【技术实现步骤摘要】
抛光组合物
本专利技术涉及一种可用于抛光诸如磁盘基质等的抛光组合物。
技术介绍
鉴于磁盘可用作硬盘，而硬盘可作为计算机的存储设备，对于高记录密度有强烈的要求。因此，要求用于磁盘的基质具有优越的表面性能，例如，有较少的腐蚀或刮痕。公开号为2002-327170的日本公开专利公开了一种改进的抛光组合物以满足基质的这种需要。这种抛光组合物含有磨料、氧化剂、有机磷酸(如二亚乙基三胺亚戊基磷酸)和水。当用这种抛光组合物抛光基质时，在基质的表面形成了一层由有机磷酸反应生成的保护膜，由此，抛光过程中在表面产生的腐蚀和刮痕得到了抑制。然而，由于有机磷酸的保护膜形成作用并不很强烈，对腐蚀和刮痕的抑制程度还不是很高。因此，还有改进传统抛光组合物的空间。
技术实现思路
因此，本专利技术的一个目的就是提供一种更适用于抛光磁盘基质的抛光组合物。为了达到前述的及其他目的，与本专利技术的目标一致，这里提供了一种抛光组合物。这...
【技术保护点】
一种抛光组合物，其特征在于：二氧化硅；第一化合物，该化合物含有至少一种选自由正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、甲基酸式磷酸盐、乙基酸式磷酸盐、乙基乙二醇酸式磷酸盐、肌醇六磷酸、１－羟乙基亚基－１，１－双磷酸、偏磷酸钠和酸性六偏 磷酸钠构成的组中的化合物；第二化合物，该化合物含有由正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、甲基酸式磷酸盐、乙基酸式磷酸盐、乙基乙二醇酸式磷酸盐、肌醇六磷酸、１－羟乙基亚基－１，１－双磷酸中的每一个通过与铵的中和反应生成的盐中的至少一种盐； 过氧化氢；和水。
【技术特征摘要】
JP 2003-3-31 2003-0972521.一种抛光组合物，其特征在于：二氧化硅；第一化合物，该化合物含有至少一种选自由距磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、甲基酸式磷酸盐、乙基酸式磷酸盐、乙基乙二醇酸式磷酸盐、肌醇六磷酸、1-羟乙基亚基-1，1-双磷酸、偏磷酸钠和酸性六偏磷酸钠构成的组中的化合物；第二化合物，该化合物含有由正磷酸、焦磷酸、多磷酸、偏磷酸、甲基酸式磷酸盐、乙基酸式磷酸盐、乙基乙二醇酸式磷酸盐、肌醇六磷酸、1-羟乙基亚基-1，1-双磷酸中的每一个通过与铵的中和反应生成的盐中的至少一种盐；过氧化氢；和水。2.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，一种含有柠檬酸，马来酸，马来酐，羟基丁二酸，羟基乙酸，琥珀酸，衣康酸，丙二酸，亚氨基二乙酸，葡萄糖酸，乳酸，苯乙醇酸，酒石酸，丁烯酸，烟酸，醋酸，己二酸，甘氨酸，丙氨酸，组胺酸，甲酸和草酸中至少一种化合物的抛光加速剂。3.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述二氧化硅是胶体二氧化硅。4.如权利要求1所述的抛光组合物，其特征在于，所述二氧化硅的平均颗粒尺寸决定于采用BET方法测量的二氧化硅比表面积在0.005至0.5μm范...
【专利技术属性】
技术研发人员：平野淳一，松波靖，横道典孝，大胁寿树，
申请(专利权)人：福吉米株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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