、出样室段之间设置有真空隔离装置;所述进样室段、镀膜段、出样室段中均设置有独立运行的样片输送装置;所述样片输送装置,包括链条驱动电机、传动机构、链驱动轴、轴上链轮、链条,所述链条驱动电机与传动机构驱动连接,所述传动机构与链驱动轴驱动连接,所述链驱动轴上套设轴上链轮,所述轴上链轮啮合链条,所述链条有两根,平行设置,同步运动,共同支撑样片托盘。

【技术特征摘要】
1.一种链条式分段传送的磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述镀膜机划分为三个真空室段,分别为进样室段、镀膜段、出样室段;所述进样室段、镀膜段、出样室段之间设置有真空隔离装置;所述进样室段、镀膜段、出样室段中均设置有独立运行的样片输送装置;所述样片输送装置,包括链条驱动电机、传动机构、链驱动轴、轴上链轮、链条,所述链条驱动电机与传动机构驱动连接,所述传动机构与链驱动轴驱动连接,所述链驱动轴上套设轴上链轮,所述轴上链轮啮合链条,所述链条有两根,平行设置,同步运动,共同支撑样片托盘。2.根据权利要求1所述的链条式分段传送的磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述真空隔离装置,包括一个壳体,所述壳体两侧设置有用于与真空室连通的通孔,所述壳体内设置有可上下滑动的锁身,所述锁身包括一块顶板,所述顶板两侧对称设置有密封板,所述顶板设置有多个凸出所述顶板表面的滚珠,所述密封板对应所述滚珠设置有多个圆锥形凹槽;两个所述密封...

【专利技术属性】
技术研发人员:关江敏王长梗李衍辉
申请(专利权)人:北京创世威纳科技有限公司
类型:新型
国别省市:北京,11

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