真空卡盘装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种真空卡盘装置，所述真空卡盘包括真空卡盘构成部和框架，所述真空卡盘构成部使得在腔室所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得用于实施作业或实验的对象物更加稳定地得到安装，所述框架使得所述真空卡盘构成部以保持作业高度的形式设置的同时，对用于使得真空卡盘构成部驱动的周边装置进行收纳，从而实现为单一的装置，真空卡盘是由吸附部和基底相结合而形成的，使得在腔室所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得对象物得到更加稳定的安装。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空卡盘装置
本专利技术涉及一种真空卡盘装置。详细地，本专利技术涉及一种真空卡盘装置，其包括真空卡盘构成部和框架，所述真空卡盘构成部使得在腔室(chamber)所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得用于实施作业或实验的对象物更加稳定地得到安装，所述框架用于使得所述真空卡盘构成部保持作业高度的状态下设置的同时，对用于驱动真空卡盘构成部的周边装置进行收纳，从而实现为单一的装置。此外，本专利技术涉及一种真空卡盘装置，在所述框架上图像采集装置(camera)设置于真空卡盘构成部的上部，所述图像采集装置用于观察对象物的作业或实验状况，所述图像采集装置能够使得拍摄位置及角度变化的同时对作业状况进行观察。
技术介绍
真空卡盘(Vacuumchuck)是利用真空对用于实施作业或实验的对象物进行固定的装置，这样的真空卡盘用于半导体集成电路的加工或薄板部件的加工或实验装备等。尤其，为了所述半导体集成电路的加工，近来供给一种真空卡盘，所述真空卡盘构成为，为了使得吸附面保持最稳定的形态，将多孔硅制作成板(plate)形态，所述吸附面用于安装晶元等对象物，并且将由所述多孔硅形成的板部件与用于生生成真空的基底(base)结合。韩国技术登记申请第2005-0030574号(利用多孔硅的双重结构的真空卡盘，以下称已申请专利技术)中提出了前述的真空卡盘。已申请专利技术的真空卡盘使得相对于晶元背面的接触面积最小化，从而不仅具有减少粒子(particle)生成的效果，而且从形成于副卡盘基底(subchuckbase)的多个孔以均匀的压力对晶元进行吸附，从而使得放置于副卡盘基底上的晶元的平坦度稳定地保持，并防止晶元局部变形的同时，提高在光刻(photo)工艺中的晶元聚焦(focusing)的精密性。为此，所述卡盘是一种利用真空的吸入力来对晶元进行吸附的半导体制造设备的真空卡盘，所述真空卡盘包括如下双重结构：主卡盘基底，其使得真空孔和真空解除孔相互具有一定间隔并连续设置，并通过外壁设置安放面；副卡盘基底，其为具有多个孔的多孔硅，安放于所述主卡盘基底的安放面。如上所述的已申请专利技术的真空卡盘因为真空孔形成为通路的形态，所以仅在真空孔的垂直上方产生相当的吸入压力，从而使得对象物得到吸附的吸附面的整体真空度不均匀。由此，所述整体吸附面的不均匀的真空度在对所吸附的对象物实施加工时所产生的微小冲击也会引起对象物的位置脱离，因此暴露出引起相当的作业不良的问题。尤其，如上所述，吸附面的真空度不可能时，在单一的真空卡盘上应只安装单一的对象物，其在半导体或各种材料的加工过程中进行适用，虽然没有较大的牵强之处，但是在实验室中需要对多个对象物同时进行实验的情况下，会暴露难以适用的问题。
技术实现思路
