显示装置、阵列基板及阵列基板制作方法制造方法及图纸

本公开涉及一种阵列基板及其制作方法、显示装置，涉及液晶显示技术领域。该阵列基板包括衬底基板，位于衬底基板之上的薄膜晶体管层，位于薄膜晶体管层之上的钝化层，位于钝化层之上的色阻层以及位于色阻层之上、用于隔离色阻层的有机绝缘层。本公开一方面，将色阻层制作在阵列基板内，能够有效解决液晶显示装置对盒工艺中因对位偏差造成的漏光等问题，进而提升显示开口率；另一方面，采用有机绝缘层作为色阻层的隔离层可以提高隔离效果，还可以避免相关技术中常在CVD腔室形成隔离层进而造成色阻扩散污染CVD腔室，进而延长维护周期、降低维护成本。

Display device, array substrate, and method for manufacturing array substrate

The invention relates to an array substrate and a manufacturing method thereof and a display device, relating to the technical field of liquid crystal display. The array substrate comprises a substrate, a thin film transistor layer formed on the substrate in the substrate, thin film transistor passivation layer, in the color resistance layer over the passivation layer and the color layer, for resistance in the organic insulating layer color isolation resistance layer. The open hand, the color resistance layer is formed on the array substrate, liquid crystal display device can effectively solve the problem caused by misalignment of box in the process of light leakage and other issues, and thus enhance the display opening rate; on the other hand, the organic insulating layer as the isolation layer color resistance layer can improve the isolation effect, but also can avoid the related technology often form the isolation layer and cause color pollution diffusion barrier CVD chamber in CVD chamber, thereby prolonging the maintenance cycle, reduce maintenance costs.

【技术实现步骤摘要】
显示装置、阵列基板及阵列基板制作方法
本公开涉及液晶显示
，尤其涉及一种阵列基板、阵列基板制作方法以及包含该阵列基板的显示装置。
技术介绍
PSVA(PolmerStabilizedVertivallyAligned，聚合物稳定垂直排列方式)模式因其暗态表现好、对比度高、曲面漏光小等特点，已经成为液晶电视的主流技术。为克服VA(VertivallyAlignment，垂直排列模式)视角问题，人们采用4筹、8筹等设计，大大提升了大视角下的表现。目前PSVA具有较优异的暗态和曲面漏光表现，通过将像素电极设计成梳状等形状，可以实现8筹，可弥补侧视角的漏光和颜色失真问题。为达到PSVA技术的极致，像素电极排列必须具有极佳的工艺均匀性，否则对产品画质有很大影响。而控制工艺均匀性通常需要管控曝光均匀性和刻蚀均匀性，两者的工艺叠加导致结果产生偏差和波动，特别是刻蚀工序的均匀性较差。另外，相关技术中常将CF(Color-filter，彩膜层)设置于阵列基板内，即COA(Color-filteronArray，彩膜层制备在阵列基板)技术。目前在PSVA模式下，常采用氮化硅SiNx作为COA技术中本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板；位于所述衬底基板之上的薄膜晶体管层；位于所述薄膜晶体管层之上的钝化层；位于所述钝化层之上的色阻层；以及位于所述色阻层之上、用于隔离所述色阻层的有机绝缘层。

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板；位于所述衬底基板之上的薄膜晶体管层；位于所述薄膜晶体管层之上的钝化层；位于所述钝化层之上的色阻层；以及位于所述色阻层之上、用于隔离所述色阻层的有机绝缘层。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：位于所述有机绝缘层之上的像素电极层，所述像素电极层包括间隔设置的第一区域和第二区域，所述第一区域为经过导体化处理的导电区域，所述第二区域为未经过导体化处理的非导电区域。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述像素电极层包括氧化物半导体层。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述氧化物半导体层包括铟镓锌氧化物、锌锡氧化物以及锌铟氧化物中的一种或多种。5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述第一区域包括所述氧化物半导体层经过氢等离子处理形成的区域。6.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～5任意一项所述的阵列基板。7.一种阵列基板制造方法，包括在衬底基板上依次形成的薄膜晶体管层以及钝化层，其特征在于，还包括：在所述钝...

【专利技术属性】
技术研发人员：舒适，黄华，柳在健，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：北京,11