本发明涉及一种真空卡盘装置，所述真空卡盘包括真空卡盘构成部和框架，所述真空卡盘构成部使得在腔室所生成的吸入压力能够在吸附部的整体面上均匀地产生，从而能够使得用于实施作业或实验的对象物更加稳定地得到安装，所述框架使得所述真空卡盘构成部以保...