本专利技术是为了解决所述问题而进行专利技术的。对此，本专利技术的目的在于提供一种真空卡盘装置，其包括真空卡盘构成部和框架，所述真空卡盘构成部使得在腔室所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得用于实施作业或实验的对象物更加稳定地得到安装，所述框架用于使得所述真空卡盘构成部保持作业高度的状态下设置的同时，对用于驱动真空卡盘构成部的周边装置进行收纳，从而实现为单一的装置。此外，本专利技术的另一个目的在于提供一种真空卡盘装置，在所述框架上图像采集装置(camera)设置于真空卡盘构成部的上部，所述图像采集装置用于观察对象物的作业或实验状况，所述图像采集装置能够使得拍摄位置及角度变化的同时对作业状况进行观察。此外，本专利技术的又另一个目的在于提供一种真空卡盘装置，真空卡盘是由多孔的吸附部和基底相结合而形成的，所述基底包括用于生成吸入压力的腔室，使得在腔室所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得对象物更加稳定地得到安装。为了实现所述目的，本专利技术具有如下构成。本专利技术中，真空卡盘是由吸附部10和基底相结合而形成的，所述吸附部为了使得对象物得到吸附并支撑而由多孔材料形成，所述基底与所述吸附部相结合，从而通过吸附部产生吸入压力，真空卡盘装置包括真空卡盘构成部和框架，就所述真空卡盘构成部而言，所述基底形成有在内部用于形成真空的腔室，在所述腔室的内侧形成有能够支撑吸附部的多个支撑架，在所述基底的至少任意一侧形成有吸入孔，所述吸入孔用于能够在腔室内部生成吸入压力，所述框架为了使得所述真空卡盘构成部保持用于实施作业的高度，在上部安装有真空卡盘构成部，并且在真空卡盘构成部的下侧形成有收纳用于使得真空卡盘构成部驱动的设备的收纳空间。在此，所述支撑架在腔室的内部按多个列和行进行排列形成，在对象物吸附于吸附部上后，为了向各个方向支撑对象物的重量，内侧的部分形成为“+”形态。此外，所述吸入孔贯通基底的内、外壁面并由一个以上的数量形成，并且所述吸入孔的中心线上形成为能够配置于按多个列和行进行排列的支撑架与支撑架的间隔之间。另外，所述基底形成为四边形态，在相互面对的两侧的侧壁以相互面对的形式形成多个吸入孔，所述支撑架以使得多个支撑架之间的间隔形成于吸入孔的中心线上的形式排列形成。尤其，所述基底在开放部形成有结合槽，吸附部结合于所述开放部，吸附部的外周端以插入的形式结合于所述结合槽。为了实现所述另一个目的，本专利技术具有如下构成。本专利技术中，所述框架包括：图像采集装置，其配置于真空卡盘构成部的上部，从而能够对对象物的作业或实验状况进行观察；设置架，其为了使得图像采集装置能够配置于真空卡盘构成部的上部，向框架的上部延长形成。此外，所述框架还包括导轨总成(railassembly)，所述导轨总成设置于设置架，并与图像采集装置相结合，能够对图像采集装置的位置和角度进行变更，所述影像采集装置用于在安装有对象物的真空卡盘构成部的上部观察对象物。为了实现所述又另一个目的，本专利技术具有如下构成。本专利技术中，真空卡盘是由吸附部和基底相结合而形成的，所述吸附部为了使得对象物得到吸附并支撑而由多孔材料形成，所述基底与所述吸附部相结合，从而通过吸附部产生吸入压力，所述基底形成有在内部用于形成真空的腔室，在所述腔室的内侧形成有多个支撑架，所述多个支撑架能够支撑吸附部，在所述基底的至少任意一侧形成有吸入孔，所述吸入孔用于能够在腔室内部生成吸入压力。在此，所述支撑架在腔室的内部按多个列和行进行排列形成，在对象物吸附于吸附部上后，为了向各个方向支撑对象物的重量，内侧的部分形成为“+”形态。此外，所述吸入孔贯通基底的内、外壁面并由一个以上的数量形成，并且所述吸入孔的中心线上形成为能够配置于按多个列和行进行排列的支撑架与支撑架的间隔之间。另外，所述基底形成为四边形态，在相互面对的两侧的侧壁以相互面对的形式形成多个吸入孔，所述支撑架以使得多个支撑架之间的间隔形成于吸入孔的中心线上的形式排列形成。