真空卡盘装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种真空卡盘装置，所述真空卡盘包括真空卡盘构成部和框架，所述真空卡盘构成部使得在腔室所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得用于实施作业或实验的对象物更加稳定地得到安装，所述框架使得所述真空卡盘构成部以保持作业高度的形式设置的同时，对用于使得真空卡盘构成部驱动的周边装置进行收纳，从而实现为单一的装置，真空卡盘是由吸附部和基底相结合而形成的，使得在腔室所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得对象物得到更加稳定的安装。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】真空卡盘装置
本专利技术涉及一种真空卡盘装置。详细地，本专利技术涉及一种真空卡盘装置，其包括真空卡盘构成部和框架，所述真空卡盘构成部使得在腔室(chamber)所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得用于实施作业或实验的对象物更加稳定地得到安装，所述框架用于使得所述真空卡盘构成部保持作业高度的状态下设置的同时，对用于驱动真空卡盘构成部的周边装置进行收纳，从而实现为单一的装置。此外，本专利技术涉及一种真空卡盘装置，在所述框架上图像采集装置(camera)设置于真空卡盘构成部的上部，所述图像采集装置用于观察对象物的作业或实验状况，所述图像采集装置能够使得拍摄位置及角度变化的同时对作业状况进行观察。
技术介绍
真空卡盘(Vacuumchuck)是利用真空对用于实施作业或实验的对象物进行固定的装置，这样的真空卡盘用于半导体集成电路的加工或薄板部件的加工或实验装备等。尤其，为了所述半导体集成电路的加工，近来供给一种真空卡盘，所述真空卡盘构成为，为了使得吸附面保持最稳定的形态，将多孔硅制作成板(plate)形态，所述吸附面用于安装晶元等对象物，并且将由所述多孔硅形成的板部件本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种真空卡盘装置，真空卡盘是由吸附部(10)和基底(20)相结合而形成的，所述吸附部(10)为了使得对象物得到吸附并支撑而由多孔材料形成，所述基底(20)与所述吸附部(10)相结合，从而通过吸附部(10)产生吸入压力，所述真空卡盘装置的特征在于，包括：真空卡盘构成部(40)，其基底(20)形成有在内部用于形成真空的腔室(21)，并且在所述腔室(21)的内侧形成多个支撑架(30)，所述多个支撑架(30)能够支撑吸附部(10)，所述基底(20)的至少任意一侧形成有吸入孔(23)，所述吸入孔(23)用于能够在腔室(21)内部生成吸入压力；框架(50)，其为了使得所述真空卡盘构成部(40)保持用于实施...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.12.23 KR 10-2014-0186778;2015.03.11 KR 10-2011.一种真空卡盘装置，真空卡盘是由吸附部(10)和基底(20)相结合而形成的，所述吸附部(10)为了使得对象物得到吸附并支撑而由多孔材料形成，所述基底(20)与所述吸附部(10)相结合，从而通过吸附部(10)产生吸入压力，所述真空卡盘装置的特征在于，包括：真空卡盘构成部(40)，其基底(20)形成有在内部用于形成真空的腔室(21)，并且在所述腔室(21)的内侧形成多个支撑架(30)，所述多个支撑架(30)能够支撑吸附部(10)，所述基底(20)的至少任意一侧形成有吸入孔(23)，所述吸入孔(23)用于能够在腔室(21)内部生成吸入压力；框架(50)，其为了使得所述真空卡盘构成部(40)保持用于实施作业的高度，在上部安装有真空卡盘构成部(40)，并且在真空卡盘构成部(40)的下侧形成有收纳空间(S)，所述收纳空间(S)收纳用于使得真空卡盘构成部(40)驱动的设备。2.根据权利要求1所述的真空卡盘装置，其特征在于，所述框架(50)包括：图像采集装置(52)，其配置于真空卡盘构成部(40)的上部，从而能够对对象物的作业或实验状况进行观察；设置架(51)，其为了能够使得所述图像采集装置(52)配置于真空卡盘构成部(40)的上部，从而向框架(50)的上部延长形成。3.根据权利要求2所述的真空卡盘装置，其特征在于，所述框架(50)还包括导轨总成(60)，所述导轨总成(60)设置于设置架(51)，并与图像采集装置(52)相结合，从而能够对图像采集装置(52)的位置和角度进行变更，所述影像采集装置(52)用于在安装有对象物的真空卡盘构成部(40)的上部观察对象物。4.根据权利要求1所述的真空卡盘装置，其特征在于，所述支撑架(30)在腔室(21)的内部按多个列和行进行排列形成，在对象物吸附于吸附部(10)上后，为了向各个方向支撑对象物的重量，内侧的部分形成为“+”形态。5.根据权利要求1所述的真空卡盘装置，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：朴佑泰，
申请(专利权)人：朴佑泰，
类型：发明
国别省市：韩国,KR