尤其，所述基底在开放部形成有结合槽，吸附部结合于所述开放部，吸附部的外周端以插入的形式结合于所述结合槽。如上所述，本专利技术中，在吸附面的整体面上形成均匀的真空度，从而使得对象物的加工中相对于外力的对应力提高，对象物固定支承于所述吸附面，由此效果在于，能够大幅减少保持对象物的稳定的安装状态所致的作业不良，根据所述均匀的真空度保持，将多个对象物配置于吸附面上，从而能够使其安装，因此广泛适用于多个对象物的加工、实验等，从而能够使得生产本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空卡盘装置，真空卡盘是由吸附部(10)和基底(20)相结合而形成的，所述吸附部(10)为了使得对象物得到吸附并支撑而由多孔材料形成，所述基底(20)与所述吸附部(10)相结合，从而通过吸附部(10)产生吸入压力，所述真空卡盘装置的特征在于，包括：真空卡盘构成部(40)，其基底(20)形成有在内部用于形成真空的腔室(21)，并且在所述腔室(21)的内侧形成多个支撑架(30)，所述多个支撑架(30)能够支撑吸附部(10)，所述基底(20)的至少任意一侧形成有吸入孔(23)，所述吸入孔(23)用于能够在腔室(21)内部生成吸入压力；框架(50)，其为了使得所述真空卡盘构成部(40)保持用于实施作业的高度，在上部安装有真空卡盘构成部(40)，并且在真空卡盘构成部(40)的下侧形成有收纳空间(S)，所述收纳空间(S)收纳用于使得真空卡盘构成部(40)驱动的设备。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.23 KR 10-2014-0186778;2015.03.11 KR 10-2011.一种真空卡盘装置，真空卡盘是由吸附部(10)和基底(20)相结合而形成的，所述吸附部(10)为了使得对象物得到吸附并支撑而由多孔材料形成，所述基底(20)与所述吸附部(10)相结合，从而通过吸附部(10)产生吸入压力，所述真空卡盘装置的特征在于，包括：真空卡盘构成部(40)，其基底(20)形成有在内部用于形成真空的腔室(21)，并且在所述腔室(21)的内侧形成多个支撑架(30)，所述多个支撑架(30)能够支撑吸附部(10)，所述基底(20)的至少任意一侧形成有吸入孔(23)，所述吸入孔(23)用于能够在腔室(21)内部生成吸入压力；框架(50)，其为了使得所述真空卡盘构成部(40)保持用于实施作业的高度，在上部安装有真空卡盘构成部(40)，并且在真空卡盘构成部(40)的下侧形成有收纳空间(S)，所述收纳空间(S)收纳用于使得真空卡盘构成部(40)驱动的设备。2.根据权利要求1所述的真空卡盘装置，其特征在于，所述框架(50)包括：图像采集装置(52)，其配置于真空卡盘构成部(40)的上部，从而能够对对象物的作业或实验状况进行观察；设置架(51)，其为了能够使得所述图像采集装置(52)配置于真空卡盘构成部(40)的上部，从而向框架(50)的上部延长形成。3.根据权利要求2所述的真空卡盘装置，其特征在于，所述框架(50)还包括导轨总成(60)，所述导轨总成(60)设置于设置架(51)，并与图像采集装置(52)相结合，从而能够对图像采集装置(52)的位置和角度进行变更，所述影像采集装置(52)用于在安装有对象物的真空卡盘构成部(40)的上部观察对象物。4.根据权利要求1所述的真空卡盘装置，其特征在于，所述支撑架(30)在腔室(21)的内部按多个列和行进行排列形成，在对象物吸附于吸附部(10)上后，为了向各个方向支撑对象物的重量，内侧的部分形成为“+”形态。5.根据权利要求1所述的真空卡盘装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴佑泰，
申请(专利权)人：朴佑泰，
类型：发明
国别省市：韩国,